一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置，所述制备方法包括以下步骤：提供基板；在基板的一侧形成抗眩涂层；在抗眩涂层远离基板的一侧形成抗反射涂层，其中抗反射涂层的材料为具有可交联基团的聚合物；在抗反射涂层上形成抗反射微结构；使抗反射微结构内的可交联基团发生交联反应，进而对抗反射微结构进行交联增强。通过上述方式，本发明专利技术所提供的实施方式能够降低偏光片的反射光和/或眩光。

【技术实现步骤摘要】
一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置
本专利技术涉及显示装置领域，特别是涉及一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置。
技术介绍
液晶显示器为一种平面超薄显示设备，它由一定数量的彩色或者黑白像素组成，放置于光源或者反射面前方。液晶显示器功耗低，并且具有画质高、体积小、重量轻的特点，因此成为目前显示器的主流。通常液晶显示器包括上下偏光片，用于形成偏振光并控制光线的通过。本专利技术的专利技术人在长期研究过程中发现，当显示设备在户外或者高亮环境下使用时，由于现有偏光片对光线的透过率为42％，偏光片在外界环境光的作用下会产生反射光和/或眩光，进而导致用户可读性下降。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置，能够降低偏光片的反射光和/或眩光。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种偏光片的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：提供基板；在所述基板的一侧形成抗眩涂层；在所述抗眩涂层远离所述基板的一侧形成抗反射涂层，其中所述抗反射涂层的材料为具有可交联基团的聚合物；在所述抗反射涂层上形成抗反射微结构；使所述抗反射微结构内的所述可交联基团本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：提供基板；在所述基板的一侧形成抗眩涂层；在所述抗眩涂层远离所述基板的一侧形成抗反射涂层，其中所述抗反射涂层的材料为具有可交联基团的聚合物；在所述抗反射涂层上形成抗反射微结构；使所述抗反射微结构内的所述可交联基团发生交联反应，进而对所述抗反射微结构进行交联增强。

【技术特征摘要】
1.一种偏光片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：提供基板；在所述基板的一侧形成抗眩涂层；在所述抗眩涂层远离所述基板的一侧形成抗反射涂层，其中所述抗反射涂层的材料为具有可交联基团的聚合物；在所述抗反射涂层上形成抗反射微结构；使所述抗反射微结构内的所述可交联基团发生交联反应，进而对所述抗反射微结构进行交联增强。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述基板一侧形成抗眩涂层的步骤包括：将分散有抗眩颗粒的有机溶剂涂布于所述基板的一侧；蒸发所述有机溶剂以形成所述抗眩涂层，其中，所述抗眩涂层的厚度为0.5μm-2μm。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为醇类溶剂和酮类溶剂中的任意一种或二者的混合，所述抗眩颗粒为丙烯酸树脂颗粒、亚克力颗粒和苯乙烯颗粒中任意一种或组合。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述抗反射微结构为蛾眼结构，所述蛾眼结构包含相邻的顶点间宽度小于等于可见光波长的多个凸部，所述凸部的高宽比为0.8-1.2，所述凸部的高度为100nm-500nm。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述在所述抗眩涂层远离所述基板的一侧形成抗反射涂层的步骤包括：利用沉积或者涂布的方法在所述抗眩涂层远离所述基板的一侧形成抗反射涂层，其中所述抗反射涂层的厚度为100nm-500nm；所述在所述抗反射涂层上形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨勇，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42