一种煤气在窑炉上的使用方法技术

煤气在窑炉上的使用方法，涉及煤气的使用方法，开大煤气阀，煤气压力减少，氧化层上升；关小煤气阀，煤气压力增加，氧化层下降；确定煤气炉氧化层循环位置低，开大煤气阀，减少煤气压力，或提高饱和温度。氧化层下降过程，关小煤气阀，减少煤气使用量。调节饱和温度与煤气压力，制造氧化层循环，调节煤气使用量。氧化层上下循环的第一环节，氧化层上升过程，调节各烧嘴之间流量，或清理烧嘴内灰尘。调节煤气阀，提前于对应的煤气压力变化。窑炉两侧安装除渣显示灯。本发明专利技术的优点在于，煤气炉气化效率高，或波动小，快速升降或稳定窑炉温度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及煤气的使用方法。
技术介绍
现有技术，没有开关窑炉煤气阀，煤气压力变化与氧化层的关系。一次改变煤气压力不大于20Pa，窑炉温度变化速度慢。开关窑炉煤气阀，时间不确定，降低窑炉温度，降低气化效率。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术的目的是提供一种煤气的使用方法。为了实现上述目的，本专利技术采取下述技术方案，包括：开大煤气阀，煤气压力每减少10Pa，氧化层上升15-28mm(本专利技术没有特别说明，氧化层指煤气炉正在发生氧化层化学反应的燃料层，消耗大部分氧气，氧化层长度60-120mm，煤气压力测量点在煤气炉煤气出口)；关小煤气阀，煤气压力每增加10Pa，氧化层下降15-28mm；煤气炉增加空气流量，窑炉运行参数正常，窑炉升温效果差，是煤气炉氧化层循环位置低，煤气热值低，氧化层上下循环的第一个环节，氧化层上升60s内，开大煤气阀，减少煤气压力10-20Pa，氧化层上升20-50mm，或提高煤气炉饱和温度0.5-3℃，氧化层上升20-50mm，作用，升高氧化层循环位置至适当，或缩短与适当的氧化层循环位置的距离，(适当的氧化层循环位置，指气化效率最高对应的氧化层循环位置)，提高气化效率，提高窑炉升温速度。氧化层上下循环的第二环节，单段炉氧化层下降6min后，两段炉氧化层下降10min后，包括氧化层上下循环的第三环节，第三环节是氧化层下降过程的后部，降低饱和温度0.5-3℃，氧化层下降20-50mm，还原层下降20-50mm，温度升高，提高水蒸汽分解率，2min之内；开大煤气阀，煤气压力减少10-20Pa，氧化层上升20-50mm，还原层上升20-50mm，温度降低，降低水蒸汽分解率；氧化层上升距离基本等于氧化层下降距离，作用，小幅度增加煤气使用量，增加水蒸汽分解量，减少或消除适当的氧化层循环位置上升，气化效率稳定，窑炉温度稳定变化氧化层上下循环的第二环节，单段炉氧化层下降6min后，两段炉氧化层下降10min后，包括氧化层上下循环的第三环节，氧化层下降过程的后部，关小煤气阀，煤气压力增加10-20Pa，氧化层下降20-50mm，还原层下降20-50mm，温度升高，提高水蒸汽分解率；下一个氧化层循环周期，氧化层上下循环的第一环节，氧化层上升60s内，提高饱和温度0.5-3℃，氧化层上升20-50mm，还原层上升20-50mm，温度降低，降低水蒸汽分解率；氧化层下降距离基本等于氧化层上升距离，作用，小幅度减少煤气使用量，增加水蒸汽分解量，减少或消除适当的氧化层循环位置下降，气化效率稳定，窑炉温度稳定变化。开大煤气阀，煤气压力减少30-60Pa，氧化层上升60-160mm，小于、等于氧化层长度，或大于氧化层长度60mm之内，还原层上升距离等于氧化层上升距离，1-4min，氧化层温度升至950-1250℃；降低饱和温度2-8℃，氧化层下降60-160mm，小于、等于氧化层长度，或大于氧化层长度60mm之内，还原层下降距离等于氧化层下降距离，开始还原层温度950-1250℃，提高水蒸汽分解率，单段炉9-11min，两段炉13-16min，饱和温度升高1-8℃；减少和消除蒸汽压力增长，单段炉2-5min，两段炉4-10min；氧化层上升距离等于氧化层下降距离，或氧化层上升距离小于氧化层下降距离30mm之内，作用，一次大幅度增加煤气使用量，增加水蒸汽分解量，减少蒸汽压力增长改变氧化层位置，窑炉升温多。提高饱和温度2-8℃，氧化层上升60-160mm，小于、等于氧化层长度，或大于氧化层长度60mm之内，还原层上升60-160mm，小于、等于氧化层长度，或大于氧化层长度60mm之内，还原层上升距离等于氧化层上升距离，1-4min，氧化层温度升至950-1250℃；关小煤气阀，煤气压力增加30-60Pa，氧化层下降60-160mm，小于、等于氧化层长度，或大于氧化层长度60mm之内，还原层下降距离等于氧化层下降距离，开始还原层温度950-1250℃，提高水蒸汽分解率，单段炉9-11min，两段炉13-16min，饱和温度降低1-8℃；单段炉2-5min，两段炉4-10min，水套注软化水；氧化层上升距离等于氧化层下降距离，或氧化层上升距离大于氧化层下降距离30mm之内，作用，一次大幅度减少煤气使用量，增加水蒸汽分解量，窑炉降温多。调节煤气阀，主管路煤气压力变化，提前于对应的煤气压力变化，时间是，主管路煤气压力变化由窑炉传递到煤气炉，确定开大煤气阀，或关小煤气阀，主管路煤气压力变化，提前于对应的煤气压力变化的时间，作用，开大煤气阀、关小煤气阀，煤气压力变化与相应的氧化层变化同步，稳定氧化层温度，煤气热值稳定，稳定气化效率，快速稳定的调节窑炉温度。氧化层上下循环的第一个环节，氧化层上升过程，调节各烧嘴之间流量，或清理烧嘴内灰尘；先开大煤气阀，后关小煤气阀，结束主管路煤气压力不变，煤气压力不变，作用，氧化层温度高、稳定，煤气热值高、稳定，窑炉温度稳定。窑炉两侧安装指示灯和仪表，指示灯亮显示除渣，仪表显示单段式煤气炉出口煤气温度，确定关小煤气阀、开大煤气阀，和停止调节煤气阀，对应的煤气炉出口煤气温度，作用，关小煤气阀、开大煤气阀，煤气压力变化，在氧化层上下循环的第一个环节，氧化层上升过程。专利技术效果：开关窑炉煤气阀，煤气炉气化效率高，或波动小，快速的升降或稳定窑炉温度。具体实施方式本专利技术所述的煤气在窑炉上的使用方法，包括下述步骤：开大煤气阀，煤气压力每减少10Pa，氧化层上升15-28mm；关小煤气阀，煤气压力每增加10Pa，氧化层下降15-28mm；煤气炉增加空气流量，窑炉运行参数正常，窑炉升温效果差距大，煤气炉氧化层循环位置低于适当位置的距离大，一次升高氧化层循环位置，不能升至适当的氧化层循环位置，需要2-3次，氧化层上下循环的第一个环节，氧化层开始上升同时开大煤气阀，减少煤气压力10-20Pa，氧化层上升20-50mm，或提高饱和温度0.5-3℃，饱和温度高，增量小，氧化层上升20-50mm，至氧化层循环位置适当，提高气化效率，提高窑炉升温速度，窑炉需要开大煤气阀(包括单个烧嘴)，增加煤气使用量，开大煤气阀，减少煤气压力，升高氧化层循环位置，否则，如果窑炉不需要开大煤气阀，增加煤气使用量，提高饱和温度，升高氧化层循环位置，提高饱和温度，包括升高蒸汽压力。氧化层上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种煤气在窑炉上的使用方法，其特征是，包括：开大煤气阀，煤气压力每减少10Pa，氧化层上升15‑28mm；关小煤气阀，煤气压力每增加10Pa，氧化层下降15‑28mm；煤气炉增加空气流量，窑炉运行参数正常，窑炉升温效果差，是煤气炉氧化层循环位置低，氧化层上下循环的第一个环节，氧化层上升60s内，开大煤气阀，减少煤气压力10‑20Pa，或提高煤气炉饱和温度0.5‑3℃，氧化层上升20‑50mm。

