温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置，所述制备方法包括以下步骤：提供基板；在基板的一侧形成抗眩涂层；在抗眩涂层远离基板的一侧形成抗反射涂层，其中抗反射涂层的材料为具有可交联基团的聚合物；在抗反射涂层上形成抗反射微结构；使抗反射...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。