研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法技术

技术编号:16110275 阅读:34 留言:0更新日期:2017-08-30 03:47
提供廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工的研磨用组合物。一种研磨用组合物,其含有由碳化物形成的磨粒,且用于研磨陶瓷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法
本专利技术涉及研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法。
技术介绍
已知有如下技术:使用含有由金刚石构成的磨粒的研磨用组合物对陶瓷制部件的表面进行研磨并进行镜面精加工、平滑化(例如参照专利文献1、2)。然而,含有由金刚石构成的磨粒的研磨用组合物不仅昂贵,而且还存在容易产生划痕、难以获得高品质的镜面的问题。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平7-179848号公报专利文献2:日本特开2008-290183号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题因此,本专利技术的课题在于解决上述那样的现有技术所具有的问题,提供廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工的研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法。用于解决问题的方案为了解决前述问题,本专利技术的一个方案的研磨用组合物的主旨在于,用于研磨陶瓷,且含有由碳化物形成的磨粒。另外,本专利技术的另一方案的研磨方法的主旨在于,使用上述一个方案的研磨用组合物对研磨对象物进行研磨。进而,本专利技术的又一个方案的陶瓷制部件的制造方法的主旨在于,包括利用上述另一方案的研磨方法对陶瓷制部件进行研磨。专利技术的效果本专利技术的研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工。具体实施方式对本专利技术的一个实施方式进行详细说明。本实施方式的研磨用组合物用于研磨陶瓷,且含有由碳化物形成的磨粒。并且,该磨粒的平均二次粒径可以为0.1μm以上且10.0μm以下。另外,碳化物可以设为碳化硅及碳化硼中的至少一者。进而,本实施方式的研磨用组合物还可以含有聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐中的至少1种。进而,本实施方式的研磨用组合物还可以含有平均二次粒径为0.1μm以下且由除碳化物以外的物质形成的非碳化物颗粒。这种本实施方式的研磨用组合物适用于陶瓷的研磨、不易产生划痕,因此,可以对陶瓷以高光泽进行高品质的镜面精加工。另外,本实施方式的研磨用组合物由于不含有由金刚石构成的磨粒,故廉价。进而,本实施方式的研磨用组合物与金属、树脂等材料相比硬度高,从而可以以充分高的研磨速度对研磨加工困难的陶瓷进行研磨。因此,通过使用本实施方式的研磨用组合物对陶瓷制的研磨对象物进行研磨,可以制造表面经镜面精加工的具有高质感(例如高级感)的陶瓷制部件。金属、树脂等材料在提高表面的质感上存在限制,但是陶瓷可以通过镜面精加工赋予高的质感,因此可以制作出顾客满足度更高的商品。以强度、耐久性、轻量性、外观性优异的陶瓷作为原材料,可以制造装饰品(例如配件、手表)、电子设备(例如手机终端、个人电脑)、照相机、运动/保健用品、齿科用品(例如假牙)、汽车内饰构件等各种物品的部件。这些当中,装饰品、电子设备、汽车内饰构件等中,对于表面设计的要求特别强,例如在高级商品中,由于强烈要求重视质感(例如高级感)的表面设计,故对于这种物品的陶瓷制部件的制造,本实施方式的研磨用组合物是适合的。也有对陶瓷制部件的表面实施涂装、涂布、镀覆等而进行镜面精加工的方法,但在基于研磨的镜面精加工得到优异的镜面时,不需要涂料、涂布。另外,基于研磨的镜面与基于涂装、涂布、镀覆等的镜面相比耐久性高,因此镜面可以长期间维持。从这些观点出发,基于研磨的镜面精加工具有与基于涂装、涂布、镀覆等的镜面精加工相比更优异的特点。需要说明的是,质感是指含陶瓷物质特有的原材料感,例如也可以表现为重量感、存在感。另外,陶瓷可以呈现出与金属、树脂不同的色调。进而,陶瓷的质感例如与金属物质、塑料物质不同,包含深度、暖度、独特的光泽感,这些可以对观看者、触摸者赋予例如陶磁器具有的美观、高级感。