设计随机图案的方法和装置及包括该随机图案的光学基板制造方法及图纸

技术编号:16240502 阅读:20 留言:0更新日期:2017-09-22 09:23
本发明专利技术公开了一种设计随机图案的方法、用于设计随机图案的装置以及包括根据所述设计随机图案的方法设计的随机图案的光学基板。所述方法包括:在图案设计区中设置多个单元有效图案区;在所述单元有效图案区中形成随机点坐标;并且将所述单元有效图案区中的随机点坐标连接到在第一或第二方向上与所述随机点坐标相邻的其他随机点坐标。

Method and apparatus for designing random patterns and optical substrates including the random patterns

The invention discloses a method for designing a random pattern, a device for designing a random pattern, and an optical substrate including a random pattern designed according to the design random pattern. The method includes: setting a plurality of unit area effective pattern in pattern design area; the formation of random point coordinates in the unit effective pattern area; and will coordinate the random dot pattern region unit connected to other random adjacent point coordinates and the random point coordinates in the first or second direction the.

【技术实现步骤摘要】
设计随机图案的方法和装置及包括该随机图案的光学基板
本专利技术涉及一种设计图案的方法,所述方法能避免各种显示设施采用的光学基板之间的叠纹(moiré)现象。
技术介绍
通常,叠纹图案是在两个独立的周期性图案以预定的角度互相叠加时发生的自然干涉现象。由于屏幕上显示的图像上叠加的波纹、条纹或亮度变化,例如,小雪花点(smallwisps),不可避免地在所有的彩色阴极射线管电视机上出现叠纹图案。当电子束入射到掺有磷光体的荫罩(shadowmask)上时,就在阴极射线管上产生磷光。如果荫罩中的磷光区域等于电子束的入射区域,那么电子束产生的磷光图案就叠加在荫罩的规则图案上。由于存在两个规则的图案,所以就在阴极射线管上形成了叠纹图案。因此,如果阴极射线管上没有形成叠纹图案,这意味着阴极射线管的电子枪发射的电子束没有精确地入射到磷光体的中心。在这种情况下,阴极射线管上的图像就很模糊。这是因为虽然视频板所产生的像素的大小等于电子束的入射区,然而像素的大小小于磷光体材料的大小。因此,通过允许磷光体材料的大小等于视频板所产生的像素的大小,可以解决上述问题。同时,在LCD(液晶显示器)中,各液晶盒自身以单个像素运作。因此,LCD中不会出现叠纹图案。然而,就使用两个柱面光槽板来实现全视差的3D图像显示器而言,平板显示器(也就是说,LCD)用作图像显示板,并且在上面叠加微透镜阵列板或两个柱面光槽板。因此,当微透镜之间的间距(pitch)或者构成各柱面光槽板的透镜互相接触的区域之间的间距并不精确地对准LCD的像素间距时,就产生了叠纹图案。特别地,微透镜阵列板或柱面光槽板具有厚度。因此,视距或视角会由于厚度而发生变化。在这种情况下,即使微透镜之间的间距或者构成各柱面光槽板的透镜互相接触的区域之间的间距精确地对准LCD的像素间距,也会产生叠纹图案。图1是示意图,示出了避免由于装置(触控面板或采用了光学片的显示器)中使用的具有特定图案的两个光学基板的叠加和重叠而引起的叠纹现象的原理。也就是说,具有普通网格图案(latticepattern)的下光学基板B和具有另一种网格图案的上光学基板A不可避免地在设施中以重叠结构堆放,使得产生叠纹现象。根据现有技术,为了避免叠纹现象,基板分别以特定的倾转角θ1和θ2旋转并且在设施中布置在叠纹现象最小的位置处。如图2所示,由于在具有网格图案且布置在显示器D上的光学基板C的堆叠结构中发生叠纹现象,所以在制造设施时,光学基板C也以特定的避免角θ3旋转来避免叠纹现象。然而,由于这种方案需要寻找在网格图案之间成特定角度的叠纹避免截面并且该截面非常狭窄,所以在实践中很难应用上述方案。就例如LED的显示器而言,由于上网格图案是根据单元类型(像素间距)单独设计的,所以无法普遍采用这种方案,此外,这样很难完全去除叠纹图案。现有技术包括韩国未经审查的专利公开No.10-2005-0013020。
技术实现思路
