一种X射线荧光光谱分析方法技术

本发明专利技术涉及一种X射线荧光光谱分析方法，X射线荧光光谱分析方法中X射线源设置在检测仓底部，X射线源发射的X射线以垂直角度照射到样品上，提高了检测精度。同时，通过设置具有反射镜的准直部件，在需要通过摄像头观察样品位置时，通过直线电机使准直块处于观察位置，此时可通过摄像头观察样品，且拍摄的图像不产生变形失真，产品成像和位置的调整更为精确。

【技术实现步骤摘要】
一种X射线荧光光谱分析方法
本专利技术涉及一种X射线荧光光谱分析方法，属于元素分析设备

技术介绍
任何元素的原子都是由原子核和绕核运动的电子组成，原子核外电子按其能量的高低分层分布而形成不同的能级，因此，一个原子核可以具有多种能级状态。能量最低的能级状态称为基态能级，其余能级称为激发态能级，能量最低的激发态则称为第一激发态。正常情况下，原子处于基态，核外电子在各自能量最低的轨道上运动。如果将一定外界能量如光能提供给该基态原子，当外界光能量E恰好等于该基态原子中基态和某一较高能级之间的能级差△E时，该原子将吸收这一特征波长的光，外层电子由基态跃迁到相应的激发态，形成原子吸收光谱。电子跃迁到较高能级以后处于激发态，但激发态电子是不稳定的，经过一较短时间后，激发态电子将返回基态或其它较低能级，并将电子跃迁时所吸收的能量以光的形式释放出去，这个过程形成原子发射光谱。可见原子吸收光谱过程吸收辐射能量，而原子发射光谱过程则释放辐射能量。X-射线荧光光谱分析仪的分析原理是：光源发射出原级X-射线，该射线照射样品，待测元素的原子吸收相应的能量形成激发态，外层电子向低能级电子层跃迁，同时发射出次级X-射线，即X-射线荧光，以释放能量，通过探测器检测X-射线荧光的强度，进而求得待测元素的含量。现有技术中X射线荧光光谱分析仪，X射线源通常设置在底端，正对样品，此时，用于拍摄样品的摄像头就必须倾斜设置，倾斜设置的摄像头拍摄的样品图像必然会出现失真，如梯形失真等，导致无法正确识别出样品待检测部位的中心，也就无法给样品调整到正确位置提供正确的图像指示。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是：为解决X射线荧光光谱分析仪中摄像头拍摄样品图像失真的技术问题，提供一种位置定位精确的X射线荧光光谱分析方法。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：本专利技术提供一种X射线荧光光谱分析方法，使用XRF样品检测装置，XRF样品检测装置包括，样品台，中间设置有样品检测孔；检测仓，密封设置在样品台底部，一侧安装有观察窗；X射线源，设置在检测仓底部，X射线源的X射线发射管沿竖直方向布置；探测器，设置在检测仓另一侧，用于探测样品发出的二次X射线；摄像头，镜头对准观察窗；准直部件，包括，设置在检测仓外的电机；设置在检测仓底部的导轨；设置导轨上的准直块；准直块上设置有反射镜和至少一个竖直布置的准直孔，准直块能够在直线电机的驱动下沿导轨运动；包括以下步骤：S1：将样品放置在样品台上，样品对准检测孔；S2：通过电机调节准直块上的反射镜位置，使摄像头经反射镜能拍摄到样品台上样品；S3：根据摄像头拍摄到的图像调节样品的位置，使样品上的检测区域位于检测孔中心；S4：通过电机调节准直块位置，使准直块上的准直孔处于X射线源与检测孔之间，准直孔为多个时，还需要根据检查区域的大小选择准直孔的孔径；S5：启动X射线源和探测器，完成对样品的X射线荧光光谱分析。优选地，本专利技术的X射线荧光光谱分析方法，准直孔为成一列排布的若干个，准直孔孔径为0.1mm-5mm之间的任意值，在S4步骤中，还需要根据检查区域的大小选择准直孔的孔径。优选地，本专利技术的X射线荧光光谱分析方法，准直孔为7个，孔径分别为0.1mm、0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、5mm、5mm。优选地，本专利技术的X射线荧光光谱分析方法，样品被放置在真空仓内，调节完样品的位置后，还包括密封真空仓，对真空仓进行抽真空的步骤。优选地，本专利技术的X射线荧光光谱分析方法，真空仓进行抽真空后真空仓内部压力为5-50pa。优选地，本专利技术的X射线荧光光谱分析方法，检测孔处还设置有mylar膜。本专利技术的有益效果是：本专利技术的X射线荧光光谱分析方法中X射线源设置在检测仓底部，X射线源发射的X射线以垂直角度照射到样品上，提高了检测精度。同时，通过设置具有反射镜的准直部件，在需要通过摄像头观察样品位置时，通过直线电机使准直块处于观察位置，此时可通过摄像头观察样品，且拍摄的图像不产生变形失真，产品成像和位置的调整更为精确。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。图1是具有本专利技术实施例的X射线荧光光谱分析方法的立体视图；图2是具有本专利技术实施例的无样品台时X射线荧光光谱分析方法的立体视图；图3是具有本专利技术实施例的X射线荧光光谱分析方法的侧视图；图4是本专利技术实施例的XRF准直部件的立体视图；图中的附图标记为：40-检测仓；401-观察窗；41-样品台；411-检测孔；42-X射线源；43-摄像头；44-探测器；45-准直部件；451-准直块；452-直线电机；453-前挡块；454-后挡块；4511-反射镜；4512-准直孔。具体实施方式现在结合附图对本专利技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本专利技术的基本结构，因此其仅显示与本专利技术有关的构成。实施例1本实施例提供一种XRF样品检测装置，包括：样品台41，中间设置有样品检测孔411，检测孔411可设置在一个能够拆卸的样品放置板上，以方便放置板的更换，检测孔411处还设置有mylar膜；检测仓40，密封设置在样品台41底部，一侧安装有观察窗401；X射线源42，设置在检测仓40底部，X射线源42的X射线发射管沿竖直方向布置(也即能以竖直方向发射X射线)；探测器44，设置在检测仓40另一侧，用于探测样品发出的二次X射线；准直部件45，包括直线电机452，导轨453，设置导轨453上的准直块451，准直块451上设置有反射镜4511，若干竖直布置的准直孔4512，准直孔4512孔径从0.1mm-5mm之间的任意值，如可以有0.1mm、0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、5mm等等，当然也可以更大或者更小，准直孔4512与准直孔4512之间的距离为6-12mm，如6mm、8mm、9mm、12mm等等，准直孔4512的底部设置有滤光片，图中有两个5mm的准直孔，其中一个未设置滤光片，另一个设置有滤光片，准直块451能够在直线电机452的驱动下，到达如下位置：1、摄像头43经准直块451上的反射镜4511透过检测孔411拍到位于样品台41上样品的观察位置；2、任一准直孔4512位于X射线源42与检测孔411之间的检测位置，X射线源42发出的X射线能够通过准直孔4512照射到位于样品台41上样品。检测仓40底部、导轨453一侧还设置有前挡块453与后挡块454，用于限制准直块451的运动行程。摄像头43，镜头对准观察窗401，当摄像头43位于观察位置时，能够通过反射镜4511观察到位于样品台41上样品；优选为水平设置，此时，反射镜4511应与水平面成45°夹角设置。但摄像头43可以以一定角度设置，此时，反射镜4511也需根据入射角等于反射角的原理调整角度保证能拍到样品台41。作为变形直线电机452也可以是电机加上滚珠丝杆传动副。上述X射线荧光光谱分析方法中X射线源42设置在检测仓40底部，X射线源42发射的X射线以垂直角度照射到样品上，提高了检测精度。同时，通过设置具有反射镜4511的准直部件45，在需要通过摄像头43观察样品位置时(需要将检测位置中心对准检测孔411中心)，通过直线电机452使准直块451处于观察位置，此时可通过摄像头43观察样品，且拍摄的图像不产生变形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，使用XRF样品检测装置，XRF样品检测装置包括，样品台(41)，中间设置有样品检测孔(411)；检测仓(40)，密封设置在样品台(41)底部，一侧安装有观察窗(401)；X射线源(42)，设置在检测仓(40)底部，X射线源(42)的X射线发射管沿竖直方向布置；探测器(44)，设置在检测仓(40)另一侧，用于探测样品发出的二次X射线；摄像头(43)，镜头对准观察窗(401)；准直部件(45)，包括，设置在检测仓(40)外的电机；设置在检测仓(40)底部的导轨(453)；设置导轨(453)上的准直块(451)；准直块(451)上设置有反射镜(4511)和至少一个竖直布置的准直孔(4512)，准直块(451)能够在直线电机(452)的驱动下沿导轨(453)运动；包括以下步骤：S1：将样品放置在样品台(41)上，样品对准检测孔(411)；S2：通过电机调节准直块(451)上的反射镜(4511)位置，使摄像头(43)经反射镜(4511)能拍摄到样品台(41)上样品；S3：根据摄像头(43)拍摄到的图像调节样品的位置，使样品上的检测区域位于检测孔(411)中心；S4：通过电机调节准直块(451)位置，使准直块(451)上的准直孔(4512)处于X射线源(42)与检测孔(411)之间，准直孔(4512)为多个时，还需要根据检查区域的大小选择准直孔(4512)的孔径；S5：启动X射线源(42)和探测器(44)，完成对样品的X射线荧光光谱分析。...

