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本实用新型公开了一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备，属于直写曝光机技术领域。本实用新型的双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，特别是...
该专利属于上海誉刻智能装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海誉刻智能装备有限公司授权不得商用。

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