为了解决上述问题,实施例提供了一种设计图案的方法,所述方法能通过使用随机图案设计方法所建立的图案设计来绝对去除由于规则图案重叠引起的叠纹现象,并且不管避免角和间距为何,均能避免叠纹现象。根据实施例,提供了一种设计随机图案的方法,所述方法包括:在图案设计区中设置多个单元有效图案区;在单元有效图案区中形成随机点坐标;并且将单元有效图案区中的随机点坐标连接到在第一或第二方向上与所述随机点坐标相邻的其他随机点坐标。根据实施例,可以实施设计随机图案的方法来去除由于规则图案重叠引起的叠纹现象,使得不管任何避免角和间距,均可以实现避免叠纹。此外,由于不管特定的倾转角为何,图案设计都能避免叠纹,所以例如网格图案、圆形图案或多边形图案的多种图案都是可应用的,而不管下部以及下部的间距为何,并且完全可以去除任何叠纹的产生,使得可以实施多种光学设施采用的片材和基板。附图说明图1是示意图,示出了避免由于装置(触控面板或采用了光学片的显示器)中使用的具有特定图案的两片光学基板的叠加和重叠而引起的叠纹现象的原理。图2是示意图,示出了甚至在显示器D上具有网格图案的光学基板C的堆叠结构中避免产生叠纹现象的方法。图3和图4是流程图和框图,示出了根据实施例的设计随机图案的方法。图5至图11是示意图,示出了根据以上参照图2和图3所述的实施例的设计随机图案的方法。图12是视图,示出了根据图1中描述的现有技术的叠纹水平以及具有网格图案的光学基板#1至#3之间的避免角与根据实施例的叠纹水平以及具有随机图案的光学基板之间的避免角的比较。图13和图14是视图,示出了具有用于TFT-LCD的图案的光学基板的图案叠纹验证测试。具体实施方式以下,将参照附图详细描述根据实施例的结构和操作。在基于附图的以下描述中,不论附图编号,相同的元件以相同的附图标记表示,并且为了避免冗余,将省略具有相同的附图标记的相同元件的重复描述。虽然在描述多个元件时可以使用术语“第一”和“第二”,但是实施例不限于此。术语“第一”和“第二”用于将一个元件区分于另一个元件。图3和图4是流程图和框图,示出了根据实施例的设计随机图案的方法。参照附图,根据实施例设计随机图案的方法包括以下过程:在图案设计区中设置多个单元有效图案区;在单元有效图案区中形成随机点坐标;并且将单元有效图案区中的随机点坐标连接到在第一或第二方向上相邻的随机点坐标。如图3所示,可以使用包括软件的程序来实施根据实施例的设计随机图案的方法。为此,如图4所示,所述程序可以包括:单元区设置单元110,来在图案所形成的图案设计区中形成多个单元有效图案区;随机坐标形成单元120,来在单元有效图案区中形成至少一个随机点坐标;以及随机坐标连接单元130,来形成将相邻的随机点坐标在特定的方向上连接的连接线。由于根据实施例以不同的配置使用,术语“~单元”指的是软件或例如FPGA或ASIC的硬件结构元件,并且“~单元”完成一些任务。然而,“~单元”不限于软件或硬件。“~单元”可以被配置成存储在可寻址的存储介质中并且执行至少一个处理器。因此,例如,“~单元”包括软件结构元件、面向对象软件结构元件、类结构元件、任务结构元件、过程、函数、属性、程序、子程序、程序代码段、驱动器、固件、微码、电路、数据、数据库、数据结构、表、矩阵和变量。结构元件和“~单元”中提供的函数可以由数量更少的结构元件和“~单元”组成,或者可以由额外的结构元件和“~单元”来划分。此外,可以实施结构元件和“~单元”来复制装置或安全多媒体卡中的至少一个CPU。图5至图7是示意图,示出了根据以上参照图2和图3所述的实施例的设计随机图案的方法。以下将参照图1和图5至图7相继描述设计随机图案的方法。根据本实施例的设计随机图案的方法,如图5所示,在图案设计区1中可以设置多个单元有效图案区a和b。图案设计区1指的是需要图案设计的例如基板或片的产品所需的标准。图案设计区1可以根据与输入到程序的标准有关的信息来确定,或者可以指的是基于根据外部传感器输入的信息值而实际产生的产品的标准。例如,在设置图案设计区1之后,单元有效图案区a和b被设置在图案设计区1中。如图5所示,单元有效图案区a和b可以被分成具有相同标准大小的虚拟空间,并且根据本实施例,可以在单元有效图案区中形成随机点坐标10和20。在如图5所示本文档来自技高网
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设计随机图案的方法和装置及包括该随机图案的光学基板

【技术保护点】
一种光学基板的设计方法,其特征在于,包括:将光学基板区分成多个单位有效图案区的步骤;在所述各个单位有效图案中设置两个以上随机点的步骤;用连接线连接相邻的单位有效图案区中的随机点的步骤,任意的所述单位有效图案区中的一随机点与相邻的单位有效图案区中的随机点之间的距离为20μm至1mm。

【技术特征摘要】
2012.12.17 KR 10-2012-01476631.一种光学基板的设计方法,其特征在于,包括:将光学基板区分成多个单位有效图案区的步骤;在所述各个单位有效图案中设置两个以上随机点的步骤;用连接线连接相邻的单位有效图案区中的随机点的步骤,任意的所述单位有效图案区中的一随机点与相邻的单位有效图案区中的随机点之间的距离为20μm至1mm。2.如...

【专利技术属性】
技术研发人员:张佑荣李承宪全致九
申请(专利权)人:LG伊诺特有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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