【技术特征摘要】
2015.07.08 CN 20151039539161.一种煤气在窑炉上的使用方法，其特征是，包括：
开大煤气阀，煤气压力每减少10Pa，氧化层上升15-28mm；
关小煤气阀，煤气压力每增加10Pa，氧化层下降15-28mm；
煤气炉增加空气流量，窑炉运行参数正常，窑炉升温效果差，是
煤气炉氧化层循环位置低，氧化层上下循环的第一个环节，氧化层上
升60s内，开大煤气阀，减少煤气压力10-20Pa，或提高煤气炉饱和
温度0.5-3℃，氧化层上升20-50mm。
2.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：
氧化层上下循环的第二环节，单段炉氧化层下降6min后，两段炉氧
化层下降10min后，包括氧化层上下循环的第三环节，氧化层下降过
程的后部，降低饱和温度0.5-3℃，氧化层下降20-50mm，2min之内；
开大煤气阀，煤气压力减少10-20Pa；氧化层下降距离基本等于氧化
层上升距离。
3.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：
氧化层上下循环的第二环节，单段炉氧化层下降6min后，两段炉氧
化层下降10min后，包括氧化层上下循环的第三环节，氧化层下降过
程的后部，关小煤气阀，煤气压力增加10-20Pa；下一个氧化层循环
周期，氧化层上下循环的第一环节，氧化层上升60s内，提高饱和温
度0.5-3℃，氧化层上升20-50mm；氧化层下降距离基本等于氧化层
上升距离。
4.如权利要求1所述的煤气在窑炉上的使用方法，其特征在于：
开大煤气阀，煤气压力减少30-60Pa，氧化层上升60-160mm，小于、...

【专利技术属性】
技术研发人员：王万利，
申请(专利权)人：王万利，
类型：发明
国别省市：山东;37