抛光砖专用化学抛光剂制造技术

本发明专利技术公开了一种抛光砖专用化学抛光剂，该抛光剂是由如下组份构成：不同纳米级液体硅砂８－４０％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上表面活性剂组合０．０１－１％，一种或一种以上的有机溶机混合物０．１－５％，去离子水６０－９０％，其中，非离子表面活性剂可采用聚氧乙烯烷醚、聚氧乙烯多元醇醚；阴离子表面活性剂可采用十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠；氟碳表面活性剂采用全氟辛酸铵、全氟癸酸铵；机溶机混合物采用如甲醇、乙醇、丁酮；采用上述组份的抛光剂具有效提高抛光砖光泽，且耐久、保光性好的优点。

【技术实现步骤摘要】
抛光砖专用化学抛光剂
本专利技术涉及一种抛光剂，具体是涉及抛光砖用的纳米化学抛光剂。
技术介绍
抛光砖的表面处理是关系到抛光砖抗污能力的一个重要因素，现有技术的抛光砖抛光剂一般是通过表面成膜或填充的方式来抛光，如专利申请号为CN200310112065.7、名称为一种瓷质砖表面抛光涂料的专利申请，它公开了一种瓷质砖表面抛光涂料，由下述体积配比的原料组成：市售6688聚酯树脂∶甲乙酮∶钴水∶蜡液＝100∶0.5～4∶0.4～3∶0～3，其中市售6688聚酯树脂为连接料，甲乙酮作为引发剂，钴水作为促进剂。上述抛光涂料是以表面成膜或靠填充来抛光为主，但其表面光泽的耐久、保光性尚有待进一步提高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抛光砖不同表面处理机理、可有效提高抛光砖光泽，且耐久、保光性的抛光砖专用化学抛光剂。本专利技术是通过如下技术方案来实现上述目的：该抛光剂是由如下组份构成：不同纳米级液体硅砂8-40％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上0.01-1％，一种或一种以上的有机溶机混合物0.1-5％，去离子水60-90％其中，非离子表面活性剂可采用聚氧乙烯烷醚、聚氧乙烯多元醇醚；阴离子表面活性剂可采用十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠；氟碳表面活性剂采用全氟辛酸铵、全氟癸酸铵；-->机溶机混合物采用如甲醇、乙醇、丁酮；采用上述配方组份的纳米化学抛光剂优点在于，它与一般抛光剂不同，不是以表面成膜或靠填充来抛光为主，而是通过专用抛光设施，把瓷砖表面肉眼看不见的突起部分磨平.因此使用本品抛光的瓷砖，可大大提高其光泽，且耐久性、保光性都得到显著改善。具体实施方式实施例1本专利技术的抛光砖专用化学抛光剂其组份如下(重量份)：纳米级液体硅砂20％，表面活性剂为聚氧乙烯烷醚、全氟辛酸铵的组合0.5％，丁酮0.5％，去离子水79％，将上述组份混合搅拌即可；实施例2按重量份，纳米级液体硅砂25％，表面活性剂为聚氧乙烯多元醇醚、十二烷基硫酸钠、全氟癸酸铵的组合0.8％，乙醇0.2％，去离子水74％，将上述组份混合搅拌即可。本文档来自技高网...

【技术保护点】
抛光砖专用化学抛光剂，其特征在于，抛光剂是由如下组份构成（重量份）：纳米级液体硅砂８－４０％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上０．０１－１％，一种或一种以上的有机溶机混合物０．１－５％，去离子水６０－９０％。

【技术特征摘要】
1、抛光砖专用化学抛光剂，其特征在于，抛光剂是由如下组份构成(重量份)：纳米级液体硅砂8-40％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上0.01-1％，一种或一种以上的有机溶机混合物0.1-5％，去离子水60-90...

【专利技术属性】
技术研发人员：周文鹏，
申请(专利权)人：周文鹏，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]