像素阵列及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种像素阵列及其制造方法，包括多个像素单元。各像素单元至少包括第一颜色子像素、第二颜色子像素以及第N颜色子像素，其中N为整数且N≧3。第一颜色子像素包括第一堆迭发光层、第二颜色子像素包括第二堆迭发光层，且第N颜色子像素包括第N堆迭发光层。第一堆迭发光层、第二堆迭发光层以及第N堆迭发光层各自包括主发光层以及附属发光层。第一颜色子像素的主发光层与第二颜色子像素的附属发光层为同一材料层。第N颜色子像素的主发光层与第一颜色子像素的附属发光层为同一材料层。

Pixel array and manufacturing method thereof

The invention discloses a pixel array and a manufacturing method thereof, comprising a plurality of pixel units. At least each pixel unit comprises a first sub pixel color, second color sub pixels and the N color sub pixels, wherein N is an integer greater than or equal to 3 and N. The first color sub-pixel includes a first stack of luminescent layers, and the second color sub pixel includes a second stack of luminescent layers, and the first N color sub pixel includes a N stack of luminescent layers. The first stack light emitting layer, the second stack light emitting layer and the N stack light emitting layer each comprise a main light emitting layer and an attached luminescent layer. The main light emitting layer of the first color sub pixel is the same material layer as the subsidiary luminous layer of the second color sub-pixel. The main light emitting layer of the first N color sub-pixel is the same material layer as the subsidiary luminous layer of the first color sub-pixel.

【技术实现步骤摘要】
像素阵列及其制造方法
本专利技术是有关于一种像素阵列，且特别是有关于一种能够提高解析度的像素阵列及其制造方法，具体的讲是一种像素阵列及其制造方法。
技术介绍
传统上，有机发光二极管的面板制作是利用精细金属遮罩(finemetalmask；FMM)隔开不同子像素，并透过蒸镀达成红光、绿光及蓝光的排列方式。然而，精细金属遮罩(FMM)的尺寸具有一定限制，以目前制作工艺来说，其开口大小最多只能缩小至约30微米。基于遮罩的制作工艺限制，要增加面板的像素密度及解析度的难度也随的增加。就现有技术而言，一般是透过不同的像素排列方式来达到更高的像素密度及解析度。然而，透过改变像素排列的方式来提高像素密度的程度有限，且每一子像素仍然是维持相同大小。基于上述，如何在符合现有精细金属遮罩的限制下制作出更高像素密度及解析度的像素阵列为目前积极研究的重要课题之一。
技术实现思路
本专利技术提供一种像素阵列及其制造方法，可用以提高面板的像素密度及解析度。本专利技术的像素阵列包括多个像素单元。各像素单元至少包括第一颜色子像素、第二颜色子像素以及第N颜色子像素，其中N为整数且N≧3。第一颜色子像素包括第一堆迭发光层、第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素阵列，其特征在于，像素阵列包括：多个像素单元，其中各所述的像素单元至少包括一第一颜色子像素、一第二颜色子像素以及一第N颜色子像素，其中N为整数且N≧3，其中所述的第一颜色子像素包括一第一堆迭发光层、所述的第二颜色子像素包括一第二堆迭发光层，且所述的第N颜色子像素包括一第N堆迭发光层，其中所述的第一堆迭发光层、所述的第二堆迭发光层以及所述的第N堆迭发光层各自包括：一主发光层以及一附属发光层，所述的主发光层与所述的附属发光层为不同颜色的发光层，其中所述的第一颜色子像素的所述的附属发光层堆迭在所述的主发光层上方，所述的第二颜色子像素的所述的主发光层堆迭在所述的附属发光层上方，且所述的第N颜色...

【技术特征摘要】
2017.06.14 TW 1061197561.一种像素阵列，其特征在于，像素阵列包括：多个像素单元，其中各所述的像素单元至少包括一第一颜色子像素、一第二颜色子像素以及一第N颜色子像素，其中N为整数且N≧3，其中所述的第一颜色子像素包括一第一堆迭发光层、所述的第二颜色子像素包括一第二堆迭发光层，且所述的第N颜色子像素包括一第N堆迭发光层，其中所述的第一堆迭发光层、所述的第二堆迭发光层以及所述的第N堆迭发光层各自包括：一主发光层以及一附属发光层，所述的主发光层与所述的附属发光层为不同颜色的发光层，其中所述的第一颜色子像素的所述的附属发光层堆迭在所述的主发光层上方，所述的第二颜色子像素的所述的主发光层堆迭在所述的附属发光层上方，且所述的第N颜色子像素的所述的主发光层堆迭在所述的附属发光层上方，其中所述的第一颜色子像素的所述的主发光层与所述的第二颜色子像素的所述的附属发光层为同一材料层，且所述的第N颜色子像素的所述的主发光层与所述的第一颜色子像素的所述的附属发光层为同一材料层。2.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述的第一堆迭发光层、所述的第二堆迭发光层以及所述的第N堆迭发光层中的所述的主发光层会单独发光，而所述的附属发光层不发光。3.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述的第一堆迭发光层、所述的第二堆迭发光层以及所述的第N堆迭发光层中的所述的附属发光层会单独发光，而所述的主发光层不发光。4.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，其中当N＝3时，所述的第N颜色子像素为一第三颜色子像素，所述的第一颜色子像素为红色子像素，且所述的第一颜色子像素的所述的主发光层为一红色发光层，以使所述的第一颜色子像素发出红光，所述的第二颜色子像素为绿色子像素，且所述的第二颜色子像素的所述的主发光层为一绿色发光层，以使所述的第二颜色子像素发出绿光，且所述的第三颜色子像素为蓝色子像素，且所述的第三颜色子像素的所述的主发光层为一蓝色发光层，以使所述的第三颜色子像素发出蓝光。5.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，当N＝3时，所述的第N颜色子像素为一第三颜色子像素，各所述的像素单元更包括：一第一电极层；一第二电极层，其中所述的第一颜色子像素、所述的第二颜色子像素以及所述的第三颜色子像素中的所述的第一堆迭发光层、所述的第二堆迭发光层以及第三堆迭发光层分别位于所述的第一电极层与所述的第二电极层之间；以及一电洞注入层，位于所述的第一堆迭发光层、所述的第二堆迭发光层、所述的第三堆迭发光层与所述的第一电极层之间，且所述的电洞注入层的厚度会随着对应所述的第一颜色子像素、对应所述的第二颜色子像素或是对应所述的第三颜色子像素而具有不同厚度。6.如权利要求5所述的像素阵列，其特征在于，所述的第一颜色子像素为红色子像素，且对应所述的红色子像素的所述的电洞注入层具有一第一厚度，所述的第二颜色子像素为绿色子像素，且对应所述的绿色子像素的所述的电洞注入层具有一第二厚度，所述的第三颜色子像素为蓝色子像素，且对应所述的蓝色子像素的所述的电洞注入层具有一第三厚度，其中所述的第一厚度大于所述的第二厚度，且所述的第二厚度大于所述的第三厚度。7.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，当N＝4时，各像素单元另包含一第三颜色子像素，且所述的第N颜色子像素为第四颜色子像素，所述的第三颜色子像素的所述的主发光层与所述的第四颜色子像素的所述的附属发光层为同一材料层，且所述的第四颜色子像素的所述的主发光层与所述的第一颜色子像素的所述的附属发光层为同一材料层。8.一种像素阵列的制造方法，其特征在于，所述的制造方法包括：提供一基板，所述的基板包括预计形成一第一颜色子像素的一第一区、预计形成一第二颜色子像素的一第二区以及预计形成一第三颜色子像素的一第三区；提供一第一遮罩结构，所述的第一遮罩结构具有一第一开口图案以及一第一遮蔽图案；将所述的第一遮罩结构的所述的第一遮蔽图案对应所述的第三区设置，且将所述的第一开口图案对应所述的第一区以及所述的第二区设置；进行第一颜色发光材料蒸镀，以于所述的第一开口图案所对应的所述的第一区以及所述的第二区上分别形成一第一颜色发光层；提供一第二遮罩结构，所述的第二遮罩结构具有一第二开口图案以及一第二遮蔽图案；将所述的第二遮罩结构的所述的第二遮蔽图案对应所述的第一区设置，且将所述的第二开口图案对应所述的第二区以及所述的第三区设置；进行第二颜色发光材料蒸镀，以于所述的第二开口图案所对应的所述的第二区以及所述的第三区上分别形成一第二颜色发光层，其中所述的第二颜色发光层于所述的第二区中堆迭于所述的第一颜色发光层上方以构成所述的第二颜色子像素的一第二堆迭发光层；提供一第三遮罩结构，所述的第三遮罩结构具有一第三开口图案以及一第三遮蔽图案；将所述的第三遮罩结构的所述的第三遮蔽图案对应所述的第二区设置，且将所述的第三开口图案对应所述的第一区以及所述的第三区设置；进行第三颜色发光材料蒸镀，以于所述的第三开口图案所对应的所述的第一区以及所述的第三区上分别形成一第三颜色发光层，其中所述的第三颜色发光层于所述的第一区中堆迭于所述的第一颜色发...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡宏杰，陈奕宏，陈重嘉，李孟庭，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71