The invention discloses a method for preparing large-area cracking colloidal photonic crystal film, the specific steps are as follows: dispersing the aqueous polyurethane emulsion to colloidal particles in solution; then to prepare homogeneous solution as coating solution, by wire rods in the hydrophilic substrate scraping a large area of colloidal photonic crystal film then the surface; rotation in the colloidal photonic crystal film coated with a layer of quantum dots. With the resonance effect of colloidal photonic crystals in visible region, the fluorescence signals of quantum dots can be enhanced significantly. The invention overcomes the traditional colloidal photonic crystal film is easy to crack the shortcomings, has the advantages of simple operation, mild conditions, easy large-scale construction etc, the colloidal photonic crystals and quantum dots prepared by composite film with fluorescence intensity and high stability, can provide ideas for the rapid preparation of high power QD LED device.
【技术实现步骤摘要】
一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法
本专利技术涉及一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法,更具体地说涉及利用聚氨酯中氢键增强胶体微球间结合力,实现光子晶体大面积成膜而不产生裂纹,并进一步用于增强量子点的荧光强度的方法。
技术介绍
胶体光子晶体是一种由单分散有机或无机胶体粒子,通过自下而上法制备的新型功能材料。由于其在空间上长程有序的周期性排列,具有光子禁带的特征,因而被广泛应用于显示、化学传感及荧光增强等领域。目前,如何解决大面积成膜而不开裂的问题成为光子晶体研究的热点。至今为止,已报道的光子晶体成膜的方法有:垂直沉积法、外场力诱导组装法、模板组装法等,然而这些方法存在步骤繁琐、耗费昂贵等问题,大大限制了胶体光子晶体的实际应用。而且在成膜过程中,溶剂挥发时,胶体微球之间的毛细管力会产生横向压应力,当此横向压应力超过临界值,最终形成的光子晶体膜会出现裂纹,裂纹的产生严重限制了胶体光子晶体膜的大面积制备。因此,如何利用简单有效、低成本的方法解决成膜过程中的开裂问题对快速大面制备高性能光子晶体膜显得尤为重要。近年来,尽管LED器件经历了充足的发展,但是,较低的光提取效率严重限制LED光源输出功率。因此研发高功率的LED器件成为拓宽LED应用领域的关键。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服光子晶体成膜步骤复杂,容易开裂,难以大面积施工等缺点,从而提供一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法。此方法条件温和,步骤简单,重复性好,所制备的胶体光子晶体膜具有大面积、不开裂、光学性质优异的特点。为达到上述目的,本专利技术的技术方案是在胶体微球乳液体系中引入 ...
【技术保护点】
一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法,其具体步骤如下:将水性聚氨酯分散到胶体粒子溶液中;然后以配制成的均相溶液为涂膜液,用丝棒在亲水基底上刮涂出胶体光子晶体膜;最后在胶体光子晶体膜的表面用旋涂仪旋涂出一层量子点。
【技术特征摘要】
1.一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法,其具体步骤如下:将水性聚氨酯分散到胶体粒子溶液中;然后以配制成的均相溶液为涂膜液,用丝棒在亲水基底上刮涂出胶体光子晶体膜;最后在胶体光子晶体膜的表面用旋涂仪旋涂出一层量子点。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的涂膜液是胶体粒子和聚氨酯的混合水溶液;其中涂膜液中胶体粒子的质量浓度为25%-35%,聚氨酯的质量浓度为1%-5%。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的胶体粒子是表面羧基改性的单分散聚苯乙烯胶体微球;表面羧基改性的单分散聚苯乙烯微球的粒径范围180nm-300nm,单分散系数为1%-5%。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所刮涂出的胶体...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈苏,朱志杰,张静,
申请(专利权)人:南京捷纳思新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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