通过研磨而表面成为镜面的陶瓷具有光泽,因此,具有与金属、树脂不同的光泽性的质感,虽然具有光泽的表面例如与作为工艺品、美术品的陶磁器具有的表面不同,但有可能毫不逊色、或具有更优异的美观、高级感。进而,具有平滑性高的表面的陶瓷制部件的触感也优异,在耐冲击性等强度方面也是优异的。以下,对本实施方式的研磨用组合物进行详细说明。需要说明的是,以下说明的各种操作、物性的测定在没有特别说明的情况下,是在室温(20℃以上且25℃以下)、相对湿度40%以上且50%以下的条件下进行的。1.关于作为研磨对象物的陶瓷对于可适用于基于本实施方式的研磨用组合物的研磨的陶瓷的种类没有特别的限制,可举出:将Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Pb、Bi、Ce、Pr、Nd、Er、Lu等金属元素的氧化物作为主要成分的陶瓷。这些陶瓷可以单独使用1种,也可以混合2种以上使用。这些当中,将Mg、Y、Ti、Zr、Cr、Mn、Fe、Zn、Al、Er的氧化物作为主要成分的陶瓷适合用作利用本实施方式的研磨用组合物进行研磨的陶瓷,氧化锆和氧化铝更适合。进而,除金属氧化物系的陶瓷以外中,钛酸铝、氮化铝、氮化硅、碳化硅等可适用于基于本实施方式的研磨用组合物的研磨。需要说明的是,本专利技术的陶瓷中不包含蓝宝石、碳化硅等单晶。2.关于磨粒对于构成磨粒的碳化物的种类没有特别的限制,例如可举出:碳化钛、碳化钨、碳化铝、碳化铬等金属碳化物、碳化硅、碳化硼、碳化氮等。这些碳化物中,碳化硅的研磨速度优异,容易获得。可以单独使用1种磨粒,也可以组合使用2种以上磨粒。另外,可以使用由2种以上碳化物的混合物形成的磨粒。磨粒的平均二次粒径可以为0.1μm以上,优选为0.5μm以上。磨粒的平均二次粒径若为上述的范围内,则陶瓷的研磨速度提高。另一方面,磨粒的平均二次粒径可以为20μm以下,优选为10μm以下,更优选为5μm以下。磨粒的平均二次粒径若为上述的范围内,则容易通过研磨而得到低缺陷且表面粗糙度小的表面。另外,存在大粒径的磨粒会残留在研磨后的陶瓷表面上的问题时,优选以使用了不含大粒径的小粒径(例如,平均二次粒径为5μm以下)的磨粒的研磨用组合物进行研磨。需要说明的是,磨粒的平均二次粒径可以通过电阻法来测定。进而,具体而言,可以通过后述的实施例中记载的方法求得。研磨用组合物中的磨粒的含量可以为1质量%以上,优选为2质量%以上。磨粒的含量若为上述的范围内,则基于研磨用组合物的陶瓷的研磨速度提高。另一方面,研磨用组合物中的磨粒的含量可以为50质量%以下,优选为45质量%以下。磨粒的含量若为上述的范围内,则研磨用组合物的制造成本降低。另外,研磨后的陶瓷表面上残留的磨粒的量减少,陶瓷的表面的清洁性提高。3.关于聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐本实施方式的研磨用组合物还可以含有聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐中的至少1种。聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐作为分散剂发挥作用,因此,在研磨用组合物中磨粒可容易地再分散。需要说明的是,本说明书中,有时也将聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐记作“分散剂”。对于聚羧酸的种类没有特别的限制,例如可举出:聚丙烯酸、聚马来酸、聚衣康酸。或者,也可以为这些聚羧酸中的2种以上的共聚物、聚羧酸与聚磺酸的共聚物、或这些共聚物的盐。这些当中,从有较多样的分子量的方面出发,优选聚丙烯酸或其盐。聚羧酸、聚磺酸、或它们的盐的分子量可以为500以上,优选为1000以上。随着聚羧酸、聚磺酸、或它们的盐的分子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨用组合物,其用于研磨陶瓷,且含有由碳化物形成的磨粒。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.26 JP 2014-2650601.一种研磨用组合物,其用于研磨陶瓷,且含有由碳化物形成的磨粒。2.根据权利要求1所述的研磨用组合物,其中,所述磨粒的平均二次粒径为0.1μm以上且10.0μm以下。3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物,其中,所述碳化物为碳化硅及碳化硼中的至少一者。4.根据权利要求1~3...

【专利技术属性】
技术研发人员:大月伸悟池户朋也菱田翔太森永均浅井舞子伊藤友一
申请(专利权)人:福吉米株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1