阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法制造方法及图纸

技术编号:16218250 阅读:31 留言:0更新日期:2017-09-16 00:39
本发明专利技术公开了阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法,阵列基板包括:衬底基板;多个像素单元,位于衬底基板上,包括反射电极层、白光有机发光层和半透明电极层;像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元,反射电极层包括位于红色子像素单元的第一反射电极,位于绿色子像素单元的第二反射电极,以及位于蓝色子像素单元的第三反射电极;第一反射电极对红光波长具有第一反射相移,第二反射电极对绿光波长具有第二反射相移,第三反射电极对蓝光波长具有第三反射相移,第一反射相移、第二反射相移和第三反射相移分别与对应出射光的波长满足法布里‑珀罗谐振方程。本发明专利技术降低了工艺成本、显示功耗以及工艺实现要求。

Array substrate, display panel, display device, and method for preparing array substrate

The invention discloses an array substrate, display panel, display device and preparation method of array substrate, array substrate includes: a substrate; a plurality of pixel units, located in the substrate, including reflection electrode layer, white organic light emitting layer and transparent electrode layer; the pixel unit includes a red pixel unit, green pixel unit and the blue pixel unit, a reflective electrode layer includes a first reflective electrode is located in the red sub-pixel unit, second reflective electrode is located on the green pixel unit, and is located in the blue sub-pixel unit third reflective electrode; the first reflective electrode has a first reflection to red light wavelength phase shift, the second reflective electrode with second reflection of green light wavelength phase shift. The third reflective electrode with third reflection of blue wavelength phase shift, phase shift, first reflection phase shift of second reflection and third reflection Phase shift respectively and corresponding light emitted meet Fabri Perot resonance equation. The invention reduces process cost, display power consumption and process realization requirement.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法
本专利技术实施例属于显示
,涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法。
技术介绍
实现有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)彩色化的技术中,包含有两种主流技术,即微腔效应RGB像素独立发光技术,和白色发光材料配合彩色滤光层技术。微腔效应RGB像素独立发光需要利用精密蒸镀掩膜板与像素对位技术,制备微腔效应的红、绿、蓝三基色发光中心,实现彩色化,需要使用精密蒸镀掩膜板,而使用精密蒸镀掩膜板的方法难以确保子像素的定位精度,比较难实现高像素密度的显示面板,而且,精密蒸镀掩膜板价格昂贵,会导致成本增加。而白色发光材料与彩色滤光层相组合的方法,首先制备发白光OLED器件,然后通过彩色滤光层得到三基色,再组合三基色实现彩色显示,制备过程不需要精密蒸镀掩膜板对位技术,可采用成熟的液晶显示器的彩色滤光层制备技术,容易实现面板大型化,也比较容易实现高像素密度。但是,由于后续彩色滤光层的添加同样需要使用光刻和对位等工艺,这样会增加生产的工艺步骤与工艺难度。特别是在高像素密度显示要求下,彩色滤光本文档来自技高网...
阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法

【技术保护点】
一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;多个像素单元,位于所述衬底基板上,包括依次层叠的反射电极层、发白光的白光有机发光层和半透明电极层;每个所述像素单元至少包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元,所述反射电极层包括位于所述红色子像素单元的第一反射电极,位于所述绿色子像素单元的第二反射电极,以及位于所述蓝色子像素单元的第三反射电极;所述第一反射电极对红光波长具有第一反射相移,所述第二反射电极对绿光波长具有第二反射相移,所述第三反射电极对蓝光波长具有第三反射相移,且所述第一反射相移、所述第二反射相移和所述第三反射相移分别与对应出射光的波长满足法布里‑珀罗Fabry‑Perot谐振方...

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;多个像素单元,位于所述衬底基板上,包括依次层叠的反射电极层、发白光的白光有机发光层和半透明电极层;每个所述像素单元至少包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元,所述反射电极层包括位于所述红色子像素单元的第一反射电极,位于所述绿色子像素单元的第二反射电极,以及位于所述蓝色子像素单元的第三反射电极;所述第一反射电极对红光波长具有第一反射相移,所述第二反射电极对绿光波长具有第二反射相移,所述第三反射电极对蓝光波长具有第三反射相移,且所述第一反射相移、所述第二反射相移和所述第三反射相移分别与对应出射光的波长满足法布里-珀罗Fabry-Perot谐振方程。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,反射相移与对应出射光的波长满足以下关系:其中,θ表示反射电极对出射光的反射相移,no表示白光有机发光层的折射率,L表示白光有机发光层的厚度,λ表示出射光的波长。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一反射电极、所述第二反射电极和所述第三反射电极的材料不同。4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一反射电极的材料在红光波长下的反射率大于所述第二反射电极的材料在红光波长下的反射率,所述第二反射电极的材料在绿光波长下的反射率大于所述第三反射电极的材料在绿光波长下的反射率。5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述第一反射电极的材料包括Ag或AL;所述第二反射电极的材料包括Mo或Ti;所述第三反射电极的材料包括TiN。6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一反射电极、所述第二反射电极和所述第三反射电极的材料相同,厚度不同。7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述第一反射电极、所述第二反射电极和所述第三反射电极的材料为AL/TiN的双层材料堆叠结构;所述第一反射电极、所述第二反射电极和所述第三反射电极中AL的厚度为180nm;所述第一反射电极表面的TIN的厚度为10nm;所述第二反射电极表面的TIN的的厚度为30nm;所述第三反射电极表面的TIN的的厚度为60nm。8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一反射电极、所述第二反射电极和所述第三反射电极中,至少一种反射电极包括金属层和有机层的第一叠层结构,或不同金属材料的组合金属层。9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述第一叠层结构包括AL/ALq3/AL、Ag/MoO3/Ag、Ag/ITO/Ag、Ag/IZO/Ag、Mo/IZO/Mo或Mo/ITO/Mo。10.根据权利要求9所述的阵列基板,其特征在于,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:高栋雨邹建华李洪濛徐苗王磊陶洪彭俊彪
申请(专利权)人:广州新视界光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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