一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备，属于直写曝光机技术领域。本实用新型专利技术的双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，特别是实现了对于无定位孔存在的PCB板的内层板的双面曝光的图像精确对位；本实用新型专利技术的设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。

Double face contraposition exposure device and laser direct writing device containing the same

The utility model discloses a double side contraposition exposure device and a laser direct writing device containing the device, belonging to the technical field of direct writing exposure machine. The utility model of the double exposure device comprises a sample bearing device and are located on both sides of the sample carrying device positioning device and exposure device, can be achieved on the PCB board, semiconductor products such as double exposure image accurately, especially realizes precise positioning of double plate inner image for the PCB board without the exposure positioning hole; the utility model has the advantages of simple equipment, do not need to add additional exposure markers for printing or graphics equipment, cost savings.

【技术实现步骤摘要】
一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备
本技术涉及一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备，属于直写曝光机

技术介绍
直写曝光技术是近年来迅速发展起来的影像直接转移技术，以其工艺流程简单、生产效率高、制造成本低等特点，很快取代了传统的掩膜板式的光刻技术，成为在PCB和半导体等生产领域最重要和最普遍的技术。但是，在现有技术的直写设备对PCB板进行双面曝光时，常常很难将板两面的图形进行精确对位，尤其对于内层板，由于内层板上没有定位孔的存在，更难以实现两面曝光图形的精确对位，造成曝光质量下降，严重时导致产品报废。传统的对位方法-UVmark法可以解决这一问题。但是，一方面，该技术长时间被国外公司垄断，极大地限制了我国在直写曝光
的科技发展，进而影响到相关领域的科技进步；另一方面，该技术的原理是在曝光一面图形的同时，利于紫外线在另一面一定位置做相应标记，用作该面曝光时的对位，这样的技术存在会在产品上造成无法消除的印迹而影响产品性能、在未曝光面留印迹会导致未曝光面污染、标记烙印边缘不够锐利而较难达到很高的对位精度、导致基板吸附不均而造成板面不平等问题。因此，迫切需本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面对位曝光装置，其特征在于，所述双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置。

【技术特征摘要】
1.一种双面对位曝光装置，其特征在于，所述双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置。2.根据权利要求1所述的双面对位曝光装置，其特征在于，所述样品承载装置为不影响对位装置和曝光装置对样品两面同时作用的装置。3.根据权利要求1所述的双面对位曝光装置，其特征在于，所述样品承载装置为透明的承载装置、磁悬浮装置，或者其他任何能够对样品起到支撑作用且不会对曝光区域和对位识别区域产生遮挡的装置。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅志伟，
申请(专利权)人：上海誉刻智能装备有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31