透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材制造技术

技术编号:1640366 阅读:178 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种透明被膜形成涂料,该透明被膜形成涂料可以涂布1种涂料一次,形成具有至少2种以上功能的透明被膜。该透明被膜形成涂料是含有以下成分的透明被膜形成涂料,(A)金属氧化物微粒(A),该微粒的表面用有机硅化合物及/或具有疏水性官能基的多官能丙烯酸酯树脂进行了表面处理,且表面电荷量(Q↓[A])在5~80μeq/g的范围内;(B)基质形成成分,该成分含有疏水性基质形成成分,该疏水性基质形成成分包括有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物,及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂;(C)极性溶剂。其中,金属氧化物微粒(A)的作为固形成分的浓度(C↓[PA])在0.1~20重量%的范围内,基质形成成分(C)的作为固形成分的浓度(C↓[M])在1~50重量%的范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透明被膜形成涂料以及使用该透明被膜形成涂料形成的带透明被膜的基材,该透明被膜形成涂料涂布1种涂料一次,就可以形成具有至少2种以上功能的透明被膜,例如防反射功能、硬涂层(hard coat)功能。
技术介绍
以往,为了提高玻璃、塑料片、塑料透镜等基材表面的耐刮伤性,已知有在基材表面形成硬涂层膜的技术,作为该硬涂层膜在玻璃或塑料等的表面形成有机树脂膜或者无机树脂膜。另外,为了进一步提高耐刮伤性,在有机树脂膜或者无机膜中再掺入树脂粒或者二氧化硅等无机粒。另外,已知有为了防止玻璃、塑料片、塑料透镜等基材表面的反射,在其表面形成防反射膜,已知有以下的形成防反射膜的方法,例如通过包衣法、蒸镀法、CVD法等在玻璃或塑料的基材表面形成如氟树脂、氟化镁的低折射率的物质的被膜的方法,或者在基材表面涂布含有二氧化硅微粒等低折射率微粒的涂布液的方法(例如,专利文献(日本专利特开平7-133105号公报))。目前也已知,为了提高防反射性能,在防反射被膜的下层形成含有高折射率的微粒等的技术方案。另外,为了赋予基材防静电性能、遮蔽电磁波性能,还形成含有导电性的氧化物微粒、金属微粒等的导电性被膜。已知有例如,为了使如阴极射线管、荧光显示管、液晶显示板等显示板的透明基材的表面具有防静电以及防反射性能,在其表面形成具有防静电功能以及防反射功能的透明被膜的技术方案。特别是近年来,将这些各种功能性的被膜积层使用。例如,在基材上形成硬涂层膜,形成导电性被膜或者高折射率被膜,形成防反射膜。但是,由于各膜均由涂布涂料、干燥、根据需要的固化的工序形成,因此形成上述多层膜时需要多种工序,出现各膜间的密着性不充分、生产性、经济性等问题。另外,本专利技术人提出了通过使用专利文献2(日本专利特开2003-12965号公报)的含有平均粒径不同的,粒径小的导电性微粒和粒径大的低折射率微粒的2种不同微粒的涂布液,经1次涂布形成防反射性能优良的导电性被膜技术方案。日本专利特开平7-133105号公报日本专利特开2003-12965号公报
技术实现思路
目前,为了简化工序,减小被膜本身的厚度,需要仅涂布1次涂料就具有2种以上功能的透明被膜。对于上述专利文献2的涂布液,由于是2种微粒的混合物,因此仅形成1层必然造成防反射性能、防静电性能不充分,另外还有对塑料等基材的密着性低、且膜的强度不充分的问题。本专利技术人鉴于以上问题进行了认真的研究,结果认为,如果在涂布形成的被膜内,以上下完全分离的形式形成微粒层,则仅涂布1次涂料就可以形成具有2种以上功能的透明被膜等。之后进行了进一步的研究,发现通过将用特定的有机硅化合物对表面进行了疏水化处理而得的具有特定表面电荷量的金属氧化物微粒,与疏水性基质(matrix)形成成分组合,金属氧化物微粒没有在透明被膜中均一分散,而是在透明被膜的上部形成层,即,发现了通过1次的被膜形成,可以形成具有2种以上功能的被膜,于是完成了本专利技术。透明被膜形成涂料,它是含有以下成分的透明被膜形成涂料,(A)金属氧化物微粒(A),该金属氧化物微粒的表面用下式(1)Rn-SiX4-n(1)(式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以相同也可以不同;X碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢;n0~3的整数)所示的有机硅化合物及/或具有疏水性官能基的多官能丙烯酸酯树脂进行了表面处理,且表面电荷量(QA)在5~80μeq/g的范围内;(B)基质形成成分,该基质形成成分含有疏水性基质形成成分,该疏水性基质形成成分包括下式(2)Rn’-SiX4-n’(2)(式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以相同也可以不同;X碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢;n’1~3的整数)所示的有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物,及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂;(C)极性溶剂;其特征在于,金属氧化物微粒(A)的作为固形成分的浓度(CPA)在0.1~20重量%的范围内,基质形成成分(B)的作为固形成分的浓度(CM)在1~50重量%的范围。