【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有借助于有较高密度和较低密度的交替区域的烧结层结合在一起的两个部分的电子夹层结构以及对应的制造方法
本专利技术涉及一种具有第一待结合部分和第二待结合部分的电子夹层结构,该第一待结合部分和该第二待结合部分借助于烧结层烧结在一起。
技术介绍
这种电子夹层结构被用于多种电子部件、尤其用于功率电子器件的部件。无论是哪种情况要必须确保高电流或高电流密度、非常好的热传递(即,高的热流动)以及可靠的机械承载能力,都使用银烧结连接。为了这个目的,有待被烧结在一起的待结合部分通过银烧结层以材料键合彼此连接,银烧结层是尽可能均匀地薄的(典型地具有10μm至50μm的厚度)并且或多或少地被压紧实。除了均匀的层厚度之外,旨在实现在烧结连接层中银颗粒和其他填充物有尽可能均匀的分布。具体地,所谓的低温连接技术对此已经变为已知。这尤其用于大面积双极型半导体的生产。此外,这种技术还用于IGBT模块生产。对于低温连接技术,在约20MPa至30MPa的高机械负载下约230℃的适当温度下的银粉和化学添加剂被用作连接材料,并且使用烧结条件来用于将两个待结合部分烧结在一起。在这种情况下,在衬底与半导体之 ...
【技术保护点】
具有第一待结合部分和第二待结合部分的电子夹层结构,该第一待结合部分和该第二待结合部分借助于烧结层烧结在一起,其特征在于,该烧结层被形成为基本上不间断的连接层,该连接层的密度变化的方式使得至少一个较高密度的区域和至少一个较低密度的区域彼此交替。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.07 DE 102014222818.21.具有第一待结合部分和第二待结合部分的电子夹层结构,该第一待结合部分和该第二待结合部分借助于烧结层烧结在一起,其特征在于,该烧结层被形成为基本上不间断的连接层,该连接层的密度变化的方式使得至少一个较高密度的区域和至少一个较低密度的区域彼此交替。2.根据权利要求1所述的电子夹层结构,其特征在于,该烧结层具有呈限定图案的多个较大密度的区域和多个较低密度的区域。3.根据权利要求2所述的电子夹层结构,其特征在于,这些限定图案由点状圆形面积或条纹面积构成。4.根据权利要求1所述的电子夹层结构,其特征在于,该连接层具有尤其呈限定图案的多个较大厚度的区域和多个较小厚度的区域。5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子夹层结构,其特征在于,这些待结合部分具有相应地面朝该连接层的表面,这些表面至少在某些区域中被安排成平面平行于彼此。6.根据权利要求5所述的电子夹层结构,其特征在于,该连接层在这些待结合部分的面朝该连接层的表面的平面平行安排的相应区域中具有基本上恒定的厚度。7.根据权利要求1至4中任一项所述的电子夹层结构,其特征在于,这些待结合部分具有相应地面朝该连接层的表面,这些表面至少在某些区域中没有被安排成平面平行于彼此。8.根据权利要求1至7中任一项所述的电子夹层结构,其特征在于,该第一待结合部分是金属,并且该第二待结合部分是金属化非导体或者金属化半导体。9.根据权利要求1至8中任一项所述的电子夹层结构,其特征在于,该烧结层是基本上含银的连接层。10.根据权利要求1至9中任一项所...
【专利技术属性】
技术研发人员:马汀·贝克尔,罗纳德·艾西尔,加赛克·鲁茨基,弗兰克·奥斯特瓦尔德,
申请(专利权)人:丹佛斯硅动力有限责任公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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