带电粒子束治疗装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种带电粒子束治疗装置。第1剂量测定部(31)设置于照射喷嘴(12)内并能够测定带电粒子束的第1剂量，第2剂量测定部(33)设置于射束传输线路(13)并能够测定带电粒子束的第2剂量。并且，第2剂量测定部(33)的响应频率比第1剂量测定部(31)的响应频率高。第1剂量测定部(31)能够测定即将照射到被照射体(P)时的带电粒子束的剂量。另一方面，第2剂量测定部(33)能够以高于第1剂量测定部(31)的响应频率测定射束传输线路(13)中的带电粒子束的剂量。由此，即使在以高速进行扫描照射的情况下，也能够通过第2剂量测定部(33)测定带电粒子束的剂量。

Charged particle beam therapy device

The present invention provides an electrified particle beam treatment device. The first dose measurement unit (31) is set in the irradiation nozzle (12), and the first dose of the charged particle beam can be measured. The second dose measurement section (33) is set on the beam transmission line (13) and the second dose of the charged particle beam can be measured. Moreover, the response frequency of the second dosimetry Department (33) was higher than that of the first dosimetry Department (31). The first dosimetry Department (31) can determine the dose of the charged particle beam that is to be irradiated to the irradiated body (P). On the other hand, the second dose measurement unit (33) can measure the dose of charged particle beam in the beam transmission line (13) with the response frequency higher than the first dose measurement section (31). Thus, even in the case of high speed scanning, the dose of the charged particle beam can be measured by a second dose measurement unit (33).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带电粒子束治疗装置
本专利技术涉及一种带电粒子束治疗装置。
技术介绍
以往，作为通过向被照射体照射带电粒子束来进行治疗的带电粒子束治疗装置，已知有例如专利文献1中记载的带电粒子束治疗装置。专利文献1中记载的带电粒子束治疗装置对针对被照射体设定的一个层，一边按照规定的扫描图案扫描带电粒子束一边进行照射。带电粒子束治疗装置若结束对一个层的带电粒子束的照射，则变更带电粒子束的能量，对于下一个层，一边按照针对该下一个层设定的扫描图案扫描带电粒子束一边进行照射。以往技术文献专利文献专利文献1：国际公开WO2012/120677号说明书
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题因此，近年来要求一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射，由此向被照射体照射带电粒子束。如此，为了一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射，需要以高响应速度测定带电粒子束的剂量(强度)。在此，引用文献1中记载的带电粒子束治疗装置中，在对被照射体照射带电粒子束的照射部设置有剂量测定部。然而，这种剂量测定部存在难以以高响应速度测定剂量的问题。本专利技术是为了解决这种课题而完成的，其目的在于提供一种能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量的带电粒子束治疗装置。用于解决技术课题的手段本专利技术的一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置具备：加速器，将带电粒子加速并射出带电粒子束；照射部，对被照射体照射带电粒子束；射束传输线路，将从加速器射出的带电粒子束传输至照射部；第1剂量测定部，设置于照射部内并测定带电粒子束的第1剂量；及第2剂量测定部，设置于射束传输线路并测定带电粒子束的第2剂量，第2剂量测定部的响应频率比第1剂量测定部的响应频率高。根据本专利技术的一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置，第1剂量测定部设置于照射部内并能够测定带电粒子束的第1剂量。第2剂量测定部设置于射束传输线路并能够测定带电粒子束的第2剂量。并且，第2剂量测定部的响应速度(响应频率)比第1剂量测定部的响应速度(响应频率)高。第1剂量测定部能够测定即将照射到被照射体时的带电粒子束的剂量。另一方面，第2剂量测定部能够以高于第1剂量测定部的响应速度(响应频率)测定射束传输线路中的带电粒子束的剂量。由此，即使在一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射的情况下，也能够通过第2剂量测定部以高响应速度测定带电粒子束的剂量。通过以上特征，能够一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射，并且还能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量。