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本发明涉及成膜技术领域，公开了一种掩膜板及蒸镀设备。所述掩膜板包括图形区域，所述图形区域设置有镂空图形，在掩膜板的除镂空图形之外的区域设置膜厚测试片，在蒸镀制程中，膜厚测试片上会沉积蒸镀材料，通过检测所述膜厚测试片上薄膜的膜厚，可以获取掩膜...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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