一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统。该限制结构包括设置于同一平面上的第一调节结构和第二调节结构，第一调节结构与第二调节结构的一侧边相对，且第一调节结构与第二调节结构相互间隔形成间隔区域，且第一调节结构和第二调节结构能相对移动，以调节间隔区域的范围。该限制结构通过设置第一调节结构和第二调节结构，且使第一调节结构和第二调节结构能够相对移动，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本实施例中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。

A limiting structure, limiting device and its adjustment method and evaporation system

The invention provides a limiting structure, a limiting device, a regulating method and a evaporation system. The limiting structure comprises a first adjusting structure and second arranged on the same plane adjusting structure, first adjusting structure and second adjusting structure side relative, and the first adjusting structure and second adjusting structure interval between the formation interval region, and the first adjusting structure and second adjusting structure can move relative to the region, the adjustment range interval. The limit structure by setting the first adjusting structure and second adjusting structure, and the first adjusting structure and second adjusting structure can move relatively, can adjust the range interval first adjusting structure and the second formed between the adjusting structure, thereby regulating the evaporation source evaporation range, compared to adjust the limit limit plate steam plating the scope of the existing limit structure of the embodiment can regulate the formation of plating film thickness is more uniform, so as to improve the performance of steam plating products, and enhance the competitiveness of products evaporation.

【技术实现步骤摘要】
一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统
本专利技术涉及蒸镀
，具体地，涉及一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统。
技术介绍
目前，制备形成有机电致发光器件OLED通常采用蒸镀的方法，如有机电致发光器件中的有机发光功能层和阴极通常采用蒸镀的方法形成。蒸镀所用的点状蒸镀源装置如图1所示，加热丝紧邻蒸镀源3，加热丝通过电流加热对蒸镀源3进行加热，从而使蒸镀源3内的蒸镀材料蒸发。蒸发出来的材料以一定的角度蒸发到上方玻璃基板6上并成膜。其中，限制板7设置于蒸镀源3与玻璃基板6之间，其作用是限制蒸镀源3中材料的蒸发范围。如图2所示，传统的限制板7由两块板相互间隔限制出蒸镀源3的蒸发范围。在限制板7限制的蒸发区域范围内，通常会设置多个蒸镀源3，图2中的限制板7对每个蒸镀源3所限制的蒸镀范围是一样的。由于单个蒸镀源3成膜膜厚从蒸镀源3正上方向四周依次减薄，在蒸镀过程中，多个蒸镀源3之间会有蒸镀重叠区域S，如图1所示，蒸镀重叠区域S的膜厚是两个蒸镀源3蒸镀膜厚的叠加，在玻璃基板6每个位置所经历的蒸镀时间相同的情况下，采用上述限制板7必然会导致整个玻璃基板6上蒸镀膜厚的不均匀。因此，如何使蒸镀装置蒸镀形成在玻璃基板上的膜厚更加均匀已成为目前亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统。该限制结构能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本专利技术中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。本专利技术提供一种限制结构，包括设置于同一平面上的第一调节结构和第二调节结构，所述第一调节结构与所述第二调节结构的一侧边相对，且所述第一调节结构与所述第二调节结构相互间隔形成间隔区域，所述第一调节结构和所述第二调节结构能相对移动，以调节所述间隔区域的范围。优选地，所述第一调节结构和所述第二调节结构的排布方向为第一方向；垂直于所述第一方向为第二方向；所述第一调节结构包括多个第一调节板，所述第二调节结构包括多个第二调节板，多个所述第一调节板沿所述第二方向依次拼接，多个所述第二调节板沿所述第二方向依次拼接；所述第一调节板与所述第二调节板沿所述第一方向相互对应；所述第一调节板和所述第二调节板均能沿所述第一方向移动，以调节相对应的所述第一调节板与所述第二调节板之间沿所述第一方向的间距。优选地，所述第一调节板与所述第二调节板沿所述第一方向一一对应。优选地，所述第一调节板的沿所述第二方向的尺寸为所述第一调节结构的沿所述第二方向的尺寸的1/10～1/20；所述第二调节板的沿所述第二方向的尺寸为所述第二调节结构的沿所述第二方向的尺寸的1/10～1/20。优选地，相邻的所述第一调节板在其拼接的边缘区域相互叠覆；相邻的所述第二调节板在其拼接的边缘区域相互叠覆。优选地，相邻的所述第一调节板的相互拼接的侧边边缘相贴合；相邻的所述第二调节板的相互拼接的侧边边缘相贴合。本专利技术还提供一种限制装置，包括上述限制结构。优选地，还包括第一控制部和第二控制部，所述第一控制部与所述限制结构的第一调节板连接，用于控制所述第一调节板移动；所述第二控制部与所述限制结构的第二调节板连接，用于控制所述第二调节板移动。优选地，还包括计算部，所述计算部连接所述第一控制部和所述第二控制部，用于计算相对应的所述第一调节板和所述第二调节板之间沿第一方向的间距；所述第一控制部和所述第二控制部用于根据所述间距分别控制所述第一调节板和所述第二调节板沿所述第一方向移动。本专利技术还提供一种蒸镀系统，包括上述限制装置。本专利技术还提供一种上述限制结构的调节方法，包括：第一调节结构与第二调节结构相对移动，调节所述第一调节结构与所述第二调节结构之间形成的间隔区域的范围。优选地，所述第一调节结构和所述第二调节结构的排布方向为第一方向；垂直于所述第一方向为第二方向；待镀基板沿所述第一方向移动，以实现所述待镀基板上的材料蒸镀；所述第一调节结构的第一调节板和所述第二调节结构的第二调节板沿所述第一方向移动，调节相对应的所述第一调节板和所述第二调节板之间沿所述第一方向的间距。本专利技术还提供一种上述限制装置的调节方法，包括上述限制结构的调节方法。优选地，还包括：计算相对应的第一调节板和第二调节板之间沿第一方向的间距；根据所述间距分别控制所述第一调节板和所述第二调节板沿所述第一方向移动。本专利技术的有益效果：本专利技术所提供的限制结构，通过设置第一调节结构和第二调节结构，且使第一调节结构和第二调节结构能够相对移动，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本实施例中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。本专利技术所提供的限制装置，通过采用上述限制结构，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，进而调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，提高了蒸镀产品的性能，并增强了蒸镀产品的竞争力。本专利技术所提供的蒸镀系统，通过采用上述限制装置，能使该蒸镀系统蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高了蒸镀产品的性能，并增强了蒸镀产品的竞争力。附图说明图1为现有技术中点状蒸镀装置的蒸镀示意图；图2为图1中限制板的结构俯视图；图3为本专利技术实施例1中限制结构的结构俯视图；图4为本专利技术实施例2中限制装置的结构俯视图；图5为本专利技术实施例2中计算部拟合出的Y(y)的函数曲线图；图6为对应图5中的Y(y)的函数曲线限制装置经调节后的结构俯视图。其中的附图标记说明：1.第一调节结构；11.第一调节板；2.第二调节结构；21.第二调节板；3.蒸镀源；M.第一方向；N.第二方向；4.第一控制部；5.第二控制部；6.玻璃基板；7.限制板；S.蒸镀重叠区域。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术所提供的一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种限制结构，如图3所示，包括设置于同一平面上的第一调节结构1和第二调节结构2，第一调节结构1与第二调节结构2的一侧边相对，且第一调节结构1与第二调节结构2相互间隔形成间隔区域，第一调节结构1和第二调节结构2能相对移动，以调节间隔区域的范围。其中，间隔区域用于限定蒸镀源3的蒸镀范围。通过设置第一调节结构1和第二调节结构2，且使第一调节结构1和第二调节结构2能够相对移动，能够调节第一调节结构1与第二调节结构2之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源3的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本实施例中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。本实施例中，第一调节结构1和第二调节结构2的排布方向为第一方向M；垂直于第一方向M为第二方向N；第一调节结构包括多个第一调节板11，第二调节结构包括多个第二调节板21，多个第一调节板11沿第二方向N依次拼接，多个第二调节板21沿第二方向N依次拼接；第一调本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种限制结构，其特征在于，包括设置于同一平面上的第一调节结构和第二调节结构，所述第一调节结构与所述第二调节结构的一侧边相对，且所述第一调节结构与所述第二调节结构相互间隔形成间隔区域，所述第一调节结构和所述第二调节结构能相对移动，以调节所述间隔区域的范围。

