光阻浓度的控制装置及控制方法制造方法及图纸

技术编号:16918198 阅读:49 留言:0更新日期:2017-12-31 14:13
本发明专利技术提供了一种光阻剥离液的控制装置及控制方法,控制装置包括:用于存储光阻剥离新液的第一存储槽、用于存储光阻剥离液的光阻剥离槽、用于存储光阻剥离废液的第二存储槽、检测器以及控制器;光阻剥离槽和第一存储槽通过第一开关连通;光阻剥离废液为从光阻剥离槽排出的光阻剥离液,第二存储槽和光阻剥离槽通过第二开关连通;检测器固定于所阻剥离槽内,用于检测光阻剥离槽中光阻剥离液的光阻浓度X;控制器,用于根据光阻浓度X控制第二开关打开和关闭,以使得光阻剥离槽中光阻剥离液的预设量Y流出至所述第二存储槽内;以及用于根据光阻浓度X控制第一开关打开和关闭,以使得第一存储槽中光阻剥离新液的预设量Y流入到光阻剥离槽内。

【技术实现步骤摘要】
光阻浓度的控制装置及控制方法
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种光阻浓度的控制装置及控制方法。
技术介绍
现有的显示器主要包括有液晶显示器和OLED显示器。其中,液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器,其包括液晶面板及背光模组(BacklightModule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向,以将背光模组的光线折射出来产生画面。其中,薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面品质以及较高的生产良率等性能,近年来得到了飞速的发展和广泛的应用。具体而言,TFT-LCD可视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶,上层的玻璃基板是彩色滤光片、下层的玻璃基板上设置有薄膜晶体管。当电流通过薄膜晶体管时,产生电场变化,电场的变化引起液晶分子偏转,从而来改变光线的偏极性,而实现预期的显示画面。在现有的TFT-LCD的TFT基板的制程工艺中,本文档来自技高网...
光阻浓度的控制装置及控制方法

【技术保护点】
一种光阻剥离液的控制装置,其特征在于,所述控制装置包括:第一存储槽,用于存储光阻剥离新液,其中所述光阻剥离新液为用于对光阻进行剥离的药液,且未对光阻进行剥离处理;光阻剥离槽,用于存储光阻剥离液,对光阻进行剥离,所述光阻剥离槽和所述第一存储槽通过第一开关连通;第二存储槽,用于存储光阻剥离废液,其中所述光阻剥离废液为从所述光阻剥离槽排出的光阻剥离液,所述第二存储槽和所述光阻剥离槽通过第二开关连通;检测器,固定于所述光阻剥离槽内,用于检测所述光阻剥离槽中光阻剥离液的光阻浓度X;控制器,用于根据所述光阻浓度X控制所述第二开关打开和关闭,以使得所述光阻剥离槽中光阻剥离液的预设量Y流出至所述第二存储槽内;...

【技术特征摘要】
1.一种光阻剥离液的控制装置,其特征在于,所述控制装置包括:第一存储槽,用于存储光阻剥离新液,其中所述光阻剥离新液为用于对光阻进行剥离的药液,且未对光阻进行剥离处理;光阻剥离槽,用于存储光阻剥离液,对光阻进行剥离,所述光阻剥离槽和所述第一存储槽通过第一开关连通;第二存储槽,用于存储光阻剥离废液,其中所述光阻剥离废液为从所述光阻剥离槽排出的光阻剥离液,所述第二存储槽和所述光阻剥离槽通过第二开关连通;检测器,固定于所述光阻剥离槽内,用于检测所述光阻剥离槽中光阻剥离液的光阻浓度X;控制器,用于根据所述光阻浓度X控制所述第二开关打开和关闭,以使得所述光阻剥离槽中光阻剥离液的预设量Y流出至所述第二存储槽内;以及用于根据所述光阻浓度X控制所述第一开关打开和关闭,以使得所述第一存储槽中光阻剥离新液的所述预设量Y流入到所述光阻剥离槽内。2.根据权利要求1所述的光阻剥离液的控制装置,其特征在于,当所述检测器检测到所述光阻剥离槽中光阻剥离液的光阻浓度X大于或等于第一预设值X1时,所述控制器控制所述第二开关打开,使得所述光阻剥离槽中的光阻剥离液按照所述预设量Y流出至所述第二存储槽;以及所述控制器控制所述第一开关打开,使得所述第一存储槽中的光阻剥离新液按照所述预设量Y流入到所述光阻剥离槽内;当所述检测器检测到所述光阻剥离槽中光阻剥离液的光阻浓度X小于第一预设值X1时,所述控制器控制所述第二开关关闭,以及控制所述第一开关关闭。3.根据权利要求2所述的光阻剥离液的控制装置,其特征在于,当所述光阻浓度X大于第二预设值X2,以及所述光阻浓度X小于第三预设值X3时,所述预设量Y设定为第一预设量Y1=K(X-X2)+T,其中所述K为比例系数,所述T为常数。4.根据权利要求3所述的光阻剥离液的控制装置,其特征在于,所述光阻浓度X小于或等于所述第二预设值X2时,所述预设量Y设定为第二预设量Y2,所述第二预设量Y2不变,且所述第二预设量Y2小于所述第一预设量Y1。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘超
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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