反射型阵列基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置。反射型阵列基板包括衬底基板，设置在衬底基板正面的阵列结构层，以及光反射层，所述光反射层设置在衬底基板背离所述阵列结构层的背面。本发明专利技术实施例通过将光反射层设置在衬底基板的背面，在形成阵列结构层工艺后形成光反射层，相对于利用像素电极作为光反射层的现有技术，避免了在过厚的平坦化层上进行过孔工艺，相对于将光反射层设置在阵列结构层下方的现有技术，避免了阵列结构层工艺的低温要求。本发明专利技术实施例降低了反射型LCD制备工艺的难度，且无需对现有制备工艺进行较大改动。

【技术实现步骤摘要】
反射型阵列基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)按照采光方式可以分为透射型、反射型和半反半透型。其中，反射型LCD是利用环境光(如太阳光)的反射进行显示，相比于有背光源的透射型LCD，反射型LCD没有背光源，因此具有对比度高、功耗低、机身薄以及重量轻等优点，且采用自然光反射显示，有利于视觉保护。因此，反射型LCD被越来越多地应用于诸如手机、笔记本电脑、数码相机、个人数字助理等便携式电子终端。现有反射型LCD的主体结构包括对盒的阵列(ThinFilmTransistor，TFT)基板和彩膜(ColorFilter，CF)基板，液晶(LiquidCrystal，LC)填充在阵列基板和彩膜基板之间，阵列基板上设置对外界入射的光线进行反射的光反射结构。目前，现有技术一种光反射结构是利用像素电极作为光反射层，考虑到光反射层的平坦性对反射率的影响至关重要，因此需要在制备光反射层之前进行平坦化处理，但过厚的平坦化层不仅对过孔工艺造成较大难度，而且降低了像素电极本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射型阵列基板，包括衬底基板，设置在衬底基板正面的阵列结构层，以及光反射层，其特征在于，所述光反射层设置在衬底基板背离所述阵列结构层的背面。

【技术特征摘要】
1.一种反射型阵列基板，包括衬底基板，设置在衬底基板正面的阵列结构层，以及光反射层，其特征在于，所述光反射层设置在衬底基板背离所述阵列结构层的背面。2.根据权利要求1所述的反射型阵列基板，其特征在于，所述光反射层包括设置在衬底基板背面的用于形成光反射结构的构形层、设置在所述构形层上的反射层、以及设置在反射层上的保护层。3.根据权利要求2所述的反射型阵列基板，其特征在于，所述反射层包括规则排布的多个反射结构，每个反射结构为凸面体。4.根据权利要求3所述的反射型阵列基板，其特征在于，所述凸面体包括三角形体、梯形体和/或弧形体。5.根据权利要求4所述的反射型阵列基板，其特征在于，所述三角形体、梯形体或弧形体的侧面与衬底基板平面之间的夹角为5度～30度。6.根据权利要求2所述的反射型阵列基板，其特征在于，所述构形层的厚度为5～10μm，所述反射层的厚度为100～1000n...

【专利技术属性】
技术研发人员：董水浪，卢鑫泓，董立文，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11