一种控制晶圆排队等待时间的方法和系统技术方案

本发明专利技术提供一种控制晶圆排队等待时间的方法和系统，所述方法包括：排队等待时间起点测量步骤，其中包括在第一制造工艺中测量至少一个晶圆执行完所述第一制造工艺的第一时间节点；排队等待时间终点测量步骤，其中包括在所述第一制造工艺之后执行的第二制造工艺中测量所述至少一个晶圆开始执行所述第二制造工艺的第二时间节点；以及根据所述第一时间节点和所述第二时间节点确定所述至少一个晶圆的排队等待时间。本发明专利技术的控制排队等待时间的方法以晶圆作为计算的基本单位，因此可以避免由于Δ因子1，Δ因子2所引入的排队等待时间计算误差，避免产品超过排队等待时间没有被系统抓住，也同时可以预防没有超过排队等待时间的产品被系统误抓的两种风险。

A method and system for controlling the waiting time of wafer queuing

The present invention provides a method and system for controlling wafer waiting time, the method includes: waiting time starting point measurement steps, including the first time node measuring at least one wafer after executing the first manufacturing process in the first in the manufacturing process; waiting time end point measurement procedures, including at least one wafer the start of the second time node executes the second manufacturing process to measure the execution after the first second manufacturing process in the manufacturing process; and determining the at least one wafer waiting time according to the time of the first node and the second node time. The method of the invention controls the queue waiting time with wafer as the basic unit of computing, and it can be avoided due to a factor of 1, the waiting time of the calculation error of the delta queuing factor 2, avoid products more than waiting time is not system caught, also can prevent the waiting time no more than two kinds of products are system risk mistakenly arrested.

【技术实现步骤摘要】
一种控制晶圆排队等待时间的方法和系统
本专利技术涉及半导体
，具体而言涉及一种控制晶圆排队等待时间的方法和装置。
技术介绍
随着半导体工艺发展到小于65nm工艺以下，排队等待时间(Queuetime，又称Q-time)控制变得越来越重要。排队等待时间是指晶圆产品从Q-time控制起始站点(Step)到结束站点之间的等待时间。越来越多的排队等待时间控制步骤被加到生产流程中来。以一条28nm先进工艺为例，大于85％的工艺步骤都被限制在Q-time控制步骤中。如果超出排队等待时间控制的最大时数，晶圆表面特性会发生变化,比如氧化，钝化，残留物聚集等，造成质量下降的风险。排队等待时间控制给40nm工艺后的制造厂商的质量管控及生产管控带了巨大挑战。传统的基于批级(Lotlevel)的排队等待时间控制方法已经无法适应这种挑战。因此，有必要提出一种新的控制晶圆排队等待时间的方法，以解决现有的技术问题。
技术实现思路
在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种控制晶圆排队等待时间的方法，其特征在于，包括：排队等待时间起点测量步骤，其中包括在第一制造工艺中测量至少一个晶圆执行完所述第一制造工艺的第一时间节点；排队等待时间终点测量步骤，其中包括在所述第一制造工艺之后执行的第二制造工艺中测量所述至少一个晶圆开始执行所述第二制造工艺的第二时间节点；以及根据所述第一时间节点和所述第二时间节点确定所述至少一个晶圆的排队等待时间。

【技术特征摘要】
1.一种控制晶圆排队等待时间的方法，其特征在于，包括：排队等待时间起点测量步骤，其中包括在第一制造工艺中测量至少一个晶圆执行完所述第一制造工艺的第一时间节点；排队等待时间终点测量步骤，其中包括在所述第一制造工艺之后执行的第二制造工艺中测量所述至少一个晶圆开始执行所述第二制造工艺的第二时间节点；以及根据所述第一时间节点和所述第二时间节点确定所述至少一个晶圆的排队等待时间。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个晶圆的排队等待时间为所述第二时间节点与所述第一时间节点的差。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述晶圆为同一批的多个晶圆，该批晶圆的排队等待时间为所述多个晶圆的排队等待时间中的最小值。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法用于控制单个晶圆至单个晶圆的运行。5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法用于控制行批量晶圆至批量晶圆的运行。6.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王辛，王伦国，何家筠，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31