一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，属于直写曝光机技术领域。本实用新型专利技术的带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置；所述支撑结构下部为一箱体结构，曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内，所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方；所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构，所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方；所述载样装置4包括透明真空吸盘和真空发生装置。本实用新型专利技术的设备能够实现对产品双面曝光图像精确对位；设备简单，节约成本。同时，样品夹放于密闭环境或真空环境中，可以避免受到外界环境的污染，保证了曝光的良好质量。

An inverted exposure device with a transparent vacuum suction cup

The utility model discloses an inverted exposure device with a transparent vacuum sucker, belonging to the technical field of direct writing exposure machine. The utility model with a transparent vacuum suction inverted exposure equipment, including loading device and a control device structure, exposure apparatus, alignment device and a support; the support structure for the lower part of a box structure, exposure device and a control device in the structure of the box body, the loading device is embedded in the upper surface of the box structure in the exposure apparatus at the top; the support structure upper wall structure or the structure of Longmen, the alignment device and the supporting structure is connected with the upper part of the top and at the loading device; the loading device 4 includes a transparent vacuum suction and vacuum generating device. The equipment of the utility model can realize the accurate contraposition of the double exposure image of the product, and has simple equipment and cost saving. At the same time, the sample holder is placed in a sealed environment or a vacuum environment, so that the external environment can be avoided, and the good quality of the exposure is ensured.

【技术实现步骤摘要】
一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备
本技术涉及一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，属于直写曝光机

技术介绍
直写曝光技术是近年来迅速发展起来的影像直接转移技术，以其工艺流程简单、生产效率高、制造成本低等特点，很快取代了传统的掩膜板式的光刻技术，成为在PCB和半导体等生产领域最重要和最普遍的技术。但是，在现有技术的直写设备对PCB板进行双面曝光时，常常很难将板两面的图形进行精确对位，尤其对于内层板，由于内层板上没有定位孔的存在，更难以实现两面曝光图形的精确对位，造成曝光质量下降，严重时导致产品报废。传统的对位方法-UVmark法可以解决这一问题。但是，一方面，该技术长时间被国外公司垄断，极大地限制了我国在直写曝光
的科技发展，进而影响到相关领域的科技进步；另一方面，该技术的原理是在曝光一面图形的同时，利于紫外线在另一面一定位置做相应标记，用作该面曝光时的对位，这样的技术存在会在产品上造成无法消除的印迹而影响产品性能、在未曝光面留印迹会导致未曝光面受到污染、标记烙印边缘不够锐利而较难达到很高的对位精度、导致基板吸附不均而造成板面不平等问题。另外，现有技术的直写设备在工作时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，其特征在于，包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置；所述支撑结构下部为一箱体结构，曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内，所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方；所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构，所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方；所述载样装置包括透明真空吸盘和真空发生装置。

【技术特征摘要】
1.一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，其特征在于，包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置；所述支撑结构下部为一箱体结构，曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内，所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方；所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构，所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方；所述载样装置包括透明真空吸盘和真空发生装置。2.根据权利要求1所述的带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，其特征在于，所述透明真空吸盘和真空发生装置通过真空管路连接。3.根据权利要求1所述的带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，其特征在于，所述透明真空吸盘包括盖板、底板、连接轴和密封圈。4.根据权利要求1所述的带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，其特征在于，所述透明真空吸盘的底板为硬质...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅志伟，
申请(专利权)人：上海誉刻智能装备有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31