The invention provides a display substrate, a manufacturing method and a display device, which belong to the display technology field. The display includes a substrate production method: the pixel defining layer transition pattern is formed, the pixel defining forming side surface layer transition graph of undercut formation; public layer substrate in the pixel defining layer is formed with the transition graph; removing the bottom cut, get the pixel defining layer pattern to form a cathode. By adopting the technical scheme of the invention, the flowing leakage current between adjacent sub pixels can be avoided, and the display quality of the display device can be improved.
【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
OLED即有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode),具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性,因此受到广泛的关注,并作为新一代的显示方式,已开始逐渐取代传统液晶显示器,被广泛应用在手机屏幕、电脑显示器、全彩电视等。OLED显示技术与传统的液晶显示技术不同,无需背光,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板,当有电流通过时,这些有机材料就会发光。OLED显示有诸多优点,其中包括可实现柔性显示,如以可绕曲的塑料基板等为载体,再配合薄膜封装制程,即可实现可绕曲的OLED面板。OLED显示装置包括分别用作OLED显示装置的子像素的多个有机发光元件,所述子像素包括发射红色光的红色子像素、发射绿色光的绿色子像素和发射蓝色光的蓝色子像素。OLED显示装置的每一个子像素包括阳极、公共层、有机发光层和阴极,公共层包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层。各个子像素的阳极是相互独立的,但是公共层形成于显示基板的整个 ...
【技术保护点】
一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:形成像素界定层过渡图形,所述像素界定层过渡图形的侧表面形成底切;在形成有所述像素界定层过渡图形的衬底基板上形成公共层;去除所述底切,得到像素界定层的图形;形成阴极。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:形成像素界定层过渡图形,所述像素界定层过渡图形的侧表面形成底切;在形成有所述像素界定层过渡图形的衬底基板上形成公共层;去除所述底切,得到像素界定层的图形;形成阴极。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述形成像素界定层过渡图形包括:形成第一感光材料层;对所述第一感光材料层进行曝光,使得所述第一感光材料层表面的一部分感光材料被充分曝光,形成充分曝光膜层;在曝光后的第一感光材料层上形成第二感光材料层;以制作像素界定层的图形的掩模板为遮挡对所述第一感光材料层和所述第二感光材料层进行曝光,使得所述第一感光材料层和所述第二感光材料层未被所述掩模板的遮光图形遮挡的部分充分曝光;对曝光后的第一感光材料层和第二感光材料层进行显影,形成所述像素界定层过渡图形,所述像素界定层过渡图形包括第一堤部、位于第一堤部上的第二堤部和位于第二堤部上的第三堤部,所述第二堤部的顶面在衬底基板上的正投影完全落入所述第三堤部的底面在衬底基板上的正投影内,且所述第二堤部的顶面在衬底基板上的正投影的边缘与所述第三堤部的底面在衬底基板上的正投影的边缘间隔一定距离。3.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述去除所述底切,得到像素界定层的图形包括:对所述像素界定层过渡图形进行加热,使得部分所述像素界定层过渡图形融化将所述第一堤部、所述第二堤部和所述第三堤部的侧表面连成一平缓的坡面,得到像素界定层的图形。4.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述第一感光材料层的厚度为D,所述充分曝光膜层的厚度d为1/10D~1/5D。5.根据权利要求4所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述第二感光材料层的厚度d1为1/5D~1/3D,且d1大于d。6.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述形成像素界定层过渡图形包括:形成第一感光材料层;对所述第一感光材料层进行曝光,使得全部所述第一感光材料层被充分曝光;在曝光后的第一感光材料层上形成第二感光材料层;以制作像素界定层的图形的掩模板为遮挡对所述第一感光材料层和所述第二感光材料层进行曝光,使得所述第一感光材料层和所述第二感光材料层未被所述掩模板的遮光图形遮挡的部分充分曝光;对曝光后的第一感光材料层和第二感光材料层进行显影,形成所述像素界定层过渡图形...
【专利技术属性】
技术研发人员:宫奎,段献学,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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