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本发明公开了一种抛光砖专用化学抛光剂，该抛光剂是由如下组份构成：不同纳米级液体硅砂８－４０％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上表面活性剂组合０．０１－１％，一种或一种以上的有机溶机混合物０．１－５％，去离子...
该专利属于周文鹏所有，仅供学习研究参考，未经过周文鹏授权不得商用。

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