如所述的透明被膜形成涂料,其特征在于,前述基质形成成分含有疏水性基质的同时,还含有亲水性基质形成成分,该亲水性基质形成成分包括下式(3)SiX4(3)(式中,X碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢)所示的有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物,或者具有亲水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂,亲水性基质形成成分的作为固形成分的浓度(CMA)与疏水性基质形成成分的作为固形成分的浓度(CMB)的浓度比(CMA)/(CMB)在0.01~1的范围内。如或所述的透明被膜形成用涂料,其特征在于,前述金属氧化物微粒(A)的平均粒径在5~500nm的范围内。如~中任一项所述的透明被膜形成用涂料,其特征在于,还含有表面电荷量(QB)在25~100μeq/g范围内的金属氧化物微粒(B),金属氧化物微粒(B)的表面电荷量(QB)与金属氧化物微粒(A)的表面电荷量(QA)之差(QB)-(QA)在20~95μeq/g的范围内。如~中任一项所述的透明被膜形成用涂料,其特征在于,前述金属氧化物微粒(B)的作为固形成分的浓度(CPB)在0.1~20重量%范围内。如或所述的透明被膜形成用涂料,其特征在于,前述金属氧化物微粒(B)的平均粒径在5~500nm的范围内。如或所述的透明被膜形成用涂料,其特征在于,前述亲水官能基选自羟基、氨基、羧基、磺基、缩水甘油基的1种以上,上述疏水官能基选自(甲基)丙烯酰基、烷基、苯基、尿烷基、CF2基的1种以上。带透明被膜的基材,它是在基材上形成有透明被膜的带透明被膜的基材,其特征在于,透明被膜含有表面电荷量(QA)在5~80μeq/g范围的疏水性金属氧化物微粒(A)和基质成分,金属氧化物微粒(A)集中在透明被膜的上部形成层,透明被膜中的金属氧化物微粒(A)的含量(WPA)在0.2~90重量%范围内,基质成分的含量(WM)在10~99.8重量%的范围内,该基质成分为选自下式(4)Rn-SiX4-n(4)(式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以相同也可以不同;X碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢;n0~3的整数)所示有机硅化合物的水解缩聚物及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂的疏水性基质成分。如所述的带透明被膜的基材,其特征在于,前述基质成分含有疏水性基质成分的同时,还含有亲水性基质成分,亲水性基质成分为下式(3)SiX4(3)(式中,X碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢)所示的有机硅化合物的水解缩聚物及/或具有亲水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂,亲水性基质成分的作为固形成分的含量(WMA)与疏水性基质成分的作为固形成分的含量(WMB)的含量之比(WMA)/(WMB)在0.01~1的范围内。如或所述的带透明被膜的基材,其特征在于,透明被膜还含有金属氧化物微粒(B),该金属氧化物微粒(B)的表面电荷量(QB)在25~100μeq/g的范围内,金属氧化物微粒(B)的表面电荷量(QB)与金属氧化物微粒(A)的表面电荷量(QA)之差(QB)-(QA)在20~95μeq/g的范围内,金属氧化物微粒(B)集中在基材表面上面,形成层,或者分散在由前述金属氧化物微粒(A)形成的层与基材表面之间本文档来自技高网
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【技术保护点】
透明被膜形成用涂料,其特征在于,含有以下成分:    (A)金属氧化物微粒(A),该金属氧化物微粒的表面用下式(1)    R↓[n]-SiX↓[4-n]  (1)    所示的有机硅化合物及/或具有疏水性官能基的多官能丙烯酸酯树脂进行了表面处理,且表面电荷量(Q↓[A])在5~80μ  eq/g的范围内,式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以相同也可以不同,X:碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢,n∶0~3的整数;    (B)基质形成成分,该基质形成成分含有疏水性基质形成成分,所述疏水性基质形成成分包括下式(2)    R↓[n’]-SiX↓[4-n’]  (2)    所示的有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物,及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂,式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以相同也可以不同,X:碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢,n’∶1~3的整数;    (C)极性溶剂;    其中,金属氧化物微粒(A)的作为固形成分的浓度(C↓[PA])在0.1~20重量%的范围内,基质形成成分(B)的作为固形成分的浓度(C↓[M])在1~50重量%的范围。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:熊泽光章村口良平井俊晴
申请(专利权)人:触媒化成工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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