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一种煤气在窑炉上的使用方法技术

技术编号:15817982 阅读:63 留言:0更新日期:2017-07-15 01:12
煤气在窑炉上的使用方法,涉及煤气的使用方法,开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力减少,氧化层上升;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力增加,氧化层下降;煤气炉增加空气流量,窑炉升温少,是氧化层循环位置低。调节煤气阀,提前于对应的煤气压力变化。开大煤气阀,煤气压力减少,在氧化层上升过程。关小煤气阀,煤气压力增加在氧化层下降后部过程。调节各烧嘴之间流量,或清理烧嘴内灰尘,煤气压力变化在氧化层上升过程。窑炉两侧安装除渣指示灯。本发明专利技术的优点在于,确定了煤气压力变化与氧化层的关系,煤气炉气化效率高,或波动小,快速升降或稳定窑炉温度。

Method for using gas on kiln

Using the method of gas in the kiln, the use of methods involving gas, open the gas valve, or adding coal gas, the gas pressure is reduced, the oxide layer increased; the gas valve, or stop adding coal gas, gas pressure increases, the oxide layer decreases with increasing air flow rate; gas furnace, furnace temperature is less. The oxide layer circulation position low. Adjust the gas valve, ahead of the corresponding changes in gas pressure. Turn on the gas valve, the gas pressure decreases, and the oxidation process rises. Turn off a small gas valve; the gas pressure increases in the oxide layer and drops behind the process. Adjust the flow between each burner, or clean the dust in the burner. The pressure of the gas changes in the rising process of the oxide layer. Slag removing indicator lamp is arranged on both sides of kiln. The invention has the advantages that the relation between the change of the gas pressure and the oxide layer is determined, the gasification efficiency of the gas furnace is high, or the fluctuation is small, and the furnace temperature is rapidly lifted or stabilized.

