本实用新型专利技术公开了一种光照-X射线光电子能谱同步分析测试装置，该装置包括置于真空腔室内的X射线源、电子传输透镜、电子能量分析器和检测器，该装置还包括外载光源，该外载光源包括光源探头、光源发生器和光源控制器；光源发生器置于真空腔室的外部,其与光源探头和光源控制器相连；光源探头发出的光照射样品表面；光源控制器设置于真空腔室的外部。本实用新型专利技术在目前的X射线光电子能谱技术上增加一种外载光源，实现了外载光源及X射线同步照射材料表面进行物性分析，扩展了X射线光电子能谱表征分析技术应用范围，进而可以准确研究材料内部的物理性质。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种光照-X射线光电子能谱同步分析测试装置，属于X射线光电子能谱分析测试
技术介绍
X射线光电子能谱技术是一种重要的表面分析手段。该技术是基于光电效应，当一束X光照射到材料表面时，光子可以被材料中某一元素的原子轨道上的电子所吸收，使得该电子脱离原子核的束缚，以一定的动能从原子内部发射出来，变成自由的光电子。光电子被系统的能量分析器所探测，分析器对不同动能的电子数目进行记录和统计，就可以回溯得到电子在样品内部的结合能信息，这些信息反映的是材料内部的元素组成和元素化学态信息。X射线光电子能谱仪一般由超高真空系统、激发源（X射线光源）、电子能量分析器、检测器和数据系统，以及其它附件等构成。XPS主要分析材料表面以下1纳米到10纳米范围内的样品元素组成及化合态。XPS能够检测到所有原子序数大于等于3的元素（即包括锂及所有比锂重的元素）。此外，X射线光电子能谱技术具有不损伤样品、无污染、快捷、测量精度高，因而已成为材料表面科学研究最重要的手段之一，并被广泛应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，以及机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。但是，目前的X射线光电子能谱技术只使用单一激发光源，无法实现外载光源照射下的X射线光电子能谱分析测试，严重限制了光电材料内部的电荷分离与迁移性质方面研究。基于此，如何实现两种光源同步照射下的电子能谱分析技术成为本领域相关人员亟待解决的一个重要技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种光照-X射线光电子能谱同步分析测试装置，用以实现外载光源及X射线同步照射材料表面进行物性分析。一种光照-X射线光电子能谱同步分析测试装置，包括置于真空腔室内的X射线源、电子传输透镜、电子能量分析器和检测器，其特征在于该装置还包括外载光源，该外载光源包括光源探头、光源发生器和光源控制器；所述光源发生器置于真空腔室的外部,其与光源探头和光源控制器相连；所述光源探头发出的光照射样品表面；所述光源控制器设置于真空腔室的外部，能够通过光源发生器自动控制光源探头所提供的光的光照强度及波长。所述光源探头置于真空腔室的外部，且真空腔室壁上设有与其对应设置的光学窗口。所述光源探头置于真空腔室内。所述光源发生器为太阳能模拟器、氙灯、LED光源、激光器中的一种。其中，太阳能模拟器可提供光源的波长范围为180nm～3000nm，强度为1～1000mW/cm2；氙灯可提供光源的波长范围为190nm～1100nm，强度为1～2000mW/cm2；LED光源可提供光源的波长范围为180nm～3000nm，强度为1～1000mW/cm2；激光器可提供光源的波长范围为180nm～3000nm，强度为1～1015mW/cm2。本技术与现有技术相比具有以下优点：在目前的X射线光电子能谱技术只使用单一激发光源的前提下，增加一种外载光源，能够实现外载光源及X射线同步照射材料表面进行物性分析，扩展了X射线光电子能谱表征分析技术应用范围，能够在光照条件下对材料的表面进行X射线光电子能谱表征，进而可以准确研究材料内部的物理性质。附图说明图1为本技术的结构示意图。图中：1-X射线源，2-光源发生器，3-电子能量分析器，4-检测器，5-样品，6-真空腔室。图2为在紫外光照射及无光照条件下，Bi/TiO2纳米管阵列的X射线光电子能谱图。其中：曲线1为紫外光条件，2为无光照条件。图3为在可见光照射及无光照条件下，BiVO4多孔纳米光电极的X射线光电子能谱图。其中：曲线1为可见光条件，2为无光照条件。图4为在LED光照射及无光照条件下，Bi2MoO6/ZnO纳米棒阵列的X射线光电子能谱图。