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一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法技术

技术编号:16418109 阅读:69 留言:0更新日期:2017-10-21 10:45
本发明专利技术公开了一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,包括如下步骤:将氧化锌颗粒放在模具里加压,压制成致密的块状物后,取出,置于刚玉盒内,24h后放入烧结炉中,在一定的温度下烧结成型靶材;打开机器将靶材放入铜质坩埚内,将清洗干燥后的石英玻璃卡入载片盘,将电子束蒸发台的钟罩抽成真空,充入氢气或氮气清洗钟罩,加热石英玻璃片,用电子束轰击靶材,并且控制好蒸发速率即可。本发明专利技术所得的薄膜具有很高的稳定性、光透过率和电导率,且所使用的原材料价格极为低廉,满足透明导电薄膜的高透光率,高电导,价格低廉的基本要求。

Preparation method of ZnO high transmittance and high conductivity thin film based on electron beam evaporation technology

The invention discloses an electron beam evaporation technique based on ZnO high transmittance and high conductivity of the thin film preparation method comprises the following steps: Zinc Oxide will put pressure on the particles in a mold, pressed into blocks of dense, removed, placed in a corundum box, after 24h in the sintering furnace, under certain temperature sintering the molding machine will open the target; the target into the copper crucible, quartz glass cleaning drying after the card into the carrier disc, the clock of the electron beam evaporation stations cover vacuum, filling hydrogen or nitrogen purge bell, heated quartz glass by electron beam bombardment of the target, and can control the evaporation rate. The film obtained by the invention has high stability, light transmittance and conductivity, the prices of raw materials and the use of extremely low cost and meet the high transmittance of transparent conductive film, high conductivity, low price of the basic requirements.

【技术实现步骤摘要】
一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法
本专利技术涉及材料制备领域,具体涉及一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法。
技术介绍
氧化锌(ZnO)透明导电薄膜在光电器件领域、声光器件及声光调制器领域以及军事用途等应用上已经获得了广泛的应用,现有的制备方法主要有化学法、化学物理方法和物理方法;化学法所制备的膜透过率较低,而磁控溅射的方法制备所得的薄膜电导率不高,反应蒸发法制备的氧化锌薄膜其过程非常不易控制,且不稳定。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术提供了一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法。为实现上述目的,本专利技术采取的技术方案为:一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,包括如下步骤:S1、将氧化锌粉末(颗粒)放在模具里加压,压制成致密的块状物后,取出,置于石英或刚玉盒内,24h后放入烧结炉中,在一定的温度下烧结成型;S2、打开机器钟罩,将靶材放入铜质坩埚内,将清洗干燥后的石英玻璃卡入载片盘,将电子束蒸发台的钟罩抽成真空,充入氢气或氮气清洗钟罩,加热石英玻璃片,用电子束轰击靶材,并且控制好蒸发速率即可。优选地,所述石英玻璃通过以下步骤完成清洗干燥:取一定尺寸的玻璃,两面用洗涤剂清洗干净后,依次用自来水、去离子水冲洗,自然干燥后将其置于不锈钢挂架上,依次用丙酮超声清洗5分钟、无水乙醇超声清洗5分钟、去离子水超声清洗两次,每次5分钟,然后将洗好的玻璃放入烘箱干燥,待用。优选地,所述步骤S1具体包括如下步骤:S11、将氧化锌颗粒装满直径为2.5cm,深4cm的模具,略加振动,装满后倒入一清洁容器内,加入少量聚乙烯醇(-[CH2CH(OH)]n-),搅拌均匀后装入模具,接着加压,当压力在31MPa的时候停止加压,得致密的块状物;S12、将所得的致密的块状物取出,放入刚玉盒中盖好盖。24h后将样品盒放入烧结炉中加温,恒温区温度为50℃、100℃、250℃、400℃、600℃、800℃、1000℃、1100℃。优选地,所述步骤S2具体包括如下步骤:S21、打开电子束蒸发台的钟罩,将清洗干燥后的石英玻璃卡入载片盘,将制备好的靶材放入铜质坩埚,密闭钟罩并且锁死,开启机械泵和低真空阀,当真空度达到10-1Pa的时候,关闭低真空阀,并向钟罩内充入氢气或氮气到0.1MPa(清洗钟罩);打开低真空阀,当真空度再次达到10-1Pa的时候,切换机械泵气路控制阀到抽系统;开启涡轮分子泵,打开高真空阀,待真空度达到4×10-4Pa的时候,启动石英玻璃加热装置和旋转驱动机构,在石英玻璃温度达到425℃时,且真空度再次达到4×10-3Pa的时候,打开灯丝电源,打开6000伏高压,缓慢调节灯丝电压并观察电子束打在靶上的位置,同时调节磁场改变电子束落点到合适位置;S22、打开薄膜测厚仪和挡板,观察测厚仪指示数值,当薄膜厚度达到一定厚度时,关闭高压,关闭灯丝电压,然后关闭测厚仪、加热装置、旋转驱动机构、高真空阀、涡轮分子泵和机械泵,机器冷却后取出,即得。本专利技术具有以下有益效果:采用电子束蒸发的方法,所得的薄膜具有很高的稳定性、光透过率和电导率;所使用的原材料价格极为低廉,比如氧化锌粉每克不到0.1元,若大批量购买每克不到0.01元;因此用这种工艺制备的透明导电薄膜更具有价格优势。石英玻璃有极强的抗温度变化能力,有广谱的高透明度,在这种玻璃上生长氧化锌薄膜是非常有用的。附图说明图1为本专利技术实施例中各恒温区温度所对应的升温时间和恒温时间示意图。图2为本专利技术实施例中的透过率测量曲线。具体实施方式为了使本专利技术的目的及优点更加清楚明白,以下结合实施例对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。实施例本专利技术实施例提供了一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,包括如下步骤:S1、玻璃清洗工艺将一定尺寸的玻璃放置在清洗槽的托架上,用洗涤粉+洗洁精用海绵擦洗玻璃两面,清洗干净后,用自来水冲洗,再用去离子水冲洗并且自然干燥;将玻璃放在不锈钢挂架上用丙酮超声清洗5分钟,再用无水乙醇超声5分钟;用去离子水超声清洗两次,每次5分钟。将洗好的玻璃放入烘箱干燥待用。S2、ZnO靶材制备工艺将ZnO粉装满直径2.5cm,深4cm的模具,并且略加振动。装满后倒入一清洁容器内,加入少量聚乙烯醇(-[CH2CH(OH)]n-)并且搅拌,搅拌均匀后装入模具,接着加压,当压力在31MPa的时候停止加压。将压制好的样品取出,放入刚玉盒中盖好盖。24h后将样品盒放入烧结炉中加温,冷却后取出待用。恒温区温度是50℃、100℃、250℃、400℃、600℃、800℃、1000℃、1100℃;它们对应的升温时间和恒温时间见图1所示。S3、氧化锌薄膜制备工艺打开电子束蒸发台的钟罩,将清洗干燥后的石英玻璃卡入载片盘,将制备好的靶材放入铜质坩埚,密闭钟罩并且锁死,开启机械泵和低真空阀,当真空度达到10-1Pa的时候,关闭低真空阀,并向钟罩内充入氢气或氮气清洗钟罩;打开低真空阀,当真空度再次达到10-1Pa的时候,切换机械泵气路控制阀到抽系统;打开涡轮分子泵,打开高真空阀,待真空度达到4×10-4Pa的时候,启动加热装置和旋转驱动机构,在样品温度达到425℃时,真空度再次达到4×10-3Pa的时候,打开灯丝电源,打开6000伏高压,缓慢调节灯丝电压并观察电子束打在靶上的位置,同时调节磁场改变电子束落点到合适位置;打开薄膜测厚仪,打开挡板,观察测厚仪指示数值,当薄膜厚度达到100nm左右(或一定的厚度)时,关闭高压,关闭灯丝电压,关闭测厚仪,关闭衬底玻璃加热电源,关闭样品旋转驱动电源;关闭高真空阀,关闭涡轮分子泵,关闭机械泵。机器冷却后取出样品,测量透过率,测量方块电阻,制备完毕。透过率测量曲线见图2.其电导率约为1×104西门子/米,图中,起始波长为200.0nm,终止波长为1100.0nm,扫描精度为0.1nm,狭缝宽度为1.8nm。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网
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一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法

