一种掩膜板及蒸镀设备制造技术

本发明专利技术涉及成膜技术领域，公开了一种掩膜板及蒸镀设备。所述掩膜板包括图形区域，所述图形区域设置有镂空图形，在掩膜板的除镂空图形之外的区域设置膜厚测试片，在蒸镀制程中，膜厚测试片上会沉积蒸镀材料，通过检测所述膜厚测试片上薄膜的膜厚，可以获取掩膜板上薄膜的膜厚，从而当薄膜的膜厚达到一定的厚度时，能够及时更换掩膜板，避免出现薄膜剥离污染设备的问题。

Mask plate and evaporation equipment

The invention relates to the field of film forming technology, and discloses a mask plate and a steam deposition equipment. The mask includes a graphics area, the graphics area is provided with a hollow pattern, set film thickness test piece in addition to pierced graphic areas outside the mask, in the evaporation process, the film thickness on the test strip will be deposited by thin film evaporation materials, detection of the film thickness on the plate the film thickness, the film can be obtained on the mask film thickness, so that when the film thickness reaches a certain thickness, can timely replace the mask, avoid the pollution problem of film stripping equipment.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板及蒸镀设备
本专利技术涉及成膜
，特别是涉及一种掩膜板及蒸镀设备。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，简称“OLED”)，具有全固态结构、高亮度、全视角、响应速度快、工作温度范围宽、可实现柔性显示等一系列优点。尤其在柔性显示领域，其可以被卷曲、折叠，因此在便携产品或穿戴产品领域有着极为宽广的前景。OLED器件的制作方法有真空蒸镀(VacuumEvaporation)、激光热转印(LaserInducedThermalImaging,LITI)、喷墨打印(InkJetPrint)等，目前真空蒸镀技术比较成熟，是各大厂商使用的主流技术。OLED器件的蒸镀分为有机材料蒸镀和金属材料蒸镀，金属材料一般使用Mg、Ag、Al等。金属蒸镀的掩膜版包括图形区域和位于图形区域的周边区域，金属材料以掩膜板为阻挡，通过图形区域的镂空图形蒸镀到OLED器件上。蒸镀工序完成后，会将掩膜版搬送回至掩膜版存储腔室。在蒸镀过程中，掩膜版上也会沉积金属材料，当掩膜板上的金属膜膜厚达到一定厚度时，就会发生剥离，导致产生大量颗粒，污染真空蒸镀设备。
技术实现思路
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【技术保护点】
一种掩膜板，包括板体，所述板体包括图形区域和位于所述图形区域外围的周边区域，所述图形区域设置有镂空图形，其特征在于，所述掩膜板还包括膜厚测试片，所述膜厚测试片对应所述板体的除所述镂空图形之外的区域设置。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括板体，所述板体包括图形区域和位于所述图形区域外围的周边区域，所述图形区域设置有镂空图形，其特征在于，所述掩膜板还包括膜厚测试片，所述膜厚测试片对应所述板体的除所述镂空图形之外的区域设置。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述膜厚测试片设置在所述周边区域。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括至少两个膜厚测试片，所述至少两个膜厚测试片均匀分布在所述图形区域的周边。4.一种蒸镀设备，包括用于放置权利要求1-3任一项所述的掩膜板的存储腔，其特征在于，还包括：膜厚检测单元，用于测量所述掩膜板的膜厚测试片上的第一薄膜的膜厚。5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括：报警单元；控制单元，与所述膜厚检测单元和报警单元连接，当第一薄膜的膜厚达到预设厚度时，所述控制单元控制所述报警单元发出警报。6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述存储腔内设置有承载部，所述掩膜板固定放置在所述承载部上；所述膜厚检测单元固定在所述承载部上，并与所述掩膜板的膜厚测试片的位置对应。7.根据权利要求6所述的蒸镀设备，其特征在于，所述膜厚测试片上的第一薄膜的材料为金属，所述膜厚测试片的材料为绝缘材料；所述膜厚检测单元包括：固定在所述承载部上的第一驱动机构；固定在所述第一驱动机构的输出端的方块电阻测试仪，所述方块电阻测试仪包括计算单元、本体和设置在所述本体上的至少一个探针，所述第一驱动机构用于驱动所述探针插入所述第一薄膜中；所述计算单元与所述探针连接，当所述探针插入所述第一薄膜中时，所述计算单元计算所述第一薄膜的方块电阻；压力传感器，用于获取所述驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙中元，薛金祥，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11