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本发明涉及一种在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法，包括以下步骤：将聚苯乙烯微球通过气液界面自组装法形成单分子膜；利用垂直提拉法，将单分子膜转移到基底上，然后刻蚀单分子膜，使单分子膜中的聚苯乙烯微球尺寸变小，形成基底暴露部分；继续刻蚀基底暴...
该专利属于苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学授权不得商用。

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