气体控制系统以及用于气体控制系统的控制方法技术方案

技术编号:15909075 阅读:55 留言:0更新日期:2017-08-01 21:46
本发明专利技术提供一种气体控制系统,其可以防止出现由材料气体再液化的液滴或材料的热分解所产生的微粒对浓度或流量控制的影响,以预先设定的浓度或流量供给混合气体。该气体控制系统包括:第一阀,其设置在所述载气管线上或设置在所述供气管线上;流量控制机构,其设于稀释气体管线上,具有流量传感器及第二阀;非接触式的第一浓度传感器;第一阀控制部;稀释气体设定流量计算部,其基于预先设定的所述稀释后混合气体的总设定流量以及所述稀释后测定浓度,计算应该在所述稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设定流量;第二阀控制部,其为使所述稀释气体设定流量与所述流量传感器所测定的测定流量的偏差减小而控制所述第二阀的开度。

Gas control system and control method for gas control system

The present invention provides a gas control system, which can prevent from material gas re liquefaction droplets or material produced by thermal decomposition of particles on the concentration or flow control effect, to supply the concentration or flow of mixed gas preset. The gas control system comprises a first valve, which is set in the carrier gas line or disposed in the pipeline; the flow control mechanism, which is arranged on the dilution gas pipeline, with a flow sensor and two valve; first concentration sensor; the first valve control part; calculating part flow dilution gas set the determination of the concentration of the total flow set preset the diluted mixed gas, the calculation should be based on diluted, dilute gas flow in the gas pipeline in the flow of dilute gas flow set; second valve control unit, as the dilution gas flow and set the flow sensor determination of flow deviation is reduced and the control of the second valve opening.

【技术实现步骤摘要】
气体控制系统以及用于气体控制系统的控制方法
本专利技术涉及一种气体控制系统,其用于以预先设定的规定浓度及流量供给含有材料被汽化了的材料气体的混合气体。
技术介绍
例如,在生产半导体时,要求以预先设定的规定浓度及流量向成膜装置内供给含有使液体或固体材料被汽化了的材料气体的混合气体。向存积在罐内的材料导入载气,并通过例如起泡使之发生汽化而生成所述材料气体。在所述罐内汽化了的所述材料气体与所述载气共同形成混合气体,在从所述罐连接到所述成膜装置的供气管线中流动。以往,通过具有设于该供气管线上的浓度传感器及质量流量控制器的气体控制系统,控制所述混合气体的浓度及流量使其达到规定值(参考专利文献1)。现有技术文献专利文献1:日本专利特开2004-363271号公报
技术实现思路
技术问题然而,如果在所述供气管线上设置有所述质量流量控制器,则在为使所述材料容易汽化所述罐附近的所述供气管线处于高温环境时或者材料气体的反应性较高时,利用设于所述供气管线上的所述质量流量控制器的流量传感器很难准确地测定混合气体的流量。这是由于在高温环境中形成用于利用例如热式流量传感器测定流量的温度差较为困难,或者流量传感器的传本文档来自技高网...
气体控制系统以及用于气体控制系统的控制方法

【技术保护点】
一种气体控制系统,其用于汽化装置,所述汽化装置具备:罐,其能容纳材料;载气管线,其向所述罐内导入载气;供气管线,其供所述材料汽化而从所述罐中导出的材料气体以及所述载气流动;稀释气体管线,其与供气管线合流,并向该供气管线导入稀释气体,所述气体控制系统的特征在于,具备:第一阀,其设置在所述载气管线上,或者在所述供气管线上且与所述稀释气体管线的合流点相比设置在上游侧;流量控制机构,其设置在所述稀释气体管线上,具有流量传感器和第二阀;第一浓度传感器,其在所述供气管线上且与所述稀释气体管线的合流点相比设置在下游侧,测定含有所述材料气体、所述载气以及所述稀释气体在内的稀释后混合气体中的所述材料气体的浓度;...

【技术特征摘要】
2015.10.13 JP 2015-2024811.一种气体控制系统,其用于汽化装置,所述汽化装置具备:罐,其能容纳材料;载气管线,其向所述罐内导入载气;供气管线,其供所述材料汽化而从所述罐中导出的材料气体以及所述载气流动;稀释气体管线,其与供气管线合流,并向该供气管线导入稀释气体,所述气体控制系统的特征在于,具备:第一阀,其设置在所述载气管线上,或者在所述供气管线上且与所述稀释气体管线的合流点相比设置在上游侧;流量控制机构,其设置在所述稀释气体管线上,具有流量传感器和第二阀;第一浓度传感器,其在所述供气管线上且与所述稀释气体管线的合流点相比设置在下游侧,测定含有所述材料气体、所述载气以及所述稀释气体在内的稀释后混合气体中的所述材料气体的浓度;第一阀控制部,其以使预先设定的所述稀释后混合气体中的所述材料气体的设定浓度与所述第一浓度传感器所测定的所述稀释后混合气体中的所述材料气体的稀释后测定浓度的偏差减小的方式控制所述第一阀的开度;稀释气体设定流量计算部,其基于预先设定的所述稀释后混合气体的总设定流量、所述稀释后测定浓度以及所述稀释前混合气体中的所述材料气体的预测或实测浓度,来计算应该在所述稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设定流量;以及第二阀控制部,其以使所述稀释气体设定流量与所述流量传感器所测定的测定流量的偏差减小的方式控制所述第二阀的开度。2.根据权利要求1所述的气体控制系统,其特征在于,所述第一浓度传感器为红外线吸收式浓度传感器。3.根据权利要求1所述的气体控制系统,其特征在于,还具备:非接触式的第二浓度传感器,其在所述供气管线上且与所述稀释气体管线的合流点相比设置在上游侧,测定含有所述材料气体及所述载气在内的稀释前混合气体中的所述材料气体的浓度,所述稀释气体设定流量计算部基于所述总设定流量、所述稀释后测定浓度以及所述第二浓度传感器所测定的所述稀释前混合气体中的所述材料气体的稀释前测定浓度,来计算所述稀释气体设定流量。4.根据权利要求1所述的气体控制系统,其特征在于,所述第一阀控制部在所述稀释后测定浓度...

【专利技术属性】
技术研发人员:西里洋泷尻兴太郎南雅和寺岡温子
申请(专利权)人:株式会社堀场STEC
类型:发明
国别省市:日本,JP

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