The invention relates to a low-E glass, comprises a glass substrate (1), from the outside surface of the glass substrate by magnetron sputtering method sequentially depositing a first dielectric layer (2), a first protective layer (3), low radiation film (4), second (5), the second protective layer of a dielectric layer (6 second), which is characterized in that the dielectric layer is provided with a third protective layer (7), the third protective layer is amorphous carbon or carbon nitride DLC film CN film thickness of 10 25nm. The invention has the following advantages: the invention by adding a layer of amorphous carbon or carbon nitride film DLC CN membrane in the lateral Low-E glass, and the thickness is relatively thin, so the Low-E glass optical properties do not change much, can significantly improve the wear resistance and chemical resistance etc. the characteristics, so as to solve the brush cleaning and chemical erosion of Low-E glass.
【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃
本专利技术属于玻璃制造
,特别涉及一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃最外层膜通常为氮化硅材料,在实际应用中,氮化硅有很多不足之处。一方面工艺要求(包括成本要求)最外层氮化硅膜厚度大约在20-30nm,实际使用中发现如果低辐射镀膜玻璃长时间暴露在潮湿的空气中而未及时进行中空处理,就会有少量氧气分子及水分子穿过氮化硅膜进入膜系内部,导致整个膜系变质,产品报废。另一方面,在下游工艺处理的时候,低辐射镀膜玻璃对于清洗机的毛刷硬度有要求。当使用清洗普通玻璃的硬毛刷清洗低辐射镀膜玻璃时会对氮化硅膜造成伤害,单纯为提高低辐射镀膜玻璃抗磨、抗腐蚀性能而配备一条加工线成本较高。
技术实现思路
本专利技术的目的之一就是针对现有技术中存在的氧气分子及水分子易穿过氮化硅膜进入膜系内部,导致整个膜系变质的问题,提供了一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。本专利技术的目的之二就是为了解决现有技术中存在氮化硅膜耐磨性较差,在清洗时易损伤氮化硅膜的问题,提供了一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。为了达到上述目的,本专利技术采用如下技术方案:一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板,自所述玻璃基板表面向外依次沉积第一电介质层、第一保护层、低辐射功能膜层、第二保护层、第二电介质层和第三保护层。在其中一些实施例中,所述第一电介质层为SiN膜层,厚度为20-50nm。在其中一些实施例中,所述第一保护层为NiCr膜层,厚度为1-10nm。在其中一些实施例中,所述低辐射功能膜层为Ag膜层,厚度为5-20nm。在其中一些实施例中,所述第二保护层为NiCr膜层,厚度为1-10 ...
【技术保护点】
一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板(1),自玻璃基板表面向外采用磁控溅射法依次沉积第一电介质层(2)、第一保护层(3)、低辐射功能膜层(4)、第二保护层(5)、第二电介质层(6), 其特征在于:在第二电介质层上面制有第三保护层(7),第三保护层为非晶碳DLC膜或氮化碳CN膜层,厚度为10‑25nm。
【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板(1),自玻璃基板表面向外采用磁控溅射法依次沉积第一电介质层(2)、第一保护层(3)、低辐射功能膜层(4)、第二保护层(5)、第二电介质层(6),其特征在于:在第二电介质层上面制有第三保护层(7),第三保护层为非晶碳DLC膜或氮化碳CN膜层,厚度为10-25nm。2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一电介质层为SiN膜层,厚度为20-50n...
【专利技术属性】
技术研发人员:李刚,彭塞奥,沈洪雪,金克武,杨勇,姚婷婷,王天齐,
申请(专利权)人:蚌埠玻璃工业设计研究院,
类型:发明
国别省市:安徽,34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。