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原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法技术
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文档序号:15936903
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本发明公开了一种原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法,包括以下步骤:1)配置浓度为0.1~5 wt%的有机高分子溶液并静置24h;2)沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上,自然干燥至恒重以去除溶剂,使基底材料的表面包覆一层表面平整...
该专利属于四川理工学院所有,仅供学习研究参考,未经过四川理工学院授权不得商用。
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