【技术实现步骤摘要】
一种煤气在窑炉上的使用方法
本专利技术涉及煤气的使用方法。
技术介绍
现有技术,没有开关煤气阀,煤气压力变化与氧化层、或氧化层循环位置的关系。一次改变煤气压力不大于20Pa,窑炉温度变化速度慢。开关窑炉煤气阀,时间不确定,降低窑炉温度,降低气化效率。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术的目的是提供一种煤气在窑炉上的使用方法。为了实现上述目的,本专利技术采取下述技术方案,包括:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,与气化剂混合角度有关,气化剂混合角度不同,气化剂混合后,蒸汽压力降幅不同,氧化层上升距离不同,与气化剂混合器长度有关,气化剂混合器长度不同,气化剂混合后,蒸汽压力降幅不同,氧化层上升距离不同,(本专利技术没有特别说明,氧化层指煤气炉正在发生氧化层化学反应的燃料层,消耗大部分氧气,氧化层长度70-150mm,饱和温度、气化剂、蒸汽压力、气化效率是指煤气炉,煤气压力测量点在煤气炉煤气出口),确定了开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力减少与氧化层上升的关系;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,氧化层上升,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升的距离,氧化层循环位置容易测量,氧化层位置难测量;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,氧化层下降10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层下降距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层下降距离大,与气化剂混合角度有关,气化剂混合角度不同,气化剂混合后,蒸汽压力降幅不同,氧化层下降距离不同,与气化剂混合器长度有关,气化剂混合器长度不同,气化剂混合后,蒸汽压力降幅不同,氧化层下降距离不同,确定了关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力增加与氧化层下降的关系;关小煤气阀,煤气压力增加,饱和温度降低,氧化层下降,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降的距离,氧化层循环位置容易测量,氧化层位置难测量;煤气炉增加空气流量相等,窑炉运行参数相同,窑炉升温少,是煤气炉氧化层循环位置低,窑炉开大煤气阀,减少煤气压力小于或等于20Pa,氧化层循环位置升高小于或等于60mm,作用,煤气热值升高,提高气化效率,提高窑炉升温速度,节煤3-6%。调节煤气阀,煤气压力变化,提前于同步对应的氧化层循环中氧化层变化,提前时间是,窑炉煤气压力变化由窑炉传递到煤气炉,确定开大煤气阀,或关小煤气阀,窑炉煤气压力变化,提前于同步对应的氧化层循环需要的煤气压力变化的时间,窑炉开大煤气阀、关小煤气阀,煤气压力变化与氧化层循环同步,作用,稳定氧化层温度,煤气热值稳定,稳定气化效率,快速稳定的调节窑炉温度。开大煤气阀,增加煤气使用量,煤气压力减少小于或等于20Pa,氧化层上升小于或等于60mm,在氧化层循环的第一个环节,氧化层上升60s内,氧化层循环的第一个环节是氧化层上升过程,作用,开大煤气阀,煤气压力减少,氧化层上升与氧化层循环同步,氧化层温度高、波动小,气化效率波动小,窑炉温度稳定升高,节煤2-5%。关小煤气阀,煤气压力增加小于或等于20Pa,氧化层下降小于或等于60mm,还原层下降相等的距离,在氧化层循环的第二环节,单段炉氧化层下降5min后,两段炉氧化层下降10min后,至氧化层循环的第三环节,氧化层下降过程结束,氧化层循环的第二环节是氧化层下降过程中前部,第三环节是氧化层下降过程的后部,作用,还原层温度升高,提高水蒸汽分解率,窑炉温度稳定降低,节煤2-5%。开大煤气阀,减少煤气压力,氧化层上升,一个氧化层循环周期内,氧化层循环的第二环节,单段炉氧化层下降5min后,两段炉氧化层下降10min后,至氧化层循环的第三环节,氧化层下降过程结束,降低饱和温度小于或等于3℃,降低蒸汽压力小于或等于0.03Mp,氧化层下降小于或等于60mm,氧化层循环位置不变或降低,蒸汽产量增加,三个氧化层循环周期内,饱和温度和蒸汽压力稳定,作用,气化效率波动小。关小煤气阀,增加煤气压力,氧化层下降,一个氧化层循环周期内,氧化层循环的第一个环节,氧化层上升60s内,升高饱和温度小于或等于3℃,升高蒸汽压力小于或等于0.03Mp,氧化层上升小于或等于60mm,氧化层循环位置不变或升高,蒸汽产量减少,三个氧化层循环周期内,饱和温度和蒸汽压力稳定,作用,气化效率波动小。调节各烧嘴之间流量,在氧化层循环第一环节,氧化层上升过程,先开大煤气阀,后关小煤气阀,或同时开关不同煤气阀,结束煤气压力不变,作用,氧化层温度高、波动小,煤气热值高、波动小,气化效率波动小,窑炉温度高、波动小。清理烧嘴内灰尘,在氧化层循环第一环节,氧化层上升过程,先开大煤气阀,后关小煤气阀,结束煤气压力不变,作用,氧化层温度高、波动小,煤气热值高、波动小,气化效率波动小,窑炉温度高、波动小。开大煤气阀,煤气压力减少35-70Pa,氧化层上升70-280mm,等于氧化层长度,或大于氧化层长度130mm之内,1-4min;煤气炉降低饱和温度1.5-5℃,降低蒸汽压力175-630KPa,氧化层下降70-280mm,等于氧化层长度,或大于氧化层长度130mm之内;氧化层上升距离基本等于氧化层下降距离,制造一次氧化层循环,大幅度增加煤气使用量。窑炉两侧安装指示灯和仪表,指示灯亮显示除渣,仪表显示煤气炉出口煤气温度,确定关小煤气阀、开大煤气阀,和停止调节煤气阀,对应的煤气炉出口煤气温度。专利技术效果:确定了煤气压力变化与氧化层的关系,确定开关煤气阀时间,气化效率高,或波动小,快速的升降或稳定窑炉温度,节煤3-6%。具体实施方式本专利技术所述的煤气在窑炉上的使用方法,包括下述步骤:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,文式管混合气化剂,蒸汽压力降幅最大,氧化层上升距离最小,煤气产量最低,气化剂空气和蒸汽同方向进入混合,蒸汽压力降幅最小,氧化层上升距离最大,煤气产量最高,气化剂混合器长,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,煤气产量低,气化剂混合器短,气化剂混合后,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,煤气产量高,同一种气化剂混合方式,基本气化剂空气流量不同,蒸汽压力降幅不同,氧化层上升距离不同,确定了开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力减少与氧化层上升的关系;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升的距离,气化效率降低,煤气热值降低;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,煤气炉氧化层下降10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层下降距离小本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种煤气在窑炉上的使用方法,其特征是,包括:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10‑30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,与气化剂混合器有关;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,氧化层下降10‑30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层下降距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层下降距离大,与气化剂混合器有关;关小煤气阀,煤气压力增加,饱和温度降低,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降的距离;煤气炉增加空气流量相等,窑炉运行参数相同,窑炉升温少,是煤气炉氧化层循环位置低,开大煤气阀,减少煤气压力小于或等于20Pa。

【技术特征摘要】
1.一种煤气在窑炉上的使用方法,其特征是,包括:开大煤气阀,或煤气炉加煤,煤气压力每减少10Pa,氧化层上升10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层上升距离小,蒸汽压力大,氧化层上升距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层上升距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层上升距离大,与气化剂混合器有关;开大煤气阀,煤气压力减少,饱和温度升高,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离;关小煤气阀,或停煤气炉加煤,煤气压力每增加10Pa,氧化层下降10-30mm,其一,气化剂混合前,蒸汽压力小,氧化层下降距离小,蒸汽压力大,氧化层下降距离大,其二,气化剂混合后,蒸汽压力降幅大,氧化层下降距离小,蒸汽压力降幅小,氧化层下降距离大,与气化剂混合器有关;关小煤气阀,煤气压力增加,饱和温度降低,然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定,氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降的距离;煤气炉增加空气流量相等,窑炉运行参数相同,窑炉升温少,是煤气炉氧化层循环位置低,开大煤气阀,减少煤气压力小于或等于20Pa。2.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法,其特征在于:调节煤气阀,煤气压力变化,提前于同步对应的氧化层循环中氧化层变化,提前时间是,窑炉煤气压力变化由窑炉传递到煤气炉。3.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法,其特征在于:开大煤气阀,增加煤气使用量,煤气压力减少小于或等于20Pa,在氧化层循环的第一个环节,氧化层上升60s内,氧化层循环的第一个环节是氧化层上升过程。4.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法,其特征在于:关小煤气阀,煤气压力增加小于或等于20Pa,在氧化层循环的第二环节,单段炉氧化层下降...

【专利技术属性】
技术研发人员:王万利
申请(专利权)人:王万利
类型:发明
国别省市:山东,37

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