【技术特征摘要】
1.一种限制结构，其特征在于，包括设置于同一平面上的第一调节结构和第二调节结构，所述第一调节结构与所述第二调节结构的一侧边相对，且所述第一调节结构与所述第二调节结构相互间隔形成间隔区域，所述第一调节结构和所述第二调节结构能相对移动，以调节所述间隔区域的范围。2.根据权利要求1所述的限制结构，其特征在于，所述第一调节结构和所述第二调节结构的排布方向为第一方向；垂直于所述第一方向为第二方向；所述第一调节结构包括多个第一调节板，所述第二调节结构包括多个第二调节板，多个所述第一调节板沿所述第二方向依次拼接，多个所述第二调节板沿所述第二方向依次拼接；所述第一调节板与所述第二调节板沿所述第一方向相互对应；所述第一调节板和所述第二调节板均能沿所述第一方向移动，以调节相对应的所述第一调节板与所述第二调节板之间沿所述第一方向的间距。3.根据权利要求2所述的限制结构，其特征在于，所述第一调节板与所述第二调节板沿所述第一方向一一对应。4.根据权利要求2所述的限制结构，其特征在于，所述第一调节板的沿所述第二方向的尺寸为所述第一调节结构的沿所述第二方向的尺寸的1/10～1/20；所述第二调节板的沿所述第二方向的尺寸为所述第二调节结构的沿所述第二方向的尺寸的1/10～1/20。5.根据权利要求2所述的限制结构，其特征在于，相邻的所述第一调节板在其拼接的边缘区域相互叠覆；相邻的所述第二调节板在其拼接的边缘区域相互叠覆。6.根据权利要求2所述的限制结构，其特征在于，相邻的所述第一调节板的相互拼接的侧边边缘相贴合；相邻的所述第二调节板的相互拼接的侧边边缘相贴合。7.一种限制装置，其特征在于，包括权利要求1-6任意一项所述的限...

【专利技术属性】
技术研发人员：段廷原，邹清华，姚固，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11