基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头制造技术

技术编号:16393413 阅读:31 留言:0更新日期:2017-10-17 16:20
本发明专利技术公开了一种基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头,包括柔性磨片、磁流变液、柔性密封圈、转盘、C形磁轭、外壳、隔板、电磁线圈、电机、隔磁套、联轴器、键、轴和磨粒。磨粒均匀分布在柔性磨片顶面;柔性磨片、柔性密封圈和转盘形成一个密封腔室,磁流变液置于密封腔室中;转盘底面中心设有转轴,转轴中心向上开有盲孔,电机通过联轴器与轴连接,轴通过键与盲孔连接;电机固定在隔板顶面,并通过隔磁套将电机与C形磁轭隔离,隔板下底面与电磁线圈接触,电磁线圈绕在C形磁轭的封闭端,本发明专利技术不需要另加抛光液循环装置,大大减小流装置尺寸,降低了生产成本。

Water based magneto rheological closed flexible polishing head based on normal force

The invention discloses a method based on water-based magnetorheological force closed flexible polishing head, including flexible grinding, magnetorheological fluid, flexible seal ring, disc, C shaped magnetic yoke, shell, baffle, electromagnetic coil, motor, magnetic coupling, shaft sleeve, keys, and abrasive. Abrasive particles are uniformly distributed on the top surface of the flexible flexible grinding; grinding, flexible seal ring and rotary table to form a sealed chamber, the magnetorheological fluid is placed in a sealed cavity; the center wheel is provided with a rotating shaft center to the bottom, which is provided with blind holes, connected with the motor through the shaft coupling, the shaft is connected with the blind hole of the motor is fixed on the bond; the partition top surface, and the magnetic shield motor and a C shaped magnetic yoke isolation, clapboard bottom surface and the electromagnetic coil contact electromagnetic coil around the closed end in C shaped magnetic yoke, the invention does not need additional polishing liquid circulation device, greatly reduce the flow device size, reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头
本专利技术属于精密抛光设备,具体涉及一种基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头。
技术介绍
超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,随着研究的深入以及检测技术的提高,人们对纳米级超光滑表面的形成机理有了更深刻的认识,并开发了许多抛光技术,如传统游离磨料抛光,主要指磨料游离散布在工件与柔性研具之间的工作界面内,通过工件和研具向磨料施加作用力,使磨料在工作界面内滚动和滑动,从工件上去除材料的加工方式,该方法在抛光过程中,磨料的浓度、分布均匀性、运动速度、运动轨迹及滞留时间等无法直接控制。再如弹性发射加工,该方式的核心部件是一个抛光轮,抛光轮与工件之间保持一个微小间隙(大约数十个微米),抛光液充斥于该间隙之内。加工时,抛光轮高速旋转,使微小间隙内形成了一层流体动压抛光膜,从而平衡施加在抛光轮上的压力。磨料在流体动压的作用下与工件表面发生微弱的弹性碰撞实现从工件上去除材料,但是该方法的加工效率极其低下(仅5nm/min)。湖南大学王永强博士在《大抛光模流变超光滑平面抛光技术》一文中记载了一种磁流变抛光的材料去除率为2μm/min,其优点是本文档来自技高网...
基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头

【技术保护点】
一种基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头,其特征在于:包括柔性磨片(1)、磁流变液(2)、柔性密封圈(3)、转盘(4)、C形磁轭(5)、外壳(6)、隔板(8)、电磁线圈(9)、电机(10)、隔磁套(11)、联轴器(12)、键(13)、轴(14)和磨粒(15);磨粒(15)均匀分布在柔性磨片(1)顶面,所述转盘(4)底部中心设有转轴,自转轴向上盲孔,柔性磨片(1)平行设置在转盘(4)上方,两者之间固连柔性密封圈(3),柔性磨片(1)、柔性密封圈(3)和转盘(4)形成一个密封腔室,磁流变液(2)填充在所述密封腔室中,外壳(6)设置在转盘(4)底面下方,C形磁轭(5)设置在外壳(6)内,C形磁轭(...

【技术特征摘要】
1.一种基于法向力的水基磁流变封闭式柔性抛光头,其特征在于:包括柔性磨片(1)、磁流变液(2)、柔性密封圈(3)、转盘(4)、C形磁轭(5)、外壳(6)、隔板(8)、电磁线圈(9)、电机(10)、隔磁套(11)、联轴器(12)、键(13)、轴(14)和磨粒(15);磨粒(15)均匀分布在柔性磨片(1)顶面,所述转盘(4)底部中心设有转轴,自转轴向上盲孔,柔性磨片(1)平行设置在转盘(4)上方,两者之间固连柔性密封圈(3),柔性磨片(1)、柔性密封圈(3)和转盘(4)形成一个密封腔室,磁流变液(2)填充在所述密封腔室中,外壳(6)设置在转盘(4)底面下方,C形磁轭(5)设置在外壳(6)内,C形磁轭(5)开口端朝向转盘(4),C形磁轭(5)、转盘(4)和外壳(6)三者之间构成腔室,隔板(8)、电磁线圈(9)、电机(10...

【专利技术属性】
技术研发人员:张广汪辉兴王炅
申请(专利权)人:南京理工大学
类型:发明
国别省市:江苏,32

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