其中：曲线1为LED光条件，2为无光照条件。图5为在可见光照射及无光照条件下，SrTiO3/TiO2异质结纳米管阵列的X射线光电子能谱图。其中：曲线1为可见光条件，2为无光照条件。具体实施方式实施例1如图1所示，一种光照-X射线光电子能谱同步分析测试装置，包括置于真空腔室6内的X射线源1、电子传输透镜、电子能量分析器3和检测器4，该装置还包括外载光源，该外载光源包括光源探头、光源发生器2和光源控制器；光源发生器2置于真空腔室6的外部，其与光源探头和光源控制器相连；光源探头发出的光照射样品5表面；光源控制器设置于真空腔室6的外部，能够通过光源发生器2自动控制光源探头所提供的光的光照强度及波长。光源探头置于真空腔室6的外部，且真空腔室6壁上设有与其对应设置的光学窗口。光源探头置于真空腔室6内。光源发生器2为太阳能模拟器、氙灯、LED光源、激光器中的一种。其中，太阳能模拟器可提供光源的波长范围为180nm～3000nm，强度为1～1000mW/cm2；氙灯可提供光源的波长范围为190nm～1100nm，强度为1～2000mW/cm2；LED光源可提供光源的波长范围为180nm～3000nm，强度为1～1000mW/cm2；激光器可提供光源的波长范围为180nm～3000nm，强度为1～1015mW/cm2。本技术装置的具体使用方法为：将样品5放置于真空腔室6内部，开启光源发生器2，并同时开启光源控制器，利用光源控制器控制合适光源及其需要的波长和强度，然后将光源探头直接对准样品5照射，同时开启X射线光源进行样品能谱分析，电子能量分析器3将捕捉到的电子分析后通过检测器4转化成最终得到的数据谱图信息。实施例2在紫外光照射下，对Bi/TiO2纳米管阵列进行X射线光电子能谱分析，同时将该结果与无光照条件下进行对比。具体步骤为先在无光照条件下对Bi/TiO2纳米管阵列进行X射线光电子能谱分析，再在紫外光照射下对Bi/TiO2纳米管阵列进行X射线光电子能谱分析。其中测试条件为：紫外光波长为300nm，强度为100mW/cm2，光照时间为2min。根据ThermoFisher公司出版的电子能谱标准参考手册《XPSandAugerHandbook》，使用单色Alkα作为X射线源时，金属Bi4f7/2峰的峰位在157.0eV附近，Bi2O3中的Bi4f7/2峰的峰位在159.0eV附近，TiO2中的Ti2p3/2峰和O1s峰的峰位分别在458.5eV附近和529~530.0eV之间。污染C1s峰的峰位在284.8eV。Bi/TiO2纳米管阵列在紫外光照射及无光照情况下的X射线光电子能谱图如图2所示，在无光照本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光照‑X射线光电子能谱同步分析测试装置，包括置于真空腔室（6）内的X射线源（1）、电子传输透镜、电子能量分析器（3）和检测器（4），其特征在于该装置还包括外载光源，该外载光源包括光源探头、光源发生器（2）和光源控制器；所述光源发生器（2）置于真空腔室（6）的外部，其与光源探头和光源控制器相连；所述光源探头发出的光照射样品（5）表面；所述光源控制器设置于真空腔室（6）的外部。
【技术特征摘要】
1.一种光照-X射线光电子能谱同步分析测试装置，包括置于真空腔室（6）内的X射线源
（1）、电子传输透镜、电子能量分析器（3）和检测器（4），其特征在于该装置还包括外载光源，
该外载光源包括光源探头、光源发生器（2）和光源控制器；所述光源发生器（2）置于真空腔
室（6）的外部，其与光源探头和光源控制器相连；所述光源探头发出的光照射样品（5）表面；
所述光源控制器设置于真空腔室（6）的外部。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述光源探头置于真空腔室（6）的外部，且真
空腔室（6）壁上设有与其对应设置的光学窗口。
3.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述光源探头置于真空腔室（6）内。
4.如权利要求1所述的装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘佳梅，毕迎普，焦正波，黄晓卷，杨培菊，任伟，牛建中，
申请(专利权)人：中国科学院兰州化学物理研究所，
类型：新型
国别省市：甘肃;62
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