【技术保护点】
一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、将氧化锌粉末放在模具里加压,压制成致密的块状物后,取出,置于刚玉盒内,24h后放入烧结炉中,在一定的温度下烧结成型;S2、打开机器,将靶材放入铜质坩埚内,将清洗干燥后的石英玻璃卡入载片盘,将电子束蒸发台的钟罩抽成真空,充入氢气或氮气清洗钟罩,加热石英玻璃片,用电子束轰击靶材,并且控制好蒸发速率即可。

【技术特征摘要】
1.一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、将氧化锌粉末放在模具里加压,压制成致密的块状物后,取出,置于刚玉盒内,24h后放入烧结炉中,在一定的温度下烧结成型;S2、打开机器,将靶材放入铜质坩埚内,将清洗干燥后的石英玻璃卡入载片盘,将电子束蒸发台的钟罩抽成真空,充入氢气或氮气清洗钟罩,加热石英玻璃片,用电子束轰击靶材,并且控制好蒸发速率即可。2.如权利要求1所述的一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,其特征在于,所述石英玻璃通过以下步骤完成清洗干燥:取一定尺寸的玻璃,两面用洗涤剂清洗干净后,依次用自来水、去离子水冲洗,自然干燥后将其置于不锈钢挂架上,依次用丙酮超声清洗5分钟、无水乙醇超声清洗5分钟、去离子水超声清洗两次,每次5分钟,然后将洗好的玻璃放入烘箱干燥,待用。3.如权利要求1所述的一种基于电子束蒸发技术的ZnO高透过率高电导率薄膜制备方法,其特征在于,所述步骤S1具体包括如下步骤:S11、将氧化锌颗粒(粉末)装满直径为2.5cm,深4cm的模具,略加振动,装满后倒入一清洁容器内,加入少量聚乙烯醇,搅拌均匀后装入模具,接着加压,当压力在31MPa的时候停止加压,得致密的块状物;S12、将所得的...

【专利技术属性】
技术研发人员:张治国
申请(专利权)人:张治国
类型:发明
国别省市:福建,35

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