本发明专利技术提供作为防反射膜有用的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的用于形成低折射率膜的组合物。该用于形成低折射率膜的组合物由含有全氟基团的（甲基）丙烯酸酯树脂、和经通式ＲｎＳｉＸ↓［（４－ｎ）］表示的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒组成。式中，Ｒ：碳原子数为１～４的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟（甲基）丙烯酰基，Ｘ：碳原子数为１～４的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于形成防反射膜等光学用途中使用的低折射率膜的组合物及带固化膜的基材。更具体而言，涉及由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经特定的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒组成的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性优良的用于形成低折射率膜的组合物及耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的带固化膜的基材。
技术介绍
目前，具有透明性的固化膜、例如防反射膜被广泛用于CRT显示器、液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)等显示装置、眼镜、光学透镜、光学滤色片等光学部件等。一般而言，作为防反射膜等中使用的低折射率材料，可以举出氟类化合物或硅类化合物。但是，氟类化合物虽然折射率低、耐化学试剂性或透明性优良，但是存在耐擦伤性低的问题。另外，硅类化合物与氟类化合物相比，虽然耐擦伤性优良，但是存在折射率不够低、对酸或碱等的耐化学试剂性低的问题。从而提出了并用氟类化合物和硅类化合物的方案，但是二者的相溶性或分散性差，难以得到均一膜，为了提高相溶性，有降低氟类化合物的比例、或对硅类化合物进行表面处理等方法。但是，任一种情况下降低折射率、提高防反射性能的效果均存在变得不充分的倾向。而且，有时难以获得兼具耐擦伤性、透明性、耐化学试剂性的固化膜。特开2003-313242号公报(专利文献1)公开了使用含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂可获得耐擦伤性、耐化学试剂性、耐热性等优良的固化膜的内容。另外，特开2004-238487号公报(专利文献2)公开了使用含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂可以获得坚硬、玻璃化温度高、折射率低的固化膜的内容。但是，现有带固化膜的基材存在防反射性能不充分，用作显示装置的保护膜时，映入强、难以看到画像等缺点。特开2001-233611号公报(专利文献3)中公开了配合有折射率低的二氧化硅类微粒作为硅类化合物的透明涂膜与基材的密合性等优良、同时折射率低、防反射性能优良的内容。但是，如果为了进一步提高防反射性能而组合使用疏水性高的氟类化合物，则如上所述，涂料的稳定性低，即使形成膜，也只是得到不均一膜，或者发生白化本申请的专利技术人等进行了深入研究，结果发现配合有含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经特定的硅烷偶合剂处理的实质上不含碱的中空二氧化硅类微粒的用于形成低折射率膜的组合物具有优良的涂料稳定性，使用该组合物形成的固化膜具有优良的防反射性能、耐擦伤性，从而完成本专利技术。专利文献1特开2003-313242号公报专利文献2特开2004-238487号公报专利文献3特开2001-233611号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种解决了上述问题的技术方案，特别是作为防反射膜有用的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的用于形成低折射率膜的组合物及使用该组合物得到的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的带固化膜的基材。本专利技术的用于形成低折射率膜的组合物的特征在于由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经下述式(1)表示的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒组成。RnSiX(4-n)……(I)(其中，R碳原子数为1～4的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基，X碳原子数为1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子)上述含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂优选下述化学式(II)或(III)表示的化合物。(CpFq-O)r-A-(-O-CO-CR＝CH2)s……(II)(式(II)中，p为1～18的整数，q为3～37的整数，r+s为3～20的整数，r为1～18的整数，s为2～19的整数，-A-表示多元醇的脱羟基残基，R表示氢原子或甲基。)(R1-)x-(ClHmFn)-{(CH2)y-O-CO-C(-R2)＝CH2}z……(III)(式(III)中，-(ClHmFn)-表示1为3～10、m为0～4、n为2～18的脂环基，x为0～8，y为0～4，z为2～6，R1-表示碳原子数为1～10的直链或支链的烷基或氟烷基，-R2表示氢原子或甲基。)上述中空二氧化硅类微粒中的氨及/或铵离子的含量，以NH3计，优选为2500ppm或2500ppm以下。上述中空二氧化硅类微粒中的碱的含量，以MA2O(MA碱金属元素)计，优选为3ppm或3ppm以下。优选进一步含有不含氟的多官能(甲基)丙烯酸酯。优选使上述中空二氧化硅类微粒的平均粒径在5～500nm的范围内、折射率在1.15～1.40的范围内。上述中空二氧化硅类微粒由二氧化硅和二氧化硅以外的无机氧化物组成，将二氧化硅用SiO2表示、二氧化硅以外的无机氧化物用MOx表示时的摩尔比MOx/SiO2优选在0.0001～0.2的范围内。本专利技术的带固化膜的基材的特征为使用权利要求1～7任一项所述用于形成低折射率膜的组合物，单独或与其他涂膜一同形成在基材表面上。优选使上述固化膜的折射率在1.20～1.40的范围内、膜厚在0.01～10μm的范围内。根据本专利技术，可以提供一种用于形成低折射率膜的组合物及耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性等及防反射性能优良的带固化膜的基材，由于上述组合物含有含全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经含有烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基中的任一种的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒，因此彼此交联聚合成三维网格状，从而能够适用于形成耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性等优良、同时折射率低、防反射性能优良的固化膜。具体实施例方式下面，说明本专利技术的优选实施方案。首先，说明本专利技术的用于形成低折射率膜的组合物。(用于形成低折射率膜的组合物)本专利技术的用于形成低折射率膜的组合物特征为由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经下述式(1)表示的硅烷偶合剂处理后的中空二氧化硅类微粒组成。RnSiX(4-n)……(I)(其中，R碳原子数为1～4的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基，X碳原子数为1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子)1.含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂本专利技术的用于形成低折射率膜的组合物中使用的含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂优选为下述化学式(II)或(III)表示的化合物。(CpFq-0)r-A-(-0-CO-CR＝CH2)s……(II)(式(II)中，p为1～18的整数，q为3～37的整数，r+s为3～20的整数，r为1～18的整数，s为2～19的整数，-A-表示多元醇的脱羟基残基，R表示氢原子或甲基。)上述多元醇(HO-)r-A-(-OH)s优选为季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、双甘油、三甘油、聚甘油、三羟甲基丙烷、二(三羟甲基)丙烷、三羟甲基乙烷、二(三羟甲基)乙烷中的任一种醇类，上述醇类的环氧乙烷加成物，上述醇类的环氧丙烷加成物，上述醇类的环氧丁烷加成物，或上述醇类的γ-己内酯改性物，但是并不限定于上述化合物。化学式(II)中，全氟基团CpFq-可以饱和，也可以不饱和，可以为直链状或支链状，可以为具有脂环或芳环的环状。更优选p为6～12、且q为11～25。其中，CpFq-更优选为下述式(IV)表示的全氟基团。 作为上述含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂，具体而言，可以举出作为三丙烯酸季戊四醇酯的Light Acrylate PE-3A(共荣社化学(株)制的商本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于形成低折射率膜的组合物，其特征为，该组合物由含有全氟基团的（甲基）丙烯酸酯树脂、和经下述式（１）表示的硅烷偶合剂处理后的中空二氧化硅类微粒组成， Ｒ↓［ｎ］ＳｉＸ↓［（４－ｎ）］ ……（１） 其中，Ｒ为碳原子数为１～４的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟（甲基）丙烯酰基，Ｘ为碳原子数为１～４的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：熊泽光章，平井俊晴，细井弘之，竹中直巳，
申请(专利权)人：触媒化成工业株式会社，共荣社化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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