一种原膜基材的清洗机制造技术

技术编号:14956543 阅读:200 留言:0更新日期:2017-04-02 11:24
本实用新型专利技术涉及薄膜生产领域,尤其涉及一种原膜基材的清洗机,包括清洗装置,所述清洗装置包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构,所述溶剂槽包括内槽和外槽,所述内槽盛满清洗溶剂,所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁,所述清洗辊下部浸泡在内槽的清洗溶剂里,上部与原膜基材接触,所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水泵和出口,所述入口连接外槽底部,所述出口设置在内槽里。本实用新型专利技术结构合理,利用清洗辊对原膜基材进行清洗,又利用内外槽与过滤机构配合使清洗溶剂保持清洁,能有效清洗原膜基材吸附的颗粒,避免颗粒对后续工序的影响,减少质量问题的产生,节约成本,最终提高产品的质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及薄膜生产领域,尤其涉及一种原膜基材的清洗机
技术介绍
目前,PET广泛运用在光学产品上,对基膜的洁净度要求非常高。由于很难保证基膜的生产环境完全无尘以及基膜完全无静电,故基膜在生产过程中,多多少少会吸附一些颗粒,另一方面在BOPET基膜生产过程中由于高温作用所产生的低分子量物质易在膜面形成低聚物,基膜表面吸附的这些物质会影响到后续加工工序,产生产品质量问题,造成合格率低下,增加了产品成本,若没及时发现问题则会影响最终产品的质量。上述问题无法在PET生产线上得到完全解决,有公司采用触媒的方式进行处理,但技术保密且成本昂贵。目前主要采用的是离线处理技术,大体分为三种方式:1、粘尘辊技术:利用胶辊吸附细小粉尘的特点处理,但无法材料基膜表面几个微米以下大小的粉尘;2、超声波技术:利用超声波振动,然后利用洁净空气排除,同样无法处理小颗粒粉尘;3、光学处理方式:利用光学原理分解小分子成分的杂物,但无法分解颗粒稍大的粉尘,并且分解有一定局限性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种原膜基材的清洗机,以解决现有基膜生产中颗粒和低聚物影响后工序加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种原膜基材的清洗机,其特征在于,包括清洗装置,所述清洗装置包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构,所述溶剂槽包括内槽和外槽,所述内槽盛满清洗溶剂,所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁,所述清洗辊下部浸泡在内槽的清洗溶剂里,上部与原膜基材接触,所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水泵和出口,所述入口连接外槽底部,所述出口设置在内槽里。

【技术特征摘要】
1.一种原膜基材的清洗机,其特征在于,包括清洗装置,所述清洗装置包括溶剂槽、清洗辊和过滤机构,所述溶剂槽包括内槽和外槽,所述内槽盛满清洗溶剂,所述外槽里的清洗溶剂液面低于内槽壁,所述清洗辊下部浸泡在内槽的清洗溶剂里,上部与原膜基材接触,所述过滤机构包括依次连接的入口、滤芯、水泵和出口,所述入口连接外槽底部,所述出口设置在内槽里。
2.根据权利要求1所述的清洗机,其特征在于,所述清洗辊为PVA海绵辊。
3.根据权利要求2所述的清洗机,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:尹峰谢庆坚刘煜纯陈宏
申请(专利权)人:广东可逸智膜科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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