含有氟原子的聚合物及其利用技术领域制造技术

本发明专利技术提供含有氟原子的聚合物，其为提供由下述式(1)表示的重复单元的芴衍生物、提供由下述式(2)表示的重复单元的芴衍生物和提供由下述式(3)表示的重复单元的芴衍生物的缩聚物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含有氟原子的聚合物及其利用

本专利技术涉及含有氟原子的聚合物及其利用。
技术介绍
在有机电致发光(EL)元件中使用电荷传输性薄膜。该电荷传输性薄膜的形成方法大致分为以蒸镀法为代表的干法和以旋涂法为代表的湿法。这些方法根据形成的薄膜的面积、薄膜化的物质在有机溶剂中的溶解性适宜地区分使用。一般地，在有机EL元件的阳极与发光层之间从阳极侧依次地配置称为空穴注入层的层和称为空穴传输层的层这2层。通过设置这样的2层，可进行高效率的电荷传输，能够得到具有高亮度特性的有机EL元件(例如参照非专利文献1)。但是，另一方面也具有如下的缺点：在有机EL元件的制造工艺中，通常需要用于形成这些各层的独立的工序。在近年来的电子器件领域中，为了以高收率、效率良好地制造元件，要求工艺的简略化、元件结构的简单化。特别地，通过使将元件中的多个膜多层叠化而成的功能性多层膜成为单一膜，从而不仅能够使制造工艺简化，而且能够直接地使元件结构简单化。因此，在各种的电子器件的领域中，需要能够制造可替代现有的功能性多层膜的功能性单一膜的材料。而且，在有机EL的领域中，对可将作为一般的结构的由空穴注入层和空穴传输层构成的功能本文档来自技高网...

【技术保护点】
含有氟原子的聚合物，其特征在于，是提供由下述式(1)表示的重复单元的芴衍生物、提供由下述式(2)表示的重复单元的芴衍生物、和提供由下述式(3)表示的重复单元的芴衍生物的缩聚物，[化1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.27 JP 2015-0382721.含有氟原子的聚合物，其特征在于，是提供由下述式(1)表示的重复单元的芴衍生物、提供由下述式(2)表示的重复单元的芴衍生物、和提供由下述式(3)表示的重复单元的芴衍生物的缩聚物，[化1]式中，R1和R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的烷基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、碳数6～20的芳基、碳数2～20的杂芳基、碳数1～20的烷氧基、碳数2～20的烯氧基、碳数2～20的炔氧基、碳数6～20的芳氧基、碳数2～20的杂芳氧基或包含至少1个醚结构的碳数2～20的烷基，其中，R1和R2的至少一者为上述烷基、烷氧基、烯氧基、炔氧基、芳氧基、杂芳氧基或包含至少1个醚结构的烷基；R3和R4各自独立地表示非共轭系的2价的有机基团；R5表示氢原子、或者至少1个氢原子可被氟原子取代的、碳数1～20的烷基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、碳数1～20的烷氧基、碳数2～20的烯氧基、碳数2～20的炔氧基、碳数6～20的芳基、碳数7～20的芳烷基、碳数8～20的烷基芳烷基、碳数2～20的杂芳基、碳数6～20的芳氧基或碳数2～20的杂芳氧基；R6表示至少1个氢原子被氟原子取代了的、碳数1～20的烷基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、碳数1～20的烷氧基、碳数2～20的烯氧基、碳数2～20的炔氧基、碳数6～20的芳基、碳数7～20的芳烷基、碳数8～20的烷基芳烷基、碳数2～20的杂芳基、碳数6～20的芳氧基或碳数2～20的杂芳氧基；R各自独立地表示卤素原子、硝基、氰基、可被Z1取代的、碳数1～20的烷基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、碳数1～20的烷氧基、碳数2～20的烯氧基或碳数2～20的炔氧基、或者可被Z2取代的、碳数6～20的芳基、碳数2～20的杂芳基、碳数6～20的芳氧基或碳数2～20的杂芳氧基；Z1表示卤素原子、硝基、氰基、或者可被Z3取代的、碳数6～20的芳基、碳数2～20的杂芳基、碳数1～20的烷氧基、碳数2～20的烯氧基、碳数2～20的炔氧基、碳数6～20的芳基或碳数2～20的杂芳基；Z2表示卤素原子、硝基、氰基、或者可被Z3取代的、碳数1～20的烷基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、碳数1～20的烷氧基、碳数2～20的烯氧基、碳数2～20的炔氧基、碳数6～20的芳基或碳数2～20的杂芳基；Z3表示卤素原子、硝基或氰基；p和q各自独立地表示0或1。2.权利要求1所述的聚合物，其中，重均分子量为1,000～200,000。3.权利要求1或2所述的聚合物，其中，R1和R2都为碳数1～20的烷基或者都为包含至少1个醚结构的碳数...

【专利技术属性】
技术研发人员：大谷直树，太田博史，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP