NiCo2S4纳米材料及其制备方法技术

技术编号:16093577 阅读:41 留言:0更新日期:2017-08-29 19:00
本发明专利技术提供了一种NiCo2S4纳米材料的制备方法,包括以下步骤,首先将可溶性钴源、可溶性镍源、尿素和溶剂混合后,得到反应前驱液;然后将导电衬底置于上述步骤得到的反应前驱液中,在微波作用下进行反应后,再经过热处理,得到NiCo2O4纳米片;最后将上述步骤得到的NiCo2O4纳米片与硫化物再次反应后,得到NiCo2S4纳米材料。本发明专利技术工艺简单,成本低廉,耗能小,反应时间短,有利于大规模产业化扩展,而且NiCo2S4半导体纳米片形貌均匀,比表面积大,能够实现纳米结构薄膜的可控生长,从而可与电解液充分接触,保证离子快速扩散和电荷的有效传输,能够直接用作染料敏化太阳能电池的对电极,有着巨大的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
NiCo2S4纳米材料及其制备方法
本专利技术涉及纳米材料
,涉及一种三元过渡族金属硫化物纳米材料及其制备方法、应用,尤其涉及一种NiCo2S4纳米材料及其制备方法、应用。
技术介绍
近些年来,纳米材料得到了蓬勃发展,由于它的尺寸已经接近电子的相干长度,它的性质因为强相干所带来的自组织使得性质发生很大变化。因此其所表现的特性,例如熔点、磁性、光学、导热、导电特性等等,往往不同于该物质在整体状态时所表现的性质。这其中,化合物半导体纳米材料,由于化合物半导体自身的光电性能,再结合纳米级结构,会具有诸多更特殊的性能,因而引起了学者们的广泛重视。化合物半导体又称晶态无机化合物半导体,是指由两种或两种以上元素以确定的原子配比形成的化合物,并具有确定的禁带宽度和能带结构等半导体性质。包括晶态无机化合物(如III-V族、II-VI族化合物半导体)及其固溶体、非晶态无机化合物(如玻璃半导体)、有机化合物(如有机半导体)和氧化物半导体等。在众多化合物半导体纳米材料中,铜基硫化物纳米材料作为一种重要的半导体材料,尤其是三元过渡金属硫族化合物,由于具有更多的可控变量,从而表现出更加新颖奇特的性质(如本文档来自技高网...
NiCo2S4纳米材料及其制备方法

【技术保护点】
一种NiCo2S4纳米材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:A)将可溶性钴源、可溶性镍源、尿素和溶剂混合后,得到反应前驱液;B)将导电衬底置于上述步骤得到的反应前驱液中,在微波作用下进行反应后,再经过热处理,得到NiCo2O4纳米片;C)将上述步骤得到的NiCo2O4纳米片与硫化物再次反应后,得到NiCo2S4纳米材料。

【技术特征摘要】
1.一种NiCo2S4纳米材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:A)将可溶性钴源、可溶性镍源、尿素和溶剂混合后,得到反应前驱液;B)将导电衬底置于上述步骤得到的反应前驱液中,在微波作用下进行反应后,再经过热处理,得到NiCo2O4纳米片;C)将上述步骤得到的NiCo2O4纳米片与硫化物再次反应后,得到NiCo2S4纳米材料。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述可溶性钴源包括硫酸钴、氯化钴、醋酸钴和硝酸钴中的一种或多种;所述可溶性镍源包括硫酸镍、氯化镍、醋酸镍和硝酸镍中的一种或多种;所述溶剂包括水、乙醇、甲醇和甲苯中的一种或多种;所述硫化物包括硫化钠、硫化钾和硫化亚铁中的一种或多种;所述硫化物为硫化物水溶液。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述可溶性钴源与所述可溶性镍源的摩尔比为(1.5~2.5):1;所述尿素与所述可溶性镍源的摩尔比为1:(5~20);所述可溶性镍源在所述反应前驱液中的浓度为0.01~0.1mol/L;所述硫化物水溶液的浓度为0.03~0.1mol/L。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述混合的时间为20~40min;所述微波的功率为700~900W;所述反应的温度为90~110℃;所述反应的时间为0.5~2h。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊刘康乐李成辉魏爱香招瑜肖志明
申请(专利权)人:广东工业大学
类型:发明
国别省市:广东,44

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