版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法技术

本发明专利技术提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，先建立包含有所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层的图形库，然后将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域完全匹配成功的该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值，对上述差异中大于可接受差异值的进行归类，减少差异种类，这样就可以将数以千万级的差异归纳为几种或者数十种差异，大大提升了版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率。

Layout repeat unit, optical proximity effect correction, consistency checking method

The invention provides a layout repeating unit of optical proximity correction consistency check method, first establish the original design layer contains all of the reference pattern and the corresponding original design layer is the graphics library of optical proximity effect correction layer, then each region of the original design of the original design of the reference pattern corresponding to all layers the graphics library and the layout of the complete matching corresponding to the reference pattern the success of the original design of the optical proximity effect correction layer by layer, and all the reference graph corresponding to the graphics library in the original design of the optical proximity effect correction layer by layer for XOR, get the difference and the corresponding difference value, the difference is greater than the acceptable value of the differences are classified, reduce the differences between species, so that it can be divided into tens of millions of level difference Several or dozens of differences greatly enhance the layout design, correction work, repeated area correction, consistency check, accuracy and efficiency.

【技术实现步骤摘要】
版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法
本专利技术涉及可制造性图形设计领域，特别涉及一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法。
技术介绍
一般来说，集成电路版图设计中设计数据均含有重复性很强的设计，例如逻辑芯片的存储区，摄像芯片的感光区。为了能保证集成电路工作中信号能保持一致，则必须要求所有图形每次经过光学邻近效应处理后所有的图形的版图数据仍然能同时保持高度的统一性。由于设计本身或者光学邻近效应修正软件的错误较容易导致重复图形的修正结果不一致。随着集成电路工艺节点的不断推进，重复图形的修正差异对集成电路的差异影响也越来越大，同时重复图形的数量也越来越大。目前检查的工作主要通过工程师简单的检查，但工程师很难确定数以千万的图形是否每次都一致。同时，许多差异完全可以归纳为同一差异，完全检查消耗大量时间。
技术实现思路
本专利技术提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，用于将版图检查时数以千万的差异归纳为几种或者数十种差异，提升版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率。为达到上述目的，本专利技术提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，包括以下步骤：步骤一：提供一版图的原始设计，选取任意一个最小单元图形作为基准图形，每个基准图形包括该最小单元图形对应的原始设计层以及所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，截取所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层存入图形库中；步骤二：将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域进行匹配，若完全匹配成功，则找出该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值；步骤三：设定可接受差异值，在步骤二中得到的差异值中选取大于所述可接受差异值的差异，将选取得到的差异属于同一类的进行归类，减少差异的种类。作为优选，步骤一中对版图的原始设计进行筛选后进行基准图形的选取。作为优选，筛选方法为将版图的原始设计中含有重复单元的区域筛选出进行基准图形的选取。作为优选，筛选方法为将曝光时光源照射在版图上，去除照射时光源的光学半径在版图上形成的环状带区域。作为优选，所述光学半径范围为0μm～2μm。作为优选，步骤三中所述可接受差异值范围为0～0.001μm。作为优选，步骤三中设置图形归类尺寸，所述图形归类尺寸介于最小单元图形的尺寸的一半至一倍之间。作为优选，步骤二中不能完全匹配成功则解释为由自身存在的设计差异造成的修正结果。