【技术实现步骤摘要】
透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液及透明二氧化硅覆膜的制造方法
本专利技术涉及用于在玻璃、陶瓷等基板或者对象物上形成透明二氧化硅覆膜的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液以及透明二氧化硅覆膜的制造方法，对半导体元件和液晶显示元件等各种基材上形成平坦膜或保护膜是有用的。
技术介绍
目前，作为二氧化硅类覆膜形成用涂覆液，已知的有将水解烷氧基硅烷并进行缩聚得到的硅氧烷聚合物溶解在有机溶剂中的产物。但是，采用上述方法，不容易控制水解和生成的羟基(硅烷醇基)的缩聚反应。而且，将涂覆液的粘度保持一定也是不容易的。因此，目前存在不能稳定具有一定膜厚的二氧化硅类覆膜来进行制造的问题。而且，还存在原料烷氧基硅烷价格较高，必须使用有机溶剂等问题。本专利技术鉴于上述事实，以提供不使用有机溶剂就可以很容易地通过一次涂覆形成比较厚的二氧化硅覆膜、即使形成溶液也稳定的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液和透明二氧化硅覆膜的制造方法为课题。解决上述课题的本专利技术的第1实施方案是透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，该涂覆溶液是含有选自具有硅烷醇基的氧化硅、硅酸和硅酸水合物的至少一种的硅化合物、有机强碱和水溶性聚...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，该涂覆溶液是含有选自具有硅烷醇基的氧化硅、硅酸和硅酸水合物的至少一种硅化合物、有机强碱和水溶性聚合物的水溶液性涂覆溶液，其特征在于，在上述有机强碱存在下，将上述硅化合物溶解在水溶性涂覆溶液中。2.权利要求1记载的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，其特征在于，上述有机强碱选自氢氧化四甲铵(TMAH)和氢氧化四乙铵(TEAH)中的至少一种。3.权利要求1记载的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，其特征在于，上述有机强碱选自三乙胺、二丁胺和三甲胺中的至少一种，并进一步含有使所述有机强碱和水相溶的有机溶剂。4.权利要求1～3的任意一项记载的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，其特征在于，上述硅化合物是水解四氯化硅得到的产物。5.权利要求1～3的任意一项记载的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，其特征在于，上述硅化合物是通过将微粒状氧化硅放置在常温大气中得到的。6.权利要求1～3的任意一项记载的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，其特征在于，上述硅化合物是通过将硅酸或者硅酸n水合物(SiO2·nH2O)分散在水中并加热制备的。7.权利要求1～6的任意一项记载的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液，其特征在于，上述水溶性聚合物选自聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基乙酰胺(PNVA)、聚乙烯基甲酰胺(PNVF)、聚二甲基丙烯酰胺(PDMAA)、聚丙烯酰胺(PAAM)、聚丙烯酰基吗啉(PAM)、羟乙基纤维素(HEC)、羟丙基纤维素(HPC)和羧甲基纤维素(CMC)中的至少一种。8.一种制备透明二氧化硅覆膜的方法，其特征在于包括下述工序：在被处理体上涂覆下述的透明二氧化硅覆膜形成用涂覆溶液形成涂膜的工序，该涂覆溶液是含有选自具有硅烷醇基的氧化硅、硅酸和硅酸水合物的至少一种的硅化合物、有机强碱和水溶性聚合物...
【专利技术属性】
技术研发人员：新梅数马，内田隆，
申请(专利权)人：东洋合成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。