【技术特征摘要】
1.一种X射线荧光光谱分析方法，其特征在于，使用XRF样品检测装置，XRF样品检测装置包括，样品台(41)，中间设置有样品检测孔(411)；检测仓(40)，密封设置在样品台(41)底部，一侧安装有观察窗(401)；X射线源(42)，设置在检测仓(40)底部，X射线源(42)的X射线发射管沿竖直方向布置；探测器(44)，设置在检测仓(40)另一侧，用于探测样品发出的二次X射线；摄像头(43)，镜头对准观察窗(401)；准直部件(45)，包括，设置在检测仓(40)外的电机；设置在检测仓(40)底部的导轨(453)；设置导轨(453)上的准直块(451)；准直块(451)上设置有反射镜(4511)和至少一个竖直布置的准直孔(4512)，准直块(451)能够在直线电机(452)的驱动下沿导轨(453)运动；包括以下步骤：S1：将样品放置在样品台(41)上，样品对准检测孔(411)；S2：通过电机调节准直块(451)上的反射镜(4511)位置，使摄像头(43)经反射镜(4511)能拍摄到样品台(41)上样品；S3：根据摄像头(43)拍摄到的图像调节样品的位置，使样品上的检测区域位于检测孔(411)中心；S4：通过电机...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜亚明，
申请(专利权)人：苏州浪声科学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32