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一种类金刚石镀膜制备设备制造技术

技术编号:16443898 阅读:34 留言:0更新日期:2017-10-25 10:10
本实用新型专利技术提供一种类金刚石镀膜制备设备,包括:真空腔体、伴热装置、扩散器、流量控制器;其中,所述流量控制器一端设有导入管,另一端设有第一导出管,所述第一导出管与所述扩散器导通;所述扩散器通过第二导出管与所述真空腔体导通,所述伴热装置分别设置于所述第一导出管和所述第二导出管上。通过增加扩散器以及伴热装置,实现类金刚石镀膜制制备过程中液态前驱物的掺杂,从而提高了热稳定性,降低了薄膜的内应力,进一步地,通过设置清洗装置,将基片的清洗环节与类金刚石镀膜制备整合在一起,进一步提高了制备的效率。

A kind of diamond coating equipment

The utility model provides a kind of diamond coating preparation equipment, including a vacuum chamber, heating device, diffuser, flow controller; wherein, one end of the flow controller is provided with a lead-in tube, the other end is provided with a first outlet pipe, wherein the first outlet pipe and the diffuser is conducted; the diffuser and the vacuum cavity conduction through second delivery tube, the heating device are respectively arranged on the first delivery tube and the second tube is derived. By increasing the diffuser and heating device, realize the diamond-like coating preparation of liquid precursors in the process of doping, so as to improve the thermal stability, reduce the internal stress of the film, and further, by setting the cleaning device, the cleaning process and diamond substrate plating films together, to further improve the the efficiency of preparation.

【技术实现步骤摘要】
一种类金刚石镀膜制备设备
本技术涉及类金刚石镀膜制造技术,尤其涉及一种类金刚石镀膜制备设备。
技术介绍
类金刚石(Diamond-likecarbon,简称DLC)镀膜具有高的硬度、高的化学稳定性、高的导热系数、低的摩擦系数、较好的介电性能以及优异的光谱特性,在光学、电学、机械、医学等领域得到了广泛的应用。现有技术中,多采用等离子增强化学气相沉积技术制备DLC镀膜,该技术具有沉积温度低、绕度性好以及在大面积衬底上沉积的膜层厚度均匀性好的特点,被广泛应用于DLC薄膜的制备。但是,采用现有的技术,在实际应用中也存在诸多问题:1)薄膜的内应力大,与基片的而结合力较差,易产生薄膜开裂和剥落;2)较差的热稳定性。
技术实现思路
本技术提供一种类金刚石镀膜制备设备,用于降低类金刚石镀膜的应力并且提高类金刚石镀膜的热稳定性。本技术的第一个方面提供一种类金刚石镀膜制备设备,包括:真空腔体、伴热装置、扩散器、流量控制器和清洗装置;其中,所述流量控制器一端设有导入管,另一端设有第一导出管,所述第一导出管与所述扩散器导通;所述扩散器通过第二导出管与所述真空腔体导通,所述伴热装置分别设置于所述第一导出管和所述第二导本文档来自技高网...
一种类金刚石镀膜制备设备

【技术保护点】
一种类金刚石镀膜制备设备,其特征在于,包括:真空腔体、伴热装置、扩散器、流量控制器和清洗装置;其中,所述流量控制器一端设有导入管,另一端设有第一导出管,所述第一导出管与所述扩散器导通;所述扩散器通过第二导出管与所述真空腔体导通,所述伴热装置分别设置于所述第一导出管和所述第二导出管上;所述清洗装置包含清洗腔体、承载盘、清洗喷头以及清洗液存储罐;其中,所述清洗腔体与所述真空腔体通过第一端口密封对接,所述清洗喷头对准所述承载盘,并于所述清洗液存储罐连接;所述承载盘用于承载基片。

【技术特征摘要】
1.一种类金刚石镀膜制备设备,其特征在于,包括:真空腔体、伴热装置、扩散器、流量控制器和清洗装置;其中,所述流量控制器一端设有导入管,另一端设有第一导出管,所述第一导出管与所述扩散器导通;所述扩散器通过第二导出管与所述真空腔体导通,所述伴热装置分别设置于所述第一导出管和所述第二导出管上;所述清洗装置包含清洗腔体、承载盘、清洗喷头以及清洗液存储罐;其中,所述清洗腔体与所述真空腔体通过第一端口密封对接,所述清洗喷头对准所述承载盘,并于所述清洗液存储罐连接;所述承载盘用于承载基片。2.根据权利要求1所述的类金刚石镀膜制备设备,其特征在于,所述真空腔体设置有两个圆形电极。3.根据权利要求1所述的类金刚石镀膜制备设备,其特征在于,所述扩散器内部设置有:源瓶、热电偶和至少两个辐射发热管;所述至少两个辐射发热管分别于所述热电偶连接。4.根据权利要求3所述的类金刚石镀膜制备设备,其特征在于,所述至少两个辐射...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨永亮李娜岳莉张泓筠黄庆新
申请(专利权)人:凯里学院
类型:新型
国别省市:贵州,52

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