【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种石膏磨用陶瓷研磨体,属于功能陶瓷领域。
技术介绍
因此,能耗低、自重小、磨损率低的低密度研磨体为越来越多的科研工作者所研究。申请号为201510077860.X、201510077859.7、2015100358580.8的中国专利技术专利给出不同的低密度研磨体的制备方法及生产工艺,主要应用于水泥磨中。在水泥磨中球磨工艺主要起到粉碎、研磨的双重功效,而石膏粉磨工艺中,由于煅烧后石膏粒径较小(一般大于50目),研磨功能起主要作用,所以具有强冲击力高密度的金属研磨体在使用中能耗、损耗巨大,发挥不出其更有力的效果。专用于石膏磨中的低密度陶瓷研磨体的研究较少。全国每年产出的工业副产石膏有上亿吨,占用大量的土地,给生态环境造成严重危害,煅烧成建筑石膏粉是处理工业副产石膏循环利用的主要途径,改善煅烧建筑石膏粉的性能,增大应用范围显得尤为重要。因此,寻求一种适用、专用、性能优异的石膏磨研磨体具有重大的意义。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种耗能低、磨损率低的石膏磨用陶瓷研磨体。本专利技术的技术方案为:石膏磨用陶瓷研磨体,由以下重量百分比的原料制备而成,Al2O3:62%~83%,SiO2:5%~8%,Cr2O3:0.5%~1.8%,TiO2:1%~1.45%,MnO:1.51%~1.75%,ZrO2:1.6%~3.4%,BaO:1%~3%,硅硼钙石:4.6%~7%,ZnO:2%~2.8%,纳米胶体硅:< ...
【技术保护点】
石膏磨用陶瓷研磨体,其特征在于:由以下重量百分比的原料制备而成,Al2O3 :62%~83%,SiO2 :5%~8%,Cr2O3:0.5%~1.8% ,TiO2 :1%~1.45%,MnO :1.51%~1.75%,ZrO2:1.6%~3.4%,BaO :1%~3%,硅硼钙石: 4.6%~7%,ZnO :2%~2.8%,纳米胶体硅:0.3%~1.1% ,助溶剂 2%~6%。
【技术特征摘要】
1.石膏磨用陶瓷研磨体,其特征在于:由以下重量百分比的原料制备而成,
Al2O3:62%~83%,SiO2:5%~8%,Cr2O3:0.5%~1.8%,TiO2:1%~1.45%,MnO:1.51%~
1.75%,ZrO2:1.6%~3.4%,BaO:1%~...
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