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，先建立包含有所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层的图形库，然后将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域完全匹配成功的该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值，对上述差异中大于可接受差异值的进行归类，减少差异种类，这样就可以将数以千万级的差异归纳为几种或者数十种差异，大大提升了版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率，该方法的检查准确性为100％，无任何检查遗漏。附图说明图1为本专利技术提供的修正一致性检查方法流程图；图2为本专利技术提供的重复单元修正一致性检查的区域划分；图3(a)～(f)为本专利技术提供的重复单元光学邻近效应修正区域示例；图4为本专利技术提供的原始设计中最小单元图形示例图；图5为本专利技术提供的图4中的图形被光学邻近效应修正后的示例图；图6(a)～(f)为本专利技术提供的光学邻近效应修正一致性检查示例图；图7(a)和(b)为本专利技术提供的差异结构归类示意图。本专利技术图示：201-环状区域、202-筛选出的区域、601～603-差异。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。请参照图1，本专利技术提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，包括以下步骤：步骤一：提供一版图的原始设计，对该版图需要操作的区域进行筛选，首先筛选出原始设计中含有重复单元的区域，然后将曝光时的曝光光源照射在版图上，由于光源存在有光学半径d，一般范围为0μm～2μm，那么投影在版图上会形成由光学半径d造成的环状区域201，去除该环状区域201，并将去除环状区域201后剩余的区域作为需要操作的区域。在上述筛选出的区域中选取任意一个最小单元图形作为基准图形，如图4所示，每个基准图形包括该最小单元图形进行光学邻近效应修正前后的数据，也就是该最小单元图形对应的原始设计层a以及所述原始设计层a被光学邻近效应修正的图层b，如图5所示，截取所有所述基准图形对应的原始设计层a作为运行匹配层集A，截取所有图层b定义为结果标记层集B，将运行匹配层集A和结果标记层集B存入图形库中；步骤二：将所述图形库中运行匹配层集A内所有所述基准图形对应的原始设计层a与版图的原始设计的每一区域进行匹配，也就是和光学邻近效应修正前的版图的原始设计进行匹配，若完全匹配成功，则说明两者即为重复设计图形，则找出该重复设计图形对应的基准图形的原始设计层a对应的被光学邻近效应修正的图层b，将其与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层a被光学邻近效应修正的图层b作异或运算，得到差异以及对应的差异值，比如，可将图5中的图形与图3(a)～(f)中每一个图形进行异或运算，就可得到差异为图6(b)中的差异602、图6(d)中的差异601、图6(f)中的差异603，每个差异皆对应一个差异值；若不能完全匹配成功，则将两者的差别解释为由于自身设计差异造成的修正结果；步骤三：设定可接受差异值，一般范围在0～0.001μm，选取步骤二中大于所述可接受差异值的差异值，设置图形归类尺寸，所述图形归类尺寸介于图4所示的最小单元图形的尺寸的一半至最小单元图形的尺寸的一倍之间，将上述差异值对应的差异按照图形归类尺寸进行归类，减少差异的种类，最终形成图7(a)和图7(b)两个种类，从而提升版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率。本专利技术提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，先建立包含有所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层的图形库，然后将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域完全匹配成功的该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值，对上述差异中大于可接受差异值的进行归类，减少差异种类，这样就可以将数以千万级的差异归纳为几种或者数十种差异，大大提升了版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率，该方法的检查准确性为100％，无任何检查遗漏。显然，本领域的技术人员可以对专利技术进行各种改动和变型而不脱离本专利技术的精神和范围。倘若本专利技术的这些修改和变型属于本专利技术权利要求及其等同技术的范围本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：提供一版图的原始设计，选取任意一个最小单元图形作为基准图形，每个基准图形包括该最小单元图形对应的原始设计层以及所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，截取所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层存入图形库中；步骤二：将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域进行匹配，若完全匹配成功，则找出该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值；步骤三：设定可接受差异值，在步骤二中得到的差异值中选取大于所述可接受差异值的差异，将选取得到的差异属于同一类的进行归类。

【技术特征摘要】
1.一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：提供一版图的原始设计，选取任意一个最小单元图形作为基准图形，每个基准图形包括该最小单元图形对应的原始设计层以及所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，截取所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层存入图形库中；步骤二：将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域进行匹配，若完全匹配成功，则找出该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值；步骤三：设定可接受差异值，在步骤二中得到的差异值中选取大于所述可接受差异值的差异，将选取得到的差异属于同一类的进行归类。2.如权利要求1所述的版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，其特征在于，步骤一中对版图的原始设计进行筛选后进行基准图形的选取。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱忠华，阚欢，魏芳，朱骏，张旭升，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31