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在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法技术

技术编号:16689786 阅读:82 留言:0更新日期:2017-12-02 05:15
本发明专利技术涉及一种在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法,包括以下步骤:将聚苯乙烯微球通过气液界面自组装法形成单分子膜;利用垂直提拉法,将单分子膜转移到基底上,然后刻蚀单分子膜,使单分子膜中的聚苯乙烯微球尺寸变小,形成基底暴露部分;继续刻蚀基底暴露部分,形成纳米凹凸结构。采用本发明专利技术的方法,可以对刚性平面或柔性曲面进行处理,制备工艺简单、可控性高、成本低,在制备具有微纳结构的光学器件、传感器、光伏器件、发光器件等领域有广阔的应用前景。

A method of forming a nano concave and convex structure on a plane or a surface

The invention relates to a method of forming a nano concave convex structure in plane or curved surface, which comprises the following steps: polystyrene microspheres by interfacial self-assembly monolayers formed by Czochralski method; vertical, the monolayers are transferred onto the substrate, and then etching the monolayer, make the monolayer of polystyrene microspheres size, forming substrate exposed part; continue to etching the substrate exposed part of the formation of nano concave convex structure. By adopting the method of the invention, the rigid plane or flexible surface can be processed. The preparation process is simple, controllable and low cost, and has wide application prospects in the field of preparing optical devices, sensors, photovoltaic devices, light-emitting devices and other fields with micro nano structure.

【技术实现步骤摘要】
在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法
本专利技术涉及光学器件制备
,尤其涉及一种在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法。
技术介绍
目前,许多微纳加工技术都能够实现在平面衬底表面制备图案化纳米结构,但是这些技术大都不适用于非平面的衬底表面。激光直写技术既可以在平面上又可以在复杂曲面上制作微纳结构,但该技术成本很高,效率低下,且只能制作微米级尺度的结构。纳米压印技术可以将微纳结构图案转印到平面衬底表面,在复杂曲面上理论上可以通过拼接实现,但对于拼接误差的精确控制具有很大的困难。在曲面和复杂形貌表面制备纳米结构是人造复眼、柔性光伏器件、柔性发光器件、半球形电子眼相机、图像传感器阵列、和光纤传感器等光学器件领域最关键的技术。例如,在透镜上制作显微透镜阵列可以制造复眼相机,使其具有160度的视野,并且能够同时聚焦物体的不同深度。在柔性光伏或发光器件中制作纳米凹凸阵列可以作为光调控结构,促进光的吸收或提取,从而大幅提高器件性能。因此亟需开发一种成本低廉、质量可靠的纳米结构制备方法,使其适用于平面或曲面表面的处理。申请号为201310551957.0的中国专利公开了一种利用软纳米压印模板结合本文档来自技高网...
在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法

【技术保护点】
一种在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将聚苯乙烯微球通过气液界面自组装法形成单分子膜;(2)利用垂直提拉法,将所述单分子膜转移到基底上,然后刻蚀所述单分子膜,使所述单分子膜中的聚苯乙烯微球尺寸变小,形成基底暴露部分;(3)继续刻蚀所述基底暴露部分,形成所述纳米凹凸结构。

【技术特征摘要】
1.一种在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将聚苯乙烯微球通过气液界面自组装法形成单分子膜;(2)利用垂直提拉法,将所述单分子膜转移到基底上,然后刻蚀所述单分子膜,使所述单分子膜中的聚苯乙烯微球尺寸变小,形成基底暴露部分;(3)继续刻蚀所述基底暴露部分,形成所述纳米凹凸结构。2.根据权利要求1所述的在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法,其特征在于:在步骤(3)之后,还包括将残留聚苯乙烯微球洗掉的步骤。3.根据权利要求1所述的在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法,其特征在于:在步骤(1)中,所述聚苯乙烯微球的粒径为200-3000nm。4.根据权利要求1所述的在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法,其特征在于,在步骤(1)中,所述气液界面自组装法包括以下步骤:将具有亲水性表面的载体置于水中,向水中滴入聚苯乙烯微球的醇溶液,再向其中加入表面活性剂,形成单分子膜;其中,所述载体为所述聚苯...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐建新许瑞鹏郑嘉伟李梦妮李艳青
申请(专利权)人:苏州大学
类型:发明
国别省市:江苏,32

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