阵列基板及显示面板制造技术

本发明专利技术涉及一种阵列基板及显示面板，其中所述阵列基板包括衬底，所述衬底上设置有若干像素单元，每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元，其中所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与所述第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。显示面板包括上述阵列基板及第二基板，其中第二基板与阵列基板相对设置。本发明专利技术能够改善侧视角的色偏情况，同时不需要牺牲可透光开口区、能够保持良好的面板透光率，节约背光成本。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示面板
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种阵列基板及显示面板。
技术介绍
LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)是目前应用比较广泛的一种平板显示器，随着显示技术的发展，LCD面板的尺寸也越来越大。目前大尺寸显示面板多半采用负型VA(VerticalAlignment，垂直配向)液晶或IPS(In-PlaneSwitching，平面转换)液晶技术。相较于IPS液晶技术来说，VA型液晶技术存在生产效率较高及制造成本低的优势，但相较于IPS液晶技术来说，VA型液晶技术存在较明显的光学性质缺陷。尤其是在商业应用方面，大尺寸面板需要较大的视角呈现，而VA型液晶驱动在视角色偏方面往往无法符合市场应用需求。例如，在侧视角下，随着电压增加，蓝像素子单元的亮度饱和的趋势比红、绿两种像素子单元来得显著及快速，使得侧视角观察画质会呈现偏蓝色偏的明显缺陷。一般VA型液晶技术解决视角色偏的方式是将RGB各子像素再划分为主/次(main/sub)像素，藉由对主次像素给予不同的驱动电压来解决视角色偏的缺陷，这样的像素设计往往需要再设计金属走线或TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)元件来驱动次像素，不仅牺牲可透光开口区、影响面板透率，还提升了背光成本。
技术实现思路
基于此，有必要针对现有显示面板在侧视角下存在色偏的缺点，提供一种阵列基板及显示面板，能够改善显示面板在侧视角下的色偏情况。本专利技术公开了一种阵列基板，其包括：衬底，所述衬底上设置有若干像素单元；每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元；所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。在其中一个实施例中，在每一所述像素单元内，所述第三像素子单元与所述第二像素子单元相邻设置，并且，所述阶梯结构的厚度在远离所述第二像素子单元的方向上减小。在其中一个实施例中，所述第三像素子单元的光阻膜层具有两层阶梯结构。在其中一个实施例中，所述两层阶梯结构具有第一厚度及第二厚度，所述第一厚度大于所述第二像素子单元的光阻膜层的厚度，所述第二厚度小于所述第二像素子单元的光阻膜层的厚度。。在其中一个实施例中，所述第三像素子单元的光阻膜层具有至少三层阶梯结构。在其中一个实施例中，在远离所述第二像素子单元的方向上，所述至少三层阶梯结构的厚度均匀减小。在其中一个实施例中，在远离所述第二像素子单元的方向上，所述至少三层阶梯结构的厚度呈曲线趋势减小。在其中一个实施例中，所述第一基板还包括遮光部，所述遮光部形成在所述衬底上，并且具有开口，所述光阻膜层设置于所述遮光部的开口处。在其中一个实施例中，所述第一像素子单元、所述第二像素子单元及所述第三像素子单元分别与所述衬底具有相同的接触面积。本专利技术还公开了一种显示面板，其包括第一基板和第二基板，所述第一基板与所述第二基板相对设置，所述第一基板为上述任一项所述的阵列基板。例如，所述第一基板包括衬底，所述衬底上设置有若干像素单元；每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元；所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。本专利技术实施例针对第三像素子单元的光学特性对第三像素子单元的结构进行调整，通过具有阶梯结构的蓝色光阻膜层，补偿光学上的短波长高色偏情况，产生互补的光学效果，能够解决显示面板的色差及色偏问题。上述阵列基板的制作工艺简单，并且能提升显示装置的显示性能。通过对每个像素区域内的蓝像素子单元进行光学特性上的调整，使得无需对同一像素子单元再进行划分以施加不同的驱动电压，使得无需额外设计金属或TFT元件来驱动次像素，因此不需要牺牲可透光开口区、能够保持良好的面板透光率，节约背光成本。附图说明图1为一个实施例的阵列基板的结构示意图；图2为一个实施例蓝像素子单元的亮度随着电压增加的变化曲线示意图；图3a为另一个实施例的阵列基板的结构示意图；图3b为又一个实施例的阵列基板的结构示意图；图4为又一个实施例的阵列基板的结构示意图；图5为又一个实施例的阵列基板的结构示意图；图6a为一个实施例的显示面板的结构示意图；图6b为另一个实施例的显示面板的结构示意图；图7为一个实施例的显示装置的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施方式。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术的公开内容理解的更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。例如，一种阵列基板，包括衬底，所述衬底上设置有若干像素单元，每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元，其中，所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。又如，所述第三像素子单元为蓝像素子单元。例如，一种显示面板，包括相对设置的第一基板及第二基板。其中所述第一基板包括衬底，所述衬底上设置有若干像素单元，每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元，其中，所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与所述第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。又如，所述第三像素子单元为蓝像素子单元，所述第一基板上还形成有TFT阵列，或者，所述第二基板上形成有TFT阵列。为了进一步理解上述阵列基板。请参阅图1，其为一实施例的阵列基板的结构示意图。该阵列基板20包括衬底21，所述衬底上设置有若干像素单元，每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元，其中所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层22，并且同一像素单元内的不同像素子单元分别设置由不同材料制得的光阻膜层，以使同一像素单元内的不同像素子单元的发光颜色不同。例如，第一像素子单元为红像素子单元，第二像素子单元为绿像素子单元，第三像素子单元为蓝像素子单元，则第一像素子单元上设置有红色光阻膜层22R，第二像素子单元上设置有绿色光阻膜层22G，第三像素子单元上设置有蓝色光阻膜层22B。其中，所述光阻膜层位于所述衬底与所述第二基板30之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层22B具有阶梯结构，即蓝色光阻膜层22B具有阶梯结构。在本实施例中，阶梯结构使得第三像素子单元内的光阻膜层具有不同的膜厚，使得在第三像素子单元内，蓝色光阻膜层与第二基板之间存在不同的间隙距离，其中，光阻膜层与第二基板之间的间隙距离又称gap值。各像素子单元的光学特性参数与gap值相关，例如，各像素子单元的相位延迟量与gap值相关，而相位延迟量的大小会影响光偏振态的变化，进而影响像素子单元的出光亮度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底，所述衬底上设置有若干像素单元；每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元；所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底，所述衬底上设置有若干像素单元；每一所述像素单元包括第一像素子单元、第二像素子单元及第三像素子单元；所述衬底的每一所述像素子单元上设置有光阻膜层，所述光阻膜层位于所述衬底与第二基板之间，并且，所述第三像素子单元的光阻膜层具有阶梯结构。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：在每一所述像素单元内，所述第三像素子单元与所述第二像素子单元相邻设置；并且，所述阶梯结构的厚度在远离所述第二像素子单元的方向上减小。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于：所述第三像素子单元的光阻膜层具有两层阶梯结构。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于：所述两层阶梯结构具有第一厚度及第二厚度；所述第一厚度大于所述第二像素子单元的光阻膜层的厚度；所述第二厚度小于所述第二像素子单元的光阻膜层的厚度。5.如权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈猷仁，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44