The invention provides a high-efficiency hard zirconia ceramic slurry, which is characterized in that: 1) contains 5 abrasive hardness greater than 2); abrasive Mohs hardness of less than 5; 3) surfactants, 4) compounds containing phosphorus buffer, 5) water, buffer polishing liquid of pH = 1.5 ~ 4.5.
【技术实现步骤摘要】
高效硬质氧化锆陶瓷抛光液及其制备方法
本专利技术涉及一种硬质氧化物陶瓷表面的抛光技术，特别涉及对氧化锆硬质陶瓷表面的高效镜面抛光液及其制备方法。
技术介绍
当前市场上的氧化锆陶瓷精抛抛光液主要以硅溶胶做抛光摩擦剂。在碱性pH10～11件下，硅溶胶的水和氧化硅与氧化锆表面形成硅锆酸盐，在机械力的帮助下将坚硬的氧化锆陶瓷进行磨削、抛光。现在市场上的硅溶胶类氧化锆陶瓷抛光液固含量高，且效率低，由于温度升高导致在抛光工艺过程中容易板结，并容易在氧化锆陶瓷表面风干，不宜于后续的清洗工艺。传统氧化锆陶瓷抛光液的切削率随pH增大而增大。前期实验表明，用硅溶胶作为摩擦剂，在pH小于4.5时，陶瓷表面出现不均匀腐蚀，有大量坑点(麻点)在陶瓷表面，无法实现镜面效果，而且抛光效率随pH降低而降低。
技术实现思路
本专利技术目的在于专利技术一种抛光效率高、表面无缺陷，抛光寿命长，抛光过程中不易出现板结、利于后续清洗的高效镜面氧化锆陶瓷抛光液，其抛光效率高达10μm/小时以上。本专利技术解决问题采用的技术方案是：本专利技术目的在于专利技术一种抛光效率高、表面无缺陷，抛光寿命长，抛光过程中不易出...
【技术保护点】
高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：包含1)莫氏硬度大于5的研磨剂；2)莫氏硬度小于5的研磨剂；3)表面活性剂，4)含磷化合物缓冲剂，5)水，缓冲剂将抛光液pH值调至1.5～4.5。
【技术特征摘要】
1.高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：包含1)莫氏硬度大于5的研磨剂；2)莫氏硬度小于5的研磨剂；3)表面活性剂，4)含磷化合物缓冲剂，5)水，缓冲剂将抛光液pH值调至1.5～4.5。2.如权利要求1中所述的高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：所述PH值优选1.5～3.5，更优选1.5～2.5。3.如权利要求1中所述的高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：所述莫氏硬度大于5的研磨剂为粒径30～1200nm的氧化铝、碳化硅、碳化硼中的一种，优选氧化铝。4.如权利要求3中所述的高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：所述氧化铝是α-氧化铝，且α-晶相占氧化铝的95％以上。5.如权利要求1中所述的高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：所述莫氏硬度小于5的研磨剂为硅溶胶、氧化铝溶胶、氢氧化铈溶胶中的一种，优选硅溶胶。6.如权利要求1中所述的高效硬质氧化锆陶瓷抛光液，其特征在于：莫氏硬度大于5的研磨剂、莫氏硬度小于5的研磨剂、含磷化合物缓冲剂和表面活性剂分别占抛光液总质量的10.0～...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙韬，李佳铌，
申请(专利权)人：宁波日晟新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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