原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法技术

本发明专利技术公开了一种原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，包括以下步骤：1）配置浓度为0.1~5 wt%的有机高分子溶液并静置24h；2）沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上，自然干燥至恒重以去除溶剂，使基底材料的表面包覆一层表面平整的高分子薄膜，得到覆膜基底材料，备用；3）将待测碳素分子材料均匀分散在良溶剂中，超声分散30min，获得呈暗黑色的碳素分子分散液，备用；4）取碳素分子分散液均匀滴在覆膜基底材料覆有高分子薄膜的一面上，然后在覆膜基底材料的另一面加热，以使待测碳素分子材料固定到高分子薄膜上，制得碳素材料样本，用以在AFM接触模式下进行稳定测定其表面性质。

Method for making carbon material sample for contact mode representation of atomic force microscope

The invention discloses a contact mode atomic force microscopy characterization method for making carbon material samples, which comprises the following steps: 1) the allocation of concentration of organic polymer solution 0.1~5 wt% and static 24h; 2) dipped organic polymer solution is coated on a substrate material, natural drying to constant weight to remove the solvent. The surface of the substrate material coated a layer of polymer film smooth surface, obtained coated substrate material, spare; 3) of the tested carbon molecular materials dispersed in good solvent, ultrasonic dispersion 30min, get a dark black carbon molecular dispersion, standby; 4) side to take the carbon molecular dispersion liquid evenly drops in the film the base material coated with the polymer film, and then on the other side of the heating film base material, to measure carbon molecular material fixed to the polymer film to be made on the prepared carbon material sample The present invention is used to determine the surface properties of AFM in a contact mode.

【技术实现步骤摘要】
原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法
本专利技术属于纳米力学测量
，具体涉及一种原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法。
技术介绍
1986年专利技术的首台AFM，弥补STM需要样品导电的不足，AFM利用一个灵敏度非常高的微悬臂（力常数在0.02-20N/m），AFM的结构如图1所示：悬臂一端固定在基座上，另一端固定一针尖曲率半径达纳米级（1~10nm）的锥形针尖，当针尖与样品靠近时，样品表面与针尖之间存在吸引力和排斥力的作用，悬臂发生弯曲变形，引起激光反射回路在光电接收器上的位置变化，样品表面的起伏反应为力的起伏，从而得到样品表面高度图像。因为针尖与样品存在力的作用，所以AFM不仅能够得到高度形貌图像，还能材料表面的物理特性，比如：弹性，硬度，模量，粘附力和表面电荷密度等，通在够满足激光光路的正常进行时，过改变针尖的环境，在液体、高真空、高温（300℃）或者低温下进行原位研究。原子力显微镜的工作模式是根据探针针尖与样品间“距离-作用力”性质的不同进行分类。如图2所示：将曲线划分为三个区域，不同区域代表原子力显微镜不同的工作模式，主要有3种操作模式：轻敲模本文档来自技高网...

【技术保护点】
原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，其特征在于，包括以下步骤：1）配置浓度为0.1~5 wt%的有机高分子溶液并静置24h；2）沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上，自然干燥至恒重以去除溶剂，使基底材料的表面包覆一层表面平整的高分子薄膜，得到覆膜基底材料，备用；3）将待测碳素分子材料均匀分散在良溶剂中，超声分散30min，获得呈暗黑色的碳素分子分散液，备用；4）取碳素分子分散液均匀滴在覆膜基底材料覆有高分子薄膜的一面上，然后在覆膜基底材料的另一面加热，以使待测碳素分子材料固定到高分子薄膜上，制得碳素材料样本，用以在AFM接触模式下进行稳定测定其表面性质。

【技术特征摘要】
1.原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，其特征在于，包括以下步骤：1）配置浓度为0.1~5wt%的有机高分子溶液并静置24h；2）沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上，自然干燥至恒重以去除溶剂，使基底材料的表面包覆一层表面平整的高分子薄膜，得到覆膜基底材料，备用；3）将待测碳素分子材料均匀分散在良溶剂中，超声分散30min，获得呈暗黑色的碳素分子分散液，备用；4）取碳素分子分散液均匀滴在覆膜基底材料覆有高分子薄膜的一面上，然后在覆膜基底材料的另一面加热，以使待测碳素分子材料固定到高分子薄膜上，制得碳素材料样本，用以在AFM接触模式下进行稳定测定其表面性质。2.根据权利要求1所述的原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建，龚勇，代祖洋，辜其隆，林小力，
申请(专利权)人：四川理工学院，
类型：发明
国别省市：四川,51