化学品供应单元和基板处理装置制造方法及图纸

提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，所述壳体在其中具有处理空间;旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；以及化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，且其中所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于接收化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。

Chemical supply unit and substrate processing device

A substrate processing device is provided. The substrate processing apparatus includes a housing, the housing has a space therein; rotating head, the rotary head for supporting and rotating the substrate processing space; and chemical supply unit, injection nozzle with the chemical supply unit, the spray nozzle for the chemical supply to the substrate support by the rotation of the head, wherein, the injection nozzle includes a nozzle body, wherein the nozzle body includes an interior space and micropores, the interior space for receiving the chemicals, the micropore and the internal space connection, for the downward emission of chemicals.

【技术实现步骤摘要】
化学品供应单元和基板处理装置
本文公开的专利技术涉及一种基板处理装置，更具体地，涉及一种用于为基板处理供应化学流体的化学品供应单元和用于处理基板的装置。
技术介绍
常规地，在半导体基板的制造方法中进行诸如薄膜沉积工艺、刻蚀工艺和清洗工艺等工艺。特别是，湿法刻蚀工艺和清洗工艺通过使用各种化学流体来处理半导体基板。化学流体处理装置用于将化学流体供应到诸如湿式刻蚀装置或清洗装置的基板处理装置，其控制化学流体的浓度和温度并供应化学流体。化学流体处理装置获得储存罐并控制储存罐内的化学流体的浓度，且将化学流体供应到基板处理装置。这种基板处理装置包括旋转头和喷嘴，该旋转头安置在半导体基板上，该喷嘴用于将化学流体排放到安置在旋转头上的基板上。该喷嘴连接到供应管线，且该供应管线从化学流体处理装置接收化学流体并将该化学流体提供给喷嘴。供应管线包括控制阀和回吸阀，该控制阀用于控制向喷嘴供应的化学流体的量，该回吸阀通过吸回化学流体来去除余留在喷嘴中的化学流体。当控制阀关闭并阻断向喷嘴供应的化学流体时，回吸阀吸回余留在喷嘴中的化学流体，并防止余留的化学流体泄漏到外部。近来，由于喷嘴的排放孔变得较大以增加化学液本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，所述装置包括：壳体，在所述壳体中具有处理空间；旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；和化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，和其中，所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于填充化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。

【技术特征摘要】
2016.04.29 KR 10-2016-00529511.一种基板处理装置，其特征在于，所述装置包括：壳体，在所述壳体中具有处理空间；旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；和化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，和其中，所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于填充化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微孔的横截面形状为圆形、椭圆形或多边形。3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，各所述微孔之间的距离是相同的。4.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，相邻两个的所述微孔的中心之间的距离小于所述微孔的直径的两倍。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，位于各所述微孔的边缘处的微孔设置成朝着所述喷嘴主体的中心倾斜，使得所述化学品聚集在所述中心。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷射喷嘴包括喷嘴尖端，所述喷嘴尖端形成为：在所述喷嘴主体的外侧朝着所述喷嘴主体的中心的方向凹陷。7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷射喷嘴包括喷嘴尖端，所述喷嘴尖端形成为：从所述喷嘴主体的中心到所述喷嘴主体的外侧向下倾斜。8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷射喷嘴包括喷嘴尖端，所述喷嘴尖端形成为：在所述喷嘴主体的外侧朝着所述喷嘴主体的中心的方向凸出。9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷射喷嘴还包括喷嘴尖端和引导件，所述引导件设置在所述喷嘴尖端的边缘处，以阻挡通过所述微孔喷射的化学品。10.一种化学品供应单元，其特征在于，所述化学品供应单元包括：化学品供应管线，所述化学品供应管线用于为化学品提供流动路径；和喷射喷嘴，所述喷射喷嘴设置在排放化学品的所述化学品供应管线上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，和其中，所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于填充化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。11.根据权利要求10所述的化学品供应单元，其特征在于，所述化学品供应单元还包括：回吸阀，所述回吸阀安装在所述化学品供应管线上；和流通开关阀，所述流通开关阀安装在所述化学品供应管线上。12.根据权利要求10所述的化学品供应单元，其特征在于，所述微孔的横截面形状为圆形、椭圆...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑富荣，柳镇泽，宋吉勋，朴善用，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR