一种x射线平场谱仪制造技术

本实用新型专利技术涉及一种x射线平场谱仪，包括：壳体、入射狭缝、收光场、铝板、光栅和记录单元。壳体用于屏蔽高能射线辐射，由铸铁制成；入射狭缝设置在壳体顶端；收光场设置在壳体内，入射狭缝后；铝板沿光线传输方向设置在收光场后，用于过滤低能光线；光栅沿光线传输方向设置在铝板后，对入射光线进行衍射；记录单元设置在壳体的尾端。本实用新型专利技术给出的x射线平场谱仪，精简不重要的调节机构，整体设计紧凑、简单易用，能够应用于不同的等离子体环境测量。

【技术实现步骤摘要】
201620139968

【技术保护点】
一种x射线平场谱仪，其特征在于，包括：壳体，用于屏蔽高能射线辐射，由铸铁制成；入射狭缝，设置在所述壳体顶端；收光场，设置在所述壳体内，所述入射狭缝后；铝板，沿光线传输方向设置在所述收光场后，用于过滤低能光线；光栅，沿光线传输方向设置在所述铝板后，用于入射x射线掠入射而后进行衍射；记录单元，设置在所述壳体的尾端，用于收集记录。

【技术特征摘要】
1.一种x射线平场谱仪，其特征在于，包括：
壳体，用于屏蔽高能射线辐射，由铸铁制成；
入射狭缝，设置在所述壳体顶端；
收光场，设置在所述壳体内，所述入射狭缝后；
铝板，沿光线传输方向设置在所述收光场后，用于过滤低能光线；
光栅，沿光线传输方向设置在所述铝板后，用于入射x射线掠入射而
后进行衍射；
记录单元，设置在所述壳体的尾端，用于收集记录。
2.根据权利要求1所述的x射线平场谱仪，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳秋盈，
申请(专利权)人：北京佳诺贝科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：北京;11