The utility model relates to a uniform wafer tray structure with patterned cooling plate temperature, which is a cooling plate with patterned lower electrode plate, and by design by the patterned cooling plate pattern, the contact area of the difference lower electrode plate central area and peripheral area and the cooling plate, the formation of different degrees the cooling. By the application of the utility model can make the wafer tray structure temperature uniformity, and then applied to the semiconductor wafer plasma (plasma) manufacturing process, the wafer tray structure temperature was equal or nearly equal, greatly enhance the reliability and the qualified rate of plasma semiconductor wafer manufacturing process.
【技术实现步骤摘要】
具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构
本技术是一种晶圆托盘结构,特别是一种具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构。
技术介绍
近年来由于轻薄短小的可携式电子产品的应用与日俱增,半导体晶圆的需求也跟着大幅的增加,半导体制造过程的发展及其可靠度的改善也就越来越受到重视。然而,现有习知的半导体制造过程中,托盘结构有时因为盖体与托盘结合不够紧密,以致制造过程中使用的蚀刻药剂或其他气体泄漏,而浪费了部份的资源或产生污染的疑虑。但最大、影响合格率最深远的问题,仍是在于整个托盘结构内部的温度均匀性。现有习知的晶圆托盘与盖体皆仅只在以盖体盖住圆盘形拖盘,由于只能从特定位置冷却,无法遍及整个托盘,导致托盘结构内部的温度无法均匀分布,大大影响晶圆生产的合格率。因此,一个创新的具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,便有应运而生的急迫需求,除了设计简单、容易制造,更重要的是必须能避免托盘结构内部的温度无法均匀分布的重大缺点,进而可以促进晶圆制造过程的整体产出,对于半导体产业与使用电子元件的广大制造产业,提供节省成本、改善合格率、以及增加产能的贡献。
技术实现思路
本技术为一种具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其是在下电极板结合有图案化冷却盘,并借由图案化冷却盘的图案设计,使下电极板的中央区域及外围区域与图案化冷却盘的接触面积产生差异,形成不同程度的冷却。借由本技术的实施,可以达到使晶圆托盘结构温度均匀化的目的,并进而应用于半导体晶圆等离子体制造过程,使整个晶圆托盘结构的温度皆相等,或是近乎相等,大幅提升半导体晶圆等离子体制造过程的可靠度及合格率。本技术是提供一种具有 ...
【技术保护点】
一种具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于其包括:托盘,其为盘体,又其内表面并固设有下电极板;以及图案化冷却盘,结合设置于该下电极板,其中该图案化冷却盘的形状是使该图案化冷却盘的温度分布均匀。
【技术特征摘要】
1.一种具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于其包括:托盘,其为盘体,又其内表面并固设有下电极板;以及图案化冷却盘,结合设置于该下电极板,其中该图案化冷却盘的形状是使该图案化冷却盘的温度分布均匀。2.根据权利要求1所述的具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于:其中该图案化冷却盘的中央区域及外围区域与该下电极板的接触面积是不相同,并形成不同程度的冷却。3.根据权利要求2所述的具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于:其中该图案化冷却盘的该外围区域的高度是低于该中央区域的高度。4.根据权利要求1或2所述的具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于:其中该图案化冷却盘是以至少一个定位孔结合设置于相对应的该电极板的至少一个定位柱。5.根据权利要求1或2所述的具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于:该图案化冷却盘是以至少一个定位孔结合设置于相对应的该电极板的至少一个定位柱,其中该定位孔及该定位柱的数量是皆为3。6.根据权利要求1或2所述的具有图案化冷却盘的温度均匀化晶圆托盘结构,其特征在于:其中该图案化冷却盘是可以正...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈俊龙,陈宜杰,
申请(专利权)人:聚昌科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:中国台湾,71
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