并且，本专利技术的另一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置中可以如下：第1剂量测定部及第2剂量测定部具备：一对电极，在填充有气体的空间内相对置；及测定部，测定在一对电极间产生的电流，第1剂量测定部中的一对电极间的距离比第2剂量测定部中的一对电极间的距离小。由此，仅以缩小一对电极间的距离这一简单的结构便能够提高第2剂量测定部的响应频率。并且，本专利技术的另一个方面的带电粒子束治疗装置可以进一步具备：低通滤波器，截止利用第1剂量测定部测定的数据中与高于预先设定的设定频率的频率相关的数据；高通滤波器，截止利用第2剂量测定部测定的数据中与低于预先设定的设定频率的频率相关的数据；及离子源控制部，根据将从低通滤波器输出的信号和从高通滤波器输出的信号相加而得的合成信号控制向加速器供给离子的离子源的动作。由此，关于响应速度(响应频率)低的第1剂量测定部，能够使用低通滤波器来提高频率低的区域(响应速度低的区域)中的测定精度。关于响应速度(响应频率)高的第2剂量测定部，能够使用高通滤波器来提高频率高的区域(响应速度高的区域)中的测定精度。离子源控制部，根据将从低通滤波器输出的信号和从高通滤波器输出的信号相加而得到的合成信号控制离子源的动作。因此，能够在自带电粒子束的频率高的区域至低的区域为止的宽带域根据测定精度高的测定结果控制离子源。并且，本专利技术的另一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置中可以如下：进一步具备能量调整部，设置于射束传输线路并调整带电粒子束的能量，第2剂量测定部比能量调整部更靠上游侧设置。由此，第2剂量测定部能够测定被能量调整部调整之前的高能量的状态下的带电粒子束的剂量。因此，能够提高第2剂量测定部的测定精度。专利技术效果根据本专利技术能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量。附图说明图1为表示本专利技术所涉及的带电粒子束照射装置的一实施方式的概略结构图。图2为表示本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置的主要部分的概略结构图。图3为剂量测定部的概略结构图。图4为表示虚拟分切被照射体的情况的示意图。图5为表示变形例所涉及的带电粒子束照射装置的概略结构图。具体实施方式以下，参考附图对本专利技术的实施方式进行详细说明。另外，“上游”、“下游”分别表示所射出的带电粒子束的上游(加速器侧)、下游(患者侧)。如图1所示，带电粒子束治疗装置1为在通过放射线疗法进行癌症治疗等中使用的装置。带电粒子束治疗装置1具备：加速器11，将带电粒子加速并射出带电粒子束；照射喷嘴12(照射部)，对被照射体照射带电粒子束；射束传输线路13(传输线路)，将从加速器11射出的带电粒子束传输至照射喷嘴12；第2剂量测定部33，设置于射束传输线路13并测定带电粒子束的剂量；降能器(能量调整部)18，设置于射束传输线路13并降低带电粒子束的能量而调整带电粒子束的射程；多个电磁铁25，设置于射束传输线路13；电磁铁电源27，与多个电磁铁25分别对应而设置；及控制部30，控制带电粒子束治疗装置1整体。本实施方式中，作为加速器11采用回旋加速器，但并不限定于此，可以是产生带电粒子束的其他产生源，例如同步加速器(详细内容利用图5进行后述)、同步回旋加速器、线性加速器等。带电粒子束治疗装置1对于治疗台22上的患者P的肿瘤(被照射体)进行从加速器11射出的带电粒子束的照射。带电粒子束为将带电的粒子高速加速而成的粒子束，例如有质子束、重粒子(重离子)束等。本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1为通过所谓扫描法进行带电粒子束的照射的装置，将被照射体沿深度方向虚拟分割(分切)，就每个分切平面(层)，对层上的照射范围进行带电粒子束的照射。另外，作为利用扫描法进行的照射方式，例如有点式扫描照射及光栅式扫描照射。点式扫描照射为在一个层中的照射范围内，若结束对一个点的照射，则停止一次射束(带电粒子束)的照射，待结束对下一点的照射准备之后对下一点进行照射的方式。相对于此，光栅式扫描照射为对于一个层中的照射范围，中途不停止照射而连续进行射束照射的方式。如此，光栅式扫描照射为对一个层中的照射范围连续进行射束照射的方式。因此，光栅式扫描照射不同于点式扫描照射，照射范围不是由多个点构成。以下，以通过光栅式扫描照射进行照射为例进行说明，但并不限定于此，也可以是通过点式扫描照射进行照射的结构。照射喷嘴12安装于能够绕治疗台22旋转360度的旋转台架23的内侧，且能够通过旋转台架23移动到任意的旋转位置。照射喷嘴12包括聚焦电磁铁19、扫描电磁铁21、第1剂量测定部31及真空导管28。扫描电磁铁21设置于照射喷嘴12中。扫描电磁铁21具有：X方向扫描电磁铁，在与带电粒子束的照射方向交叉的面向X方向扫描带电粒子束；及Y方向扫描电磁铁，与在带电粒子束的照射方向交叉的面向与X方向交叉的Y方向扫描带电粒子束。并且，通过扫描电磁铁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带电粒子束治疗装置，其具备：加速器，将带电粒子加速并射出带电粒子束；照射部，对被照射体照射所述带电粒子束；射束传输线路，将从所述加速器射出的所述带电粒子束传输至所述照射部；第1剂量测定部，设置于所述照射部内并测定所述带电粒子束的第1剂量；及第2剂量测定部，设置于所述射束传输线路并测定所述带电粒子束的第2剂量，所述第2剂量测定部的响应频率比所述第1剂量测定部的响应频率高。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.30 JP 2015-0696661.一种带电粒子束治疗装置，其具备：加速器，将带电粒子加速并射出带电粒子束；照射部，对被照射体照射所述带电粒子束；射束传输线路，将从所述加速器射出的所述带电粒子束传输至所述照射部；第1剂量测定部，设置于所述照射部内并测定所述带电粒子束的第1剂量；及第2剂量测定部，设置于所述射束传输线路并测定所述带电粒子束的第2剂量，所述第2剂量测定部的响应频率比所述第1剂量测定部的响应频率高。2.根据权利要求1所述的带电粒子束治疗装置，其中，所述第1剂量测定部及所述第2剂量测定部具备：一对电极，在填充有气体的空间内相对置；及测定部，测定在所述一对电极间产生的电...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊田幸生，井上淳一，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP