基于涂覆有SiOz(0.70≤z≤2.0)的铝的薄片形式的颜料制造技术

一种铝薄片，包括：　　　　（Ａ１）一层由ＳｉＯｚ组成的层，　　　　（Ｂ）在（Ａ１）层上，一层由铝组成的层以及　　　　（Ａ２）在（Ｂ）层上，一层由ＳｉＯｚ组成的层，　　　　其中，０．７０≤ｚ≤２．０。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种铝薄片，它包括(A1)一层由SiOz组成的层，(B)在(A1)层上，一层由铝组成的层以及(A2)在(B)层上，一层由SiOz组成的层，其中，0.70≤z≤2.0，本专利技术涉及一种用于制造所述铝薄片的方法以及所述铝薄片在涂料、静电涂覆、在喷墨印刷、化妆品、涂层、油墨(printing ink)、塑性材料、在用于陶瓷和玻璃的釉料、在安全印刷(security printing)以及在干涉颜料(interference pigment)制造中的用途。通过PVD(物理汽相沉积)方式汽相沉积SiO或SiO2保护层的铝薄片是已知的。WO00/69975公开了一种铝薄片，其包括(a)一层绝缘材料(dielectric material)，例如一氧化硅或二氧化硅，(b)一层金属，例如铝，一层绝缘材料，例如一氧化硅或二氧化硅。(c)绝缘层的厚度使得金属的光学性能不受到显著影响，即所述厚度在10-20nm的范围内。US-A-6,013,370公开了一种铝薄片，其包括(a)一层绝缘材料，例如二氧化硅，(b)一层金属，例如铝，(c)一层绝缘材料，例如二氧化硅。绝缘层的厚度使得金属的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：P·布亚德，
申请(专利权)人：西巴特殊化学品控股有限公司，
类型：发明
国别省市：