一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示设备制造领域，公开了一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置，该配向膜涂布方法包括在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；对整层膜层进行摩擦配向；采用构图工艺对进行摩擦配向之后的整层膜层进行构图，形成配向膜图案。上述配向膜涂布方法中，先对整版涂布配向膜溶液的衬底基板上的整层膜层进行摩擦配向，之后构图形成配向膜图案，该方法使得配向膜图案的形成位置精度高，边缘控制优良，使得通过该方法制成的配向膜可以凭借高精度的特性应用于超窄边框设计。而且，由于摩擦配向过程中没有段差，有效的避免了摩擦布毛的损伤，可延长摩擦布毛的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置
本专利技术涉及显示设备制造
，特别涉及一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置。
技术介绍
传统配向膜工艺是利用不同尺寸的转印板挂在印刷辊轮上，通过对位技术，将转印板上的图案转印到基板上，之后进行摩擦配向。但是，目前该技术有以下问题：1.受制于转印板精度和对位精度的限制，涂布精度比较低，只有800±500um。2.由于不同尺寸转印板不同，因为每次更换尺寸需要更换转印板，操作复杂。3.由于非显示区域和显示区域配向膜涂布不同，具有段差，在摩擦配向时会造成布毛损伤，会造成摩擦不均匀。
技术实现思路
本专利技术提供了一种配向膜涂布方法以及配向膜制备装置，上述配向膜涂布方法采用对衬底基板进行全涂布的方式，利于提高配向膜的精确度，减缓摩擦布毛的磨损。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：一种配向膜涂布方法，所述方法包括：在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；对所述整层膜层进行摩擦配向；采用构图工艺对进行摩擦配向之后的所述整层膜层进行构图，形成配向膜图案。上述配向膜涂布方法中，先对整版涂布配向膜溶液的衬底基板上的整层膜层进行摩擦配向，之后构图形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种配向膜涂布方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；对所述整层膜层进行摩擦配向；采用构图工艺对进行摩擦配向之后的所述整层膜层进行构图，形成配向膜图案。

【技术特征摘要】
1.一种配向膜涂布方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；对所述整层膜层进行摩擦配向；采用构图工艺对进行摩擦配向之后的所述整层膜层进行构图，形成配向膜图案。2.根据权利要求1所述的配向膜涂布方法，其特征在于，所述构图工艺包括：采用激光刻蚀方法进行刻蚀；或者，采用等离子刻蚀方法进行刻蚀；或者，采用先激光刻蚀后等离子刻蚀的方法进行刻蚀。3.根据权利要求2所述的配向膜涂布方法，其特征在于，采用激光刻蚀方法进行刻蚀时，采用激光刻蚀装置对所述整层膜层进行刻蚀，形成配向膜图案。4.根据权利要求2所述的配向膜涂布方法，其特征在于，采用等离子刻蚀方法进行刻蚀时，采用等离子刻蚀装置对所述整层膜层进行刻蚀，形成配向膜图案。5.根据权利要求2所述的配向膜涂布方法，其特征在于，采用先激光刻蚀后等离子刻蚀的方法进行刻蚀时，先采用激光刻蚀装置对所述整层膜层进行软化，再采用等离子刻蚀装置对软化后的所述整层膜层进行轰击，形成配向膜图案。6.一种配向膜制备装置，用于如以上权利要求1-5任一项所述的配向膜涂布方法，其特征在于，包括涂布装置、配向装置和构图装置，所述涂布装置用于在衬底基板一侧整版涂布配向膜溶液并形成整层膜层；所述配向装置用于对所述整层膜层进行摩擦配向；...

【专利技术属性】
技术研发人员：井杨坤，赖建文，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11