Using the method of gas in the kiln, the use of methods involving gas, open the gas valve, or adding coal gas, the gas pressure is reduced, the oxide layer increased; the gas valve, or stop adding coal gas, gas pressure increases, the oxide layer decreases with increasing air flow rate; gas furnace, furnace temperature is less. The oxide layer circulation position low. Adjust the gas valve, ahead of the corresponding changes in gas pressure. Turn on the gas valve, the gas pressure decreases, and the oxidation process rises. Turn off a small gas valve; the gas pressure increases in the oxide layer and drops behind the process. Adjust the flow between each burner, or clean the dust in the burner. The pressure of the gas changes in the rising process of the oxide layer. Slag removing indicator lamp is arranged on both sides of kiln. The invention has the advantages that the relation between the change of the gas pressure and the oxide layer is determined, the gasification efficiency of the gas furnace is high, or the fluctuation is small, and the furnace temperature is rapidly lifted or stabilized.
【技术实现步骤摘要】
一种煤气在窑炉上的使用方法
本专利技术涉及煤气的使用方法。
技术介绍
现有技术,没有开关煤气阀,煤气压力变化与氧化层、或氧化层循环位置的关系。一次改变煤气压力不大于20Pa,窑炉温度变化速度慢。开关窑炉煤气阀,时间不确定,降低窑炉温度,降低气化效率。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术的目的是提供一种煤气在窑炉上的使用方法。为了实现上述目的,本专利技术采取下述技术方案,包括:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,与气化剂混合角度有关,气化剂混合角度不同,气化剂混合后,蒸汽压力降幅不同,氧化层上升距离不同,与气化剂混合器长度有关,气化剂混合器长度不同,气化剂混合后,蒸汽压力降幅不同,氧化层上升距离不同,(本专利技术没有特别说明,氧化层指煤气炉正在发生氧化层化学反应的燃料层,消耗大部分氧气,氧化层长度70-150mm,饱和温度、气化剂、蒸汽压力、气化效率是指煤气炉,煤气压力测量点在煤气炉煤气出口),确定了开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力减少与氧化层上升的关系;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,氧化层上升,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升的距离,氧化层循环位置容易测量,氧化层位置难测量;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,氧化层下降10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小 ...
【技术保护点】
一种煤气在窑炉上的使用方法,其特征是,包括:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10‑30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,与气化剂混合器有关;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,氧化层下降10‑30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层下降距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层下降距离大,与气化剂混合器有关;关小煤气阀,煤气压力增加,饱和温度降低,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降的距离;煤气炉增加空气流量相等,窑炉运行参数相同,窑炉升温少,是煤气炉氧化层循环位置低,开大煤气阀,减少煤气压力小于或等于20Pa。
【技术特征摘要】
1.一种煤气在窑炉上的使用方法,其特征是,包括:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,与气化剂混合器有关;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,氧化层下降10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层下降距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层下降距离大,与气化剂混合器有关;关小煤气阀,煤气压力增加,饱和温度降低,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降的距离;煤气炉增加空气流量相等,窑炉运行参数相同,窑炉升温少,是煤气炉氧化层循环位置低,开大煤气阀,减少煤气压力小于或等于20Pa。2.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法,其特征在于:调节煤气阀,煤气压力变化,提前于同步对应的氧化层循环中氧化层变化,提前时间是,窑炉煤气压力变化由窑炉传递到煤气炉。3.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法,其特征在于:开大煤气阀,增加煤气使用量,煤气压力减少小于或等于20Pa,在氧化层循环的第一个环节,氧化层上升60s内,氧化层循环的第一个环节是氧化层上升过程。4.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法,其特征在于:关小煤气阀,煤气压力增加小于或等于20Pa,在氧化层循环的第二环节,单段炉氧化层下降...
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