一种回转平台姿态误差测量方法技术

本发明专利技术公开了一种回转平台姿态误差测量方法，利用谐波分析法对D1、S1、N1中的测量数据进行处理，将测量数据分解成一个恒定分量和若干正弦谐波分量，求出各次谐波的振幅和相角，并画出谐波曲线。本发明专利技术提供的一种回转平台姿态误差测量方法，通过多次测量数据，分析处理结果显示，当改变基座的铅垂度时，常数项幅值发生变化。改变平台的垂直度时，基波的幅值发生变化。因此，在回转平台的安装和调试过程中，可以根据测量数据进行误差分离，准确找出误差源，从而提高误差补偿的准确性和误差校正的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种回转平台姿态误差测量方法
本专利技术涉及一种回转平台姿态误差测量方法，属于自动化设备

技术介绍
回转平台在机械、航空、仪表、电子等工业系统都有广泛的用途，回转平台的姿态精度是系统的重要精度指标之一。对于一些复杂系统的回转平台，产生姿态误差的环节较多，过去回转平台的调整，依靠人工观察水平仪读数，经反复调整才能达到水平，从而调平时间较长，并且调平精度受人为因素的影响较大。所以如何快速有效地测量回转平台是自动化装配行业急需要解决的问题。
技术实现思路
目的：为了克服现有技术中存在的不足，本专利技术提供一种一种回转平台姿态误差测量方法。技术方案：为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：一种回转平台姿态误差测量方法，包括如下步骤：步骤一：确定主轴转动的初始零位，从初始零位开始测量，每隔5°-10°在被测物件固定点上测量一次，测量一周的数据，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件D1中。步骤二：调整两个同一侧地脚螺钉高度，提高0.5mm，改变基座轴线的铅垂度；测量方法同步骤一，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件S1中；步骤三：在被测工件一侧垫上0.5mm塞尺,改变回转平本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种回转平台姿态误差测量方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一：确定主轴转动的初始零位，从初始零位开始测量，每隔5°‑10°在被测物件固定点上测量一次，测量一周的数据，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件 D1中；步骤二：调整两个同一侧地脚螺钉高度，提高0.5mm，改变基座轴线的铅垂度；测量方法同步骤一，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件S1中；步骤三：在被测工件一侧垫上0.5mm塞尺,改变回转平台和主轴间的垂直度；测量方法同步骤一，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件N 1中；步骤四：利用谐波分析法对D1、S1、N1中的测量数据进行处理，将测量数据分解成一个恒定分量和若干正弦谐...

【技术特征摘要】
1.一种回转平台姿态误差测量方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一：确定主轴转动的初始零位，从初始零位开始测量，每隔5°-10°在被测物件固定点上测量一次，测量一周的数据，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件D1中；步骤二：调整两个同一侧地脚螺钉高度，提高0.5mm，改变基座轴线的铅垂度；测量方法同步骤一，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件S1中；步骤三：在被测工件一侧垫上0.5mm塞尺,改变回转平台和主轴间的垂直度；测量方法同步骤一，进行角度评价，生成评价报告并存在数据文件N1中；步骤四：利用谐波分析法对D1、S1、N1中的测量数据进行处理，将测量数据分解成一个恒定分量和若干正弦谐波分量，求出各次谐波的振幅和相角，并画出谐波曲线。2.根据权利要求1所述的一种回转平台姿态误差测量方法，其特征在于：所述步骤一中每隔5°在被测物件固定点上测量一次。3.根据权利要求1所述的一种回转平台姿态误差测量方法，其特征在于：所述步骤一中每隔10°在被测物件固定点上测量一次。4.根据权利要求1所述的一种回转平台姿态误差测量方法，其特征在于：所述步骤二还包括调整同测两个地脚螺钉高于初始值0.8mm、1.0mm，依次重复步骤一，进行角度评价，测量数据存于S2、S3；所述步骤三还包括依次改变回转平台和主轴问的垂直度，垫0.8mm、1.0mm塞尺，依次重复步骤一，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军辉，
申请(专利权)人：